本发明专利技术涉及一种下模头，用于对基材的表面涂布浆料，包括模头主体和支撑组件，模头主体设有涂布唇口。进一步的，支撑组件包括绕一轴线转动连接于模头主体的支撑辊，支撑辊与涂布唇口沿基材的跑膜方向间隔排列，且支撑辊的顶端部的设置高度高于涂布唇口的设置高度。本发明专利技术的下模头既能保证基材涂布的平稳性，又大大降低了对基材的磨损。降低了对基材的磨损。降低了对基材的磨损。
【技术实现步骤摘要】
下模头、涂布模头机构和双面涂布装置
[0001]本专利技术涉及涂布设备
，特别是涉及一种下模头、涂布模头机构和双面涂布装置。
技术介绍
[0002]涂布工艺是一种将一层或者多层液体涂覆在薄膜类基材上的工艺，然后涂覆的液体涂层经过烘箱干燥或者固化方式使之形成一层具有特殊功能的膜层。以锂离子电池极片的涂布工艺为例，需要将电极浆料均匀的涂布于极片的上下两面。因此，涂布用的涂布头对于锂离子电池极片的双面涂布工艺至关重要，涂布头分为接触式涂布头和非接触式涂布头。
[0003]在一些锂离子电池极片的双面涂布工艺中，采用非接触式涂布头进行涂布，然而当一面涂布后未烘干，导致另一面涂布时无法对极片基材进行支撑，在烘箱及外界风场等因素的干扰下，极片基材容易发生抖动，难以保证极片基材涂布时的平稳性，进而产生涂布不均匀，面密度不一致等缺陷。
[0004]在一些锂离子电池极片的双面涂布工艺中，极片基材的一侧采用接触式涂布头进行涂布，然而在涂布过程中，接触式涂布头的一侧始终与极片基材接触，且随着极片基材的跑膜，涂布头与极片基材之间始终处于滑动状态，导致摩擦力较大，会严重磨损极片基材的导电层。
技术实现思路
[0005]基于此，有必要针对双面涂布工艺中难以兼具基材涂布的平稳性和降低对基材的磨损的问题，提供一种下模头、涂布模头机构和双面涂布装置。
[0006]一方面，本申请提供一种下模头，包括模头主体和支撑组件，模头主体设有涂布唇口。进一步的，支撑组件包括绕一轴线转动连接于模头主体的支撑辊，支撑辊与涂布唇口沿基材的跑膜方向间隔排列，且支撑辊的顶端部的设置高度高于涂布唇口的设置高度。
[0007]在本方案中，沿基材的跑膜方向，支撑辊在涂布唇口前对基材形成支撑力，避免基材在涂布过程中发生抖动，且支撑辊与基材之间为滚动摩擦，摩擦力较小，既保证了涂布的平稳性，又降低了对基材表面的磨损。
[0008]在其中一个实施例中，支撑组件还包括一对支撑件，支撑件与模头主体连接，且沿支撑辊的延伸方向，一对支撑件分别凸出于模头主体的相对两侧设置，支撑辊的两端分别绕自身轴线转动连接于支撑件。
[0009]在其中一个实施例中，支撑组件还包括气浮块，气浮块位于支撑辊和模头主体之间，气浮块朝向支撑辊的一侧设有凹槽，支撑辊与凹槽的槽壁间隙配合。
[0010]在其中一个实施例中，气浮块与模头主体共同限定出气室结构，且气浮块设有与气室结构相通的进气口，进气口用于对气室结构充气；气浮块被构造为多孔结构。
[0011]另一方面，本申请提供一种涂布模头机构，包括下模头和上模头。其中，下模头的
支撑辊用于抵接基材的底部。进一步的，上模头与下模头相对设置，并与下模头之间共同限定出供基材穿过的空间。本方案的涂布模头机构在进行双面涂布的同时，既保证了基材涂布的平稳性，又大大降低了下模头对基材表面的磨损。
[0012]另一方面，本申请提供一种双面涂布装置，包括涂布模头机构、输送机构和张紧展平机构。进一步的，输送机构被配置为带动基材由涂布模头机构的输入端向输出端移动。更进一步的，张紧展平机构包括全幅展平辊，全幅展平辊位于涂布模头机构的输入端。本方案的双面涂布装置既解决了双面涂布工艺中涂布稳定性差、涂布不均的问题，又避免对基材产生严重磨损。
[0013]在其中一个实施例中，全幅展平辊与下模头相邻设置，且全幅展平辊的顶端部与下模头的顶端部相互齐平。
[0014]在其中一个实施例中，张紧展平机构还包括至少一对夹持组件，每对夹持组件分别夹紧于基材沿宽度方向的两侧，夹持组件用于提供沿基材宽度方向的牵引力。
[0015]在其中一个实施例中，至少一对夹持组件位于涂布模头机构的输出端，并与涂布模头机构相邻设置。
[0016]在其中一个实施例中，双面涂布装置还包括烘箱，烘箱位于涂布模头机构的输出端，沿基材的跑膜方向，烘箱的两侧各设置有至少一对夹持组件。
附图说明
[0017]图1为本申请实施例中提供的下模头的结构示意图；
[0018]图2为本申请实施例中提供的下模头的侧面剖视图；
[0019]图3为本申请实施例中提供的下模头的局部放大图；
[0020]图4为本申请实施例中提供的涂布模头机构的结构示意图；
[0021]图5为本申请实施例中提供的涂布模头机构的局部放大图；
[0022]图6为本申请另一实施例中提供的涂布模头机构的结构示意图；
[0023]图7为本申请实施例中提供的双面涂布装置的布局图；
[0024]图8为本申请实施例中提供的双面涂布装置的局部结构示意图。
[0025]附图标号：1
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涂布模头机构；10
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下模头；11
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模头主体；111
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涂布唇口；12
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支撑组件；121
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支撑辊；122
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支撑件；123
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气浮块；124
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凹槽；125
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气室结构；126
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进气口；20
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上模头；30
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第一顶升组件；40
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第二顶升组件；
[0026]2‑
输送机构；21
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放卷组件；22
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收卷组件；
[0027]3‑
张紧展平机构；31
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全幅展平辊；32
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夹持组件；
[0028]4‑
烘箱；
[0029]5‑
张紧控制机构；51
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夹入辊组；52
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转向辊；53
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张力调节组件；54
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张力检测组件；
[0030]100
‑
基材。
具体实施方式
[0031]为使本专利技术的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本专利技术的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本专利技术。但是本专利技术能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不
违背本专利技术内涵的情况下做类似改进，因此本专利技术不受下面公开的具体实施例的限制。
[0032]在本专利技术的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制。
[0033]此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种下模头，其特征在于，包括：模头主体(11)，所述模头主体(11)设有涂布唇口(111)；支撑组件(12)，所述支撑组件(12)包括绕一轴线转动连接于所述模头主体(11)的支撑辊(121)，所述支撑辊(121)与所述涂布唇口(111)沿基材(100)的跑膜方向间隔排列，且所述支撑辊(121)的顶端部的设置高度高于所述涂布唇口(111)的设置高度。2.根据权利要求1所述的下模头，其特征在于，所述支撑组件(12)还包括一对支撑件(122)，所述支撑件(122)与所述模头主体(11)连接，且沿所述支撑辊(121)的延伸方向，一对所述支撑件(122)分别凸出于所述模头主体(11)的相对两侧设置，所述支撑辊(121)的两端分别绕自身轴线转动连接于所述支撑件(122)。3.根据权利要求1所述的下模头，其特征在于，所述支撑组件(12)还包括气浮块(123)，所述气浮块(123)位于所述支撑辊(121)和所述模头主体(11)之间，所述气浮块(123)朝向所述支撑辊(121)的一侧设有凹槽(124)，所述支撑辊(121)与所述凹槽(124)的槽壁间隙配合。4.根据权利要求3所述的下模头，其特征在于，所述气浮块(123)与所述模头主体(11)共同限定出气室结构(125)，且所述气浮块(123)设有与所述气室结构(125)相通的进气口(126)，所述进气口(126)用于对所述气室结构(125)充气；所述气浮块(123)被构造为多孔结构。5.一种涂布模头机构，其特征在于，包括：如权利要求1
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【专利技术属性】
技术研发人员：刘宗明，邹海天，徐亚兵，
申请(专利权)人：海目星激光科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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