本实用新型专利技术公开了一种气囊抛光的抛光垫磨损观测装置，包括用于对待测工件进行支撑的安装平台，其通过相配合的X轴、Y轴位移机构与基座滑动式连接；设置在安装平台上位的抛光机构，其通过相配合的Z轴位移机构与龙门架滑动式连接；所述龙门架设置在基座上，所述抛光机构通过相配合的夹持组件与Z轴位移机构连接，还包括：设置在基座上并与抛光机构的抛光区域进行反向配合的摄像组件。本实用新型专利技术提供一种气囊抛光的抛光垫磨损观测装置，通过在抛光机构的抛光区域进行反向设置一个摄像组件，以实时获取抛光区域的抛光状态图像，可以提供给操作人员或控制终端以实时参考图像，以便于提供给操作人员进行气压或下压量调节的图像信息。给操作人员进行气压或下压量调节的图像信息。给操作人员进行气压或下压量调节的图像信息。
【技术实现步骤摘要】
一种气囊抛光的抛光垫磨损观测装置
[0001]本技术涉及元件的抛光处理领域。更具体地说，本技术涉及一种用于中小口径光学元件的一种气囊抛光的抛光垫磨损观测装置。
技术介绍
[0002]气囊抛光技术是英国Zeeko公司和伦敦大学光学实验室的D.D.Walker等在2000年左右提出的，气囊抛光材料去除量可控范围为体积去除率0.025～120mm3/min。气囊抛光头为柔性球冠形工具，不仅可以保证抛光头和被抛光工件表面面形的高贴合度，还可通过调节气囊内部压力和抛光头对抛光工件的下压量控制抛光效率和加工质量，是一种极具发展潜力的光学元件抛光方法。
[0003]气囊抛光技术采用具有一定充气压力的球冠形橡胶气囊作为抛光工具，在其表面贴有抛光垫，通常为聚氨酯抛光垫。随抛光作业的进行，抛光垫表面逐渐被磨损，直接导致气囊中心与被抛光工件表面距离增大，进而对气囊抛光的抛光效率和稳定性产生影响，最终影响被加工产品质量和产品加工效率。
[0004]而到目前为止，并没有相关装置可用于气囊抛光接触区接触面积或抛光垫磨损的观测，例如申请号为202022263225.X的非球面光学元件的智能柔性抛光装置，采用气囊抛光，依靠空心气囊的支撑，形成了抛光头的柔性工作面，根据抛光曲面面形和粗糙度要求，可在线通过气压调节进行控制，从而能够进行确定性加工，但整个的抛光过程中，并没有可行的观察装置能实时地给定指标以指导气压或下压量调节，以提高抛光效率和加工质量。
技术实现思路
[0005]本技术的一个目的是解决上述问题和/或缺陷，并提供后面将说明的优点。
[0006]为了实现本技术的这些目的和其它优点，提供了一种气囊抛光的抛光垫磨损观测装置，包括用于对待测工件进行支撑的安装平台，其通过相配合的X轴、Y轴位移机构与基座滑动式连接；设置在安装平台上位的抛光机构，其通过相配合的Z轴位移机构与龙门架滑动式连接；所述龙门架设置在基座上，所述抛光机构通过相配合的夹持组件与Z轴位移机构连接，还包括：设置在基座上并与抛光机构的抛光区域进行反向配合的摄像组件。
[0007]优选的是，所述摄像组件被配置为包括：
[0008]摄像机构；
[0009]用于对摄像机构进行固定的安装件，其在摄像机构摄像头相配合的一侧设置有观察窗；
[0010]用于对摄像机构的空间位置进行支撑的相机支架；
[0011]其中，所述安装件与相机支架之间通过定位机构进行连接。
[0012]优选的是，所述相机支架上设置有可供定位机构在X向上进行位置调整的X向滑槽，所述定位机构上设置有与X向滑槽相配合的滑块，且相机支架一侧设置有与定位机构相配合的伸缩式动力机构。
[0013]优选的是，所述安装平台在摄像组件伸入位置上设置有相配合的通槽，所述安装平台在与抛光区域相配合的位置上设置有透光孔和/或透光部件。
[0014]本技术至少包括以下有益效果：本技术通过在抛光机构的抛光区域进行反向设置一个摄像组件，以实时获取抛光区域的抛光垫磨损状态或抛光区接触状态图像，可以提供给操作人员或控制终端以实时参考图像，以便于提供给操作人员进行气压或下压量调节的图像信息，可一定程度上保证气囊抛光材料去除的稳定性。
[0015]本技术的其它优点、目标和特征将部分通过下面的说明体现，部分还将通过对本技术的研究和实践而为本领域的技术人员所理解。
附图说明
[0016]图1为本技术气囊抛光的抛光垫磨损观测装置的结构示意图；
[0017]图2为本技术气囊抛光的抛光垫磨损观测装置截面示意图；
[0018]图3为本技术中气囊抛光头示意图；
[0019]图4为本技术中摄像机构安装件的结构示意图。
具体实施方式
[0020]下面结合附图对本技术做进一步的详细说明，以令本领域技术人员参照说明书文字能够据以实施。
[0021]应当理解，本文所使用的诸如“具有”、“包含”以及“包括”术语并不配出一个或多个其它元件或其组合的存在或添加。
[0022]需要说明的是，在本技术的描述中，术语指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，并不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
[0023]在本技术的描述中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“设置有”、“套设/接”、“连接”等，应做广义理解，例如“连接”，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接，可以是机械连接，也可以是电连接，可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通，对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。
[0024]此外，在本技术中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触，或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
[0025]本技术的观测装置，其结构上基于龙门架式四轴抛光机床，主要包括本1
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基座；2
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Y向导轨；3
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X向导轨；4
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Z向导轨；5
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龙门架；6
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压力传感器固定板；7
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夹具；8
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压力传感器；9
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透光孔；10
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旋转主轴；11
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安装平台；12
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气囊抛光头；13
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相机支架；14
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Y轴衔接板；
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X轴衔接板；16
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摄像机构；17
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Y向滑槽；18
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Z向导柱；19
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相机支撑板；20
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Y向导柱；21
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Y向滑块；22
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抛光液回收机构；23
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Z向导板；24
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主轴夹具定位孔；25
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DD马达定位孔；26
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X向滑槽Ⅰ；27
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X向滑槽Ⅱ；28
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观察窗；29
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X向滑块；
[0026]实施例1
[0027]一种气囊抛光的抛光垫磨损观测装置，其结构如图1
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3所示，包括用于对待测工件进行支撑的安装平台11，其通过相配合的X本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种气囊抛光的抛光垫磨损观测装置，包括用于对待测工件进行支撑的安装平台，其通过相配合的X轴、Y轴位移机构与基座滑动式连接；设置在安装平台上位的抛光机构，其通过相配合的Z轴位移机构与龙门架滑动式连接；所述龙门架设置在基座上，所述抛光机构通过相配合的夹持组件与Z轴位移机构连接，其特征在于，还包括：设置在基座上并与抛光机构的抛光区域进行反向配合的摄像组件；所述安装平台在摄像组件伸入位置上设置有相配合的通槽，所述安装平台在与抛光区域相配合的位置上设置有透光孔和/或透光部件。2.如权利要求1...
【专利技术属性】
技术研发人员：余家欣，叶嘉豪，倪磊，廖晓波，赖建平，张亚锋，何洪途，
申请(专利权)人：西南科技大学，
类型：新型
国别省市：
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