一种用于制备发光器件的匀胶机制造技术

本申请提供一种用于制备发光器件的匀胶机，涉及自动化设备技术领域。匀胶机包括基座、托盘、基板、盖板、以及驱动件。本申请中通过在匀胶机中设置盖板，所述盖板设有施胶孔，所述基板上的涂胶区暴露于所述施胶孔内，通过盖板将基板压合固定在所述托盘上，从而增加基板在托盘上的牢固性，避免在涂胶过程中基板相对托盘移动；同时，由于基板夹设在托盘与盖板之间，托盘与盖板对基板的两侧进行限位，从而有利于提高基板固定在托盘上的锁紧力，避免现有技术中因基板与托盘之间的吸附产生的锁紧作用力较差而导致基板位置偏移或者基板脱离吸附飞出与侧壁碰撞损毁的问题。出与侧壁碰撞损毁的问题。出与侧壁碰撞损毁的问题。

【技术实现步骤摘要】
一种用于制备发光器件的匀胶机


[0001]本技术涉及自动化设备
，更具体地说，涉及一种用于制备发光器件的匀胶机。

技术介绍

[0002]匀胶机也称为旋转涂覆仪、旋转涂膜仪等，是用于涂覆各类胶液的设备，它能够快速、精准的在基板上形成涂覆层，因此被广泛用于OLED和QLED等发光器件的制备。
[0003]现有的用于制备发光器件的匀胶机的托盘是采用真空吸附的方式固定基板，其工作原理是：将基板放置于匀胶机的托盘上，托盘采用真空吸片的方式吸住基板，托盘带动基板高速旋转，利用离心力使滴在基板上的胶均匀地涂覆在基板上。但由于基板与托盘之间的吸附作用力较差，在高转速工作时，会发生基板位置偏移或者基板脱离吸附后飞出与侧壁碰撞损毁。

技术实现思路

[0004]本申请提供一种用于制备发光器件的匀胶机，旨在解决现有技术中基板与托盘之间的吸附作用力较差，在高转速工作时，会发生基板位置偏移或者基板脱离吸附后飞出与侧壁碰撞损毁的技术问题。
[0005]一方面，本申请提供一种用于制备发光器件的匀胶机，包括，
[0006]基座；
[0007]托盘，所述托盘与所述基座转动连接；
[0008]基板，所述基板设置在所述托盘上，且配置为随所述托盘一起转动，所述基板背离所述托盘的一面设有涂胶区；
[0009]盖板，所述盖板设置于所述基板设有所述涂胶区的一面，所述盖板用于将所述基板固定在所述托盘上，所述盖板设有施胶孔，所述涂胶区暴露于所述施胶孔内；
[0010]驱动件，所述驱动件用于驱动所述托盘相对所述基座转动。
[0011]在本申请一种可能的实现方式中，所述基板还包括非涂胶区，所述涂胶区靠近所述基板的中部，所述非涂胶区环绕设在所述涂胶区的外周；所述盖板与所述托盘连接，且所述盖板朝向所述基板的一面与所述非涂胶区抵接。
[0012]在本申请一种可能的实现方式中，所述盖板朝向所述基板的一面与所述非涂胶区弹性抵接。
[0013]在本申请一种可能的实现方式中，所述施胶孔呈喇叭形，所述施胶孔包括进胶口、出胶口、以及连通所述进胶口和所述出胶口的胶液流道，所述进胶口的面积大于所述出胶口的面积，所述出胶口与所述涂胶区相适配。
[0014]在本申请一种可能的实现方式中，所述胶液流道的内壁为光滑斜面，所述胶液流道的内壁与所述出胶口所在平面的夹角为θ，15
°
≤θ≤20
°
。
[0015]在本申请一种可能的实现方式中，所述胶液流道的内壁为不锈钢表面或玻璃表
面。
[0016]在本申请一种可能的实现方式中，所述盖板与所述托盘螺纹连接；或者，
[0017]所述盖板与所述托盘卡扣连接；或者，
[0018]所述盖板与所述托盘转动连接。
[0019]在本申请一种可能的实现方式中，所述托盘上设有凹槽，所述基板固定在所述凹槽内。
[0020]在本申请一种可能的实现方式中，所述匀胶机还包括传动杆，所述传动杆位于所述托盘背离所述基板的一侧，所述传动杆的一端与所述托盘固定连接，所述传动杆的另一端与所述驱动件驱动连接。
[0021]在本申请一种可能的实现方式中，所述匀胶机还包括胶液枪，所述胶液枪用于向所述施胶孔施加胶液。
[0022]本申请中通过在匀胶机中设置盖板，所述盖板设有施胶孔，所述基板上的涂胶区暴露于所述施胶孔内，通过盖板将基板压合固定在所述托盘上，从而增加基板在托盘上的牢固性，避免在涂胶过程中基板相对托盘移动；同时，由于基板夹设在托盘与盖板之间，托盘与盖板对基板的两侧进行限位，从而有利于提高基板固定在托盘上的锁紧力，避免现有技术中因基板与托盘之间的吸附产生的锁紧作用力较差而导致基板位置偏移或者基板脱离吸附飞出与侧壁碰撞损毁的问题。
附图说明
[0023]为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0024]图1是本申请实施例提供的用于制备发光器件的匀胶机一个实施例的结构示意图；
[0025]图2是本申请实施例中提供的托盘的一个实施例的结构示意图；
[0026]图3是图2中托盘在另一个视角的结构示意图；
[0027]图4是本申请实施例中提供的盖板的一个实施例的结构示意图；
[0028]图5是图4中盖板的仰视图；
[0029]图6是图4中盖板的主视图；
[0030]图7是图6中A
‑
A处的剖面图；
[0031]图8是本申请实施例中提供的基板的一个实施例的结构示意图。
[0032]附图说明：1、基座；11、容置腔11；2、托盘；21、凹槽；3、基板；31、涂胶区；32、非涂胶区；33、电极图案；34、发光点；4、盖板；41、施胶孔；411、进胶口；412、出胶口；413、胶液流道；5、开合铰链；6、传动杆。
具体实施方式
[0033]下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。
基于本技术中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0034]在本技术的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。
[0035]在本申请中，“示例性”一词用来表示“用作例子、例证或说明”。本申请中被描述为“示例性”的任何实施例不一定被解释为比其它实施例更优选或更具优势。为了使本领域任何技术人员能够实现和使用本技术，给出了以下描述。在以下描述中，为了解释的目的而列出了细节。应当明白的是，本领域普通技术人员可以认识到，在不使用这些特定细节的情况下也可以实现本技术。在其它实例中，不会对公知的结构和过程进行详细阐述，以避免不必要的细节使本技术的描述变得晦涩。因此，本技术并非旨在限于所示的实施例，而是与符合本申请所公开的原理和特征的最广范围相一致。
[0036]本申请实施例提供一种用于制备发光器件的匀胶机，用于解决现有技术中基板固定在托盘上的锁紧力较差，在高转速工作时，会发生基板位置偏移或者基板脱离吸附后飞出与侧壁碰撞损毁的问题。以下结合附图分别进行详细说明。
[0037]请参阅图1至图8，本申请中用于制备发光器件的匀胶机包括基座1、托盘2、基板3、盖板4、以及驱动本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于制备发光器件的匀胶机，其特征在于，包括，基座；托盘，所述托盘与所述基座转动连接；基板，所述基板设置在所述托盘上，且配置为随所述托盘一起转动，所述基板背离所述托盘的一面设有涂胶区；盖板，所述盖板设置于所述基板设有所述涂胶区的一面，所述盖板用于将所述基板固定在所述托盘上，所述盖板设有施胶孔，所述涂胶区暴露于所述施胶孔内；驱动件，所述驱动件用于驱动所述托盘相对所述基座转动。2.如权利要求1所述的匀胶机，其特征在于，所述基板还包括非涂胶区，所述涂胶区靠近所述基板的中部，所述非涂胶区环绕设在所述涂胶区的外周；所述盖板与所述托盘连接，且所述盖板朝向所述基板的一面与所述非涂胶区抵接。3.如权利要求2所述的匀胶机，其特征在于，所述盖板朝向所述基板的一面与所述非涂胶区弹性抵接。4.如权利要求2所述的匀胶机，其特征在于，所述施胶孔呈喇叭形，所述施胶孔包括进胶口、出胶口、以及连通所述进胶口和所述出胶口的胶液流道，所述进胶口的面积大于所述出胶口的...

【专利技术属性】
技术研发人员：张成杰，
申请(专利权)人：广东聚华新型显示研究院，
类型：新型
国别省市：