【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】齿科附着体用组合物
[0001]本专利技术涉及齿科附着体用组合物。更详细而言,本专利技术的齿科附着体用组合物涉及在利用磷酸等进行蚀刻后即便不利用齿科用粘接材等进行前处理,对于未切削珐琅质的粘接性也优异且具有一定以上的机械特性的齿科附着体用组合物。
技术介绍
[0002]作为齿科矫正治疗,以往托架(bracket)方式是主流,但近年来从其外观的不协调感出发,使用被称为齿科矫正用矫治器(以下有时简称为“矫治器(aligner)”)的无色透明牙垫的矫正治疗也逐渐普及。在基于托架的治疗中,通过将具有用于挂住金属丝的形状的托架安装于齿面,并对其挂上金属丝来施加力学载荷(以下有时称为“矫正力”),将齿列向期望的位置诱导。为了将托架安装于齿面,通常使用齿科矫正用粘接材料。另一方面,作为基于矫治器的矫正治疗,安装具有牙垫形状的矫治器,但已知如下方法:此时也在齿面上形成被称为附着体的突起物,对该突起物挂上矫治器,由此施加更适当的力学载荷,更有效地将齿列向期望的位置诱导。作为这些齿科矫正用粘接材料和附着体,通常使用由包含(甲基)丙烯酸酯等聚合性单体、聚合引发剂和填料等的固化性组合物形成的齿科材料,尤其是作为附着体的材料,通常使用齿科用复合树脂。
[0003]在附着体的形成中采用如下方法,其使用被称为牙模的反映出矫正前的齿列位置的牙垫。以下记载使用牙模得到的附着体的一般形成方法。牙模设置有在与齿面相应的位置具有附着体形状的凹陷,首先,向该凹陷中填充齿科用复合树脂。预先利用磷酸等对齿列表面的形成附着体的部分选择性地进行表面处理(蚀刻 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.齿科附着体用组合物,其包含聚合性单体(A)、光聚合引发剂(B)和填料(C),所述聚合性单体(A)包含具有酸性基团的聚合性单体(A
‑
1)和不具有酸性基团的聚合性单体(A
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2),在所述聚合性单体(A)的总量100质量份中,具有酸性基团的聚合性单体(A
‑
1)的含量为1~40质量份,并且在组合物的总量100质量份中,填料(C)的含量为50~90质量份。2.根据权利要求1所述的齿科附着体用组合物,其中,所述不具有酸性基团的聚合性单体(A
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2)含有不具有酸性基团的疏水性聚合性单体(A
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2b)和根据需要的不具有酸性基团的亲水性聚合性单体(A
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2c),不具有酸性基团的亲水性聚合性单体(A
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2c)与不具有酸性基团的疏水性聚合性单体(A
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2b)的质量比为:不具有酸性基团的亲水性聚合性单体(A
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2c)∶不具有酸性基团的疏水性聚合性单体(A
‑
2b)=0∶10~2∶1。3.根据权利要求1或2所述的齿科附着体用组合物,其中,所述齿科附着体用组合物为单组分型。4.根据权利要求1~3中任一项所述的齿科附着体用组合物,其中,具有酸性基团的聚合性单体(A
‑
1)为具有磷酸基的聚合性单体和/或具有羧酸基的聚合性单体。5.根据权利要求1~4中任一项所述的齿科附着体用组合物,其中,具有酸性基团的聚合性单体(A
‑
1)为磷酸二氢10
‑
甲基丙烯酰氧基癸基酯。6.根据权利要求2~5中任一项所述的齿科附着体用组合物,其中,所述不具有酸性基团的亲水性聚合性单体(A
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2c)与不具有酸性基团的疏水性聚合性单体(A
‑
2b)的质量比为:不具有酸性基团的亲水性聚合性单体(A
‑
2c)∶不具有酸性基团的疏水性聚合性单体(A
‑
2b)=0∶10~1∶1。7.根据权利要求2~5中任一项所述的齿科附着体用组合物,其中,所述不具有酸性基团的亲水性聚合性单体(A
‑
2c)与不具有酸性基团的疏水性聚合性单体(A
‑
2b)的质量比为:不具有酸性基团的亲水性聚合性单体(A
‑
2c)∶不具有酸性基团的疏水性聚合性单体(A
‑
2b)=0∶10~1∶2。8.根据权利要求1~7中任一项所述的齿科附着体用组合物,其中,所述填料(C)包含选自平均粒径为1nm以上且小于0.1μm的填料(C
‑
1)与平均粒径为0.1μm以上且1μm以下的填料(C
‑
2)的组合(I)、平均粒径为1nm以上且小于0.1μm的填料(C
‑
1)与平均粒径超过1μm且为10μm以下的填料(C
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3)的组合(II)、平均粒径为1nm以上且小于0.1μm的填料(C
‑
1)与平均粒径为0.1μm以上且1μm以下的填料(C
‑
2)与平均粒径超过1μm且为10μm以下的填料(C
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3)的组合(III)、以及平均粒径为0.1μ...
【专利技术属性】
技术研发人员:松浦亮,野尻大和,
申请(专利权)人:可乐丽则武齿科株式会社,
类型:发明
国别省市:
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