一种用于晶粒分选机的清洗装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术属于晶圆机加工技术领域，公开了一种用于晶粒分选机的清洗装置；其中包括固定组件、伸缩装置和毛刷，所述毛刷安装在所述伸缩装置上，所述晶粒分选机还包括顶针结构，所述顶针结构前端设置有顶针端盖，并设定所述顶针端盖移动的方向为Y轴，所述伸缩装置移动的方向为Z轴，所述晶粒分选机上还安装有移动装置，所述固定组件与所述移动装置连接，所述移动装置则沿X轴方向往复移动，所述毛刷能与所述顶针端盖抵接；解决现有技术下顶针端盖上会残留胶体的问题。会残留胶体的问题。会残留胶体的问题。

【技术实现步骤摘要】
一种用于晶粒分选机的清洗装置


[0001]本技术涉及晶圆机加工
，尤其涉及一种用于晶粒分选机的清洗装置。

技术介绍

[0002]在晶圆分选生产的过程中，晶粒分选机的内部通过顶针端盖进行取晶，但是进行完取晶的操作之后，顶针端盖上容易残留胶体，当通过顶针端盖再次进行取晶的操作时就会影响取晶的效果，造成固晶浮晶等缺陷。

技术实现思路

[0003]本技术的目的在于提供一种用于晶粒分选机的清洗装置，解决现有技术下顶针端盖上会残留胶体的问题。
[0004]为达此目的，本技术采用以下技术方案：本技术提供一种用于晶粒分选机的清洗装置，包括固定组件、伸缩装置和毛刷，所述毛刷安装在所述伸缩装置上，所述晶粒分选机还包括顶针结构，所述顶针结构前端设置有顶针端盖，并设定所述顶针端盖移动的方向为Y轴，所述伸缩装置移动的方向为Z轴，所述晶粒分选机上还安装有移动装置，所述固定组件与所述移动装置连接，所述移动装置则沿X轴方向往复移动，所述X轴、所述Y轴和所述Z轴相互垂直，所述毛刷能与所述顶针端盖抵接。
[0005]作为优选地，所述伸缩装置为气缸本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于晶粒分选机的清洗装置，其特征在于，包括固定组件、伸缩装置和毛刷(1)，所述毛刷(1)安装在所述伸缩装置上，所述晶粒分选机还包括顶针结构，所述顶针结构前端设置有顶针端盖(2)，并设定所述顶针端盖(2)移动的方向为Y轴，所述伸缩装置移动的方向为Z轴，所述晶粒分选机上还安装有移动装置(3)，所述固定组件与所述移动装置(3)连接，所述移动装置(3)则沿X轴方向往复移动，所述X轴、所述Y轴和所述Z轴相互垂直，所述毛刷(1)能与所述顶针端盖(2)抵接。2.根据权利要求1所述的用于晶粒分选机的清洗装置，其特征在于，所述伸缩装置为气缸(4)，所述气缸(4)内部安装有伸缩杆(41)，所述伸缩杆(41)能沿Z轴方向往复移动，所述伸缩杆(41)上端安装有所述毛刷(1)。3.根据权利要求2所述的用于晶粒分选机的清洗装置，其特征在于，所述伸缩杆(41)上端安装有托盘(5)，所述托盘(5)上安装有调节座(6)，所述调节座(6)上设置有第一通孔(61)，所述托盘(5)上形成有第一螺孔，第一螺钉穿过所述第一通孔(61)与所述第一螺孔连接。4.根据权利要求3所述的用于晶粒分选机的清洗装置，其特征在于，所述第一通孔(61)呈长条形，所述第一通孔(61)的长度方向与Y轴平行。...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨少刚，马宇宙，范浩，
申请(专利权)人：深圳市八零联合装备有限公司，
类型：新型
国别省市：