液晶超表面、液晶超表面的制作方法和激光雷达技术

本发明专利技术涉及一种液晶超表面，包括：相对设置的第一基板和第二基板；多个结构单元，设置于所述第一基板和所述第二基板之间，每个结构单元包括同层且相邻设置的金属层和液晶层；调整单元，用于对多个所述金属层提供不同的电压，以调整对应的液晶层的折射率，以调整多个结构单元的相位梯度，进而调整出射光的出射角度。本发明专利技术还涉及一种液晶超表面的制作方法和激光雷达。激光雷达。激光雷达。

【技术实现步骤摘要】
液晶超表面、液晶超表面的制作方法和激光雷达


[0001]本专利技术涉及超表面
，尤其涉及一种液晶超表面、液晶超表面的制作方法和激光雷达。

技术介绍

[0002]光学相控阵可实现光束的偏转、偏振调节等功能。光学相控阵又分为光波导相控阵、硅基相控阵、液晶相控阵等。光波导相控阵：阵元内层由高折射率材料构成，阵元外层由低折射率材料构成，具有导电性好、损耗小、响应速度快等优点，但光波导相控阵体积大，且多用于光路搭建。硅基相控阵：随着SOI技术的发展，基于硅半导体的光学相控阵具有巨大的发展潜力，目前硅基相控阵的主要缺点是对工艺和加工精度要求高。液晶空间光调制器：多用于波束控制，利用液晶对光的调制，可实现光的连续和动态调控，缺点是器件尺寸较大，比较笨重。

技术实现思路

[0003]为了解决上述技术问题，本专利技术提供一种液晶超表面、液晶超表面的制作方法和激光雷达，解决调光器件尺寸过大的问题。
[0004]为了达到上述目的，本专利技术实施例采用的技术方案是：一种液晶超表面，包括：
[0005]相对设置的第一基板和第二基板；本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种液晶超表面，其特征在于，包括：相对设置的第一基板和第二基板；多个结构单元，设置于所述第一基板和所述第二基板之间，每个结构单元包括同层且相邻设置的金属层和液晶层；调整单元，用于对多个所述金属层提供不同的电压，以调整对应的液晶层的折射率，以调整多个结构单元的相位梯度，进而调整出射光的出射角度。2.根据权利要求1所述的液晶超表面，其特征在于，多个所述结构单元沿第一方向周期性排布，每个所述周期内的多个所述结构单元的相位在2π的范围内沿所述第一方向逐渐增加或减少。3.根据权利要求2所述的液晶超表面，其特征在于，在所述液晶超表面和空气之间对的界面上，多个所述结构单元的相位梯度满足广义斯涅耳定律：其中，θ
i
为光的入射角，θ
t
为光的折射角，n
i
为入射介质的折射率，n
t
为折射介质的折射率，λ为入射光的波长，dx、dφ分别为两种光路在所述液晶超表面和空气之间的界面处的距离及相位差；dφ/dx为在所述第一方向的相位梯度。4.根据权利要求1所述的液晶超表面，其特征在于，所述第一基板和所述第二基板均采用透明材料制成。5.根据权利要求1所述的液晶超表面，其特征在于，所述金属层采用铜制成。6.根据权利要求1所述的液晶超表面，其特征在于，所述金属层和所述液晶层在垂直于所述第一基板的方向上的厚度相同，所述金属层的厚度范围为1.0
‑
10.0um。7.根据权利要求2所述的液晶超表面，其特征在于，所述金属层包括多个沿所述第一方向间隔排列的金属条，所述金属条的延伸方向与所述第一方向相垂直。8.根据权利要求7所述的液...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘跃华，彭依丹，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：