本实用新型专利技术公开了一种明暗场兼容光源及检测装置，明暗场兼容光源，其特征在于，包括发光单元和半透半反单元，半透半反单元的一侧设置有明场光斑工位，半透半反单元的另一侧设置有暗场光斑工位；发光单元发出的光线射入半透半反单元，半透半反单元包括射向明场光斑工位的明场光轴和射向暗场光斑工位的暗场光轴；明场光轴与竖直方向的夹角小于暗场光轴与竖直方向的夹角。通过上述设置，使得发光单元发出的一部分光线能以高角度形成明场光斑，另一部分光线能以低角度形成暗场光斑；由此，本实用新型专利技术的明暗场兼容光源，能够同时发出暗场光斑与明场光斑，并且仅需使用一个发光单元，节省了物料成本，降低了检测装置的成本。降低了检测装置的成本。降低了检测装置的成本。
【技术实现步骤摘要】
一种明暗场兼容光源及检测装置
[0001]本技术涉及光源结构
，尤其涉及一种明暗场兼容光源及检测装置。
技术介绍
[0002]光源广泛应用于机器视觉
中，用于对待测工件进行打光，以突出待测工件的表面特征，便于相机获取待测工件的图像信息；针对不同的检测场景，光源可以分为线扫光源、同轴光源、明场光源、暗场光源等。
[0003]通常，待测工件需要进行检测的表面缺陷特征类型众多；检测装置通常配置有暗场光源和明场光源，其中，暗场光源和明场光源分别在待测工件的表面投射不同的光斑，以便于检测装置进行检测；例如，根据专利文件“CN217655026U”公开的内容可知，其通过反射镜分别反射暗场光源和明场光源，从而在待测工件上形成暗场光斑与明场光斑。显然，其需要同时设置至少两个光源，即该检测装置为了在待测工件上形成暗场光斑与明场光斑，使用了至少两个光源，导致成本较高。
[0004]因此，有必要开发一种新的光源结构，以较低的成本实现兼容明暗场打光的目的。
技术实现思路
[0005]本技术的目的在于提供一种明暗场兼容光源及检测装置，以解决当前的光源结构因为兼顾明暗场打光导致成本较高的问题。
[0006]为达此目的，本技术采用以下技术方案：
[0007]一种明暗场兼容光源，包括发光单元和半透半反单元，所述半透半反单元的一侧设置有明场光斑工位，所述半透半反单元的另一侧设置有暗场光斑工位；
[0008]所述发光单元发出的光线射入所述半透半反单元，所述半透半反单元包括射向所述明场光斑工位的明场光轴和射向所述暗场光斑工位的暗场光轴；
[0009]其中，所述明场光轴与竖直方向的夹角小于所述暗场光轴与竖直方向的夹角。
[0010]可选地，所述发光单元的出光方向与所述明场光轴重合；
[0011]其中，所述发光单元的光线穿过所述半透半反单元延伸至所述明场光斑工位，所述发光单元的光线被所述半透半反单元反射至所述暗场光斑工位。
[0012]可选地，所述发光单元的出光方向与所述暗场光轴重合；
[0013]其中，所述发光单元的光线穿过所述半透半反单元延伸至所述暗场光斑工位，所述发光单元的光线被所述半透半反单元反射至所述明场光斑工位。
[0014]可选地，所述明场光斑工位与所述暗场光斑工位之间设置有第一补充光斑工位；
[0015]其中，于所述暗场光轴上，所述明暗场兼容光源还包括明场分光单元，所述明场分光单元用于反射所述暗场光轴上的光线至所述第一补充光斑工位。
[0016]可选地，所述明场光斑工位与所述暗场光斑工位之间设置有第二补充光斑工位；
[0017]其中，于所述明场光轴上，所述明暗场兼容光源还包括暗场分光单元，所述暗场分光单元用于反射所述明场光轴上的光线至所述第二补充光斑工位。
[0018]可选地，所述半透半反单元为分光棱镜。
[0019]可选地，所述半透半反单元靠近所述明场光轴的一侧，及所述半透半反单元靠近所述暗场光轴的一侧，均设置有聚光棒。
[0020]一种检测装置，包括如上所述的明暗场兼容光源，所述明场光斑工位的上方设置有第一相机，所述暗场光斑工位的上方设置有第二相机。
[0021]可选地，还包括传送组件，所述传送组件用于沿自所述明场光斑工位至所述暗场光斑工位的方向输送待测工件。
[0022]与现有技术相比，本技术具有以下有益效果：
[0023]本技术提供的明暗场兼容光源及检测装置，其通过发光单元及半透半反单元的设置，同时通过令明场光轴与竖直方向的夹角小于暗场光轴与竖直方向的夹角，使得发光单元发出的一部分光线能以高角度的形式，经明场光轴抵达明场光斑工位，形成明场光斑；使得发光单元发出的另一部分光线能以低角度的形式，经暗场光轴抵达暗场光斑工位，形成暗场光斑；由此，本技术的明暗场兼容光源，能够同时发出暗场光斑与明场光斑，并且仅需使用一个发光单元，节省了物料成本，进而降低了检测装置的整体成本。
附图说明
[0024]为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。
[0025]本说明书附图所绘示的结构、比例、大小等，均仅用以配合说明书所揭示的内容，以供熟悉此技术的人士了解与阅读，并非用以限定本技术可实施的限定条件，故不具技术上的实质意义，任何结构的修饰、比例关系的改变或大小的调整，在不影响本技术所能产生的功效及所能达成的目的下，均应仍落在本技术所揭示的
技术实现思路
得能涵盖的范围内。
[0026]图1为本技术实施例提供的明暗场兼容光源的整体结构示意图；
[0027]图2为本技术实施例提供的明暗场兼容光源的第一结构示意图；
[0028]图3为本技术实施例提供的明暗场兼容光源的第二结构示意图。
[0029]图示说明：10、发光单元；20、半透半反单元；21、明场光轴；22、暗场光轴；30、明场光斑工位；40、暗场光斑工位；50、聚光棒；61、第一相机；62、第二相机；70、待测工件。
具体实施方式
[0030]为使得本技术的技术目的、特征、优点能够更加的明显和易懂，下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，下面所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而非全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本技术保护的范围。
[0031]在本技术的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术
和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。需要说明的是，当一个组件被认为是“连接”另一个组件，它可以是直接连接到另一个组件或者可能同时存在居中设置的组件。
[0032]下面结合附图并通过具体实施方式来进一步说明本技术的技术方案。
[0033]请参考图1至图3，图1为本技术实施例提供的明暗场兼容光源的整体结构示意图，图2为本技术实施例提供的明暗场兼容光源的第一结构示意图，图3为本技术实施例提供的明暗场兼容光源的第二结构示意图。
[0034]实施例一
[0035]本实施例提供的明暗场兼容光源，应用于检测装置中，用于对待测工件70进行打光，具体地，能同时向待测工件70照射明场光斑暗场光斑；其中，通过对明暗场兼容光源的结构进行改进，使其能够减少内部光源的数量，进而降低物料成本。
[0036]如图1至图3所示，本实施例的明本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种明暗场兼容光源，其特征在于，包括发光单元(10)和半透半反单元(20)，所述半透半反单元(20)的一侧设置有明场光斑工位(30)，所述半透半反单元(20)的另一侧设置有暗场光斑工位(40)；所述发光单元(10)发出的光线射入所述半透半反单元(20)，所述半透半反单元(20)包括射向所述明场光斑工位(30)的明场光轴(21)和射向所述暗场光斑工位(40)的暗场光轴(22)；其中，所述明场光轴(21)与竖直方向的夹角小于所述暗场光轴(22)与竖直方向的夹角。2.根据权利要求1所述的一种明暗场兼容光源，其特征在于，所述发光单元(10)的出光方向与所述明场光轴(21)重合；其中，所述发光单元(10)的光线穿过所述半透半反单元(20)延伸至所述明场光斑工位(30)，所述发光单元(10)的光线被所述半透半反单元(20)反射至所述暗场光斑工位(40)。3.根据权利要求1所述的一种明暗场兼容光源，其特征在于，所述发光单元(10)的出光方向与所述暗场光轴(22)重合；其中，所述发光单元(10)的光线穿过所述半透半反单元(20)延伸至所述暗场光斑工位(40)，所述发光单元(10)的光线被所述半透半反单元(20)反射至所述明场光斑工位(30)。4.根据权利要求1所述的一种明暗场兼容光源，其特征在于，所述明场光斑工位(30)与所述暗场光斑工...
【专利技术属性】
技术研发人员：周杰，
申请(专利权)人：广东奥普特科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
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