具有定制织构和磁取向的永磁体制造技术

一些变型提供了一种永磁体结构，该永磁体结构包括：区域，该区域具有区域平均磁轴和多个磁畴，其中，磁畴中的每一个具有与区域平均磁轴基本上对准的畴磁轴，并且其中，该多个磁畴的特征在于平均磁畴尺寸。在该区域内存在以平均晶粒尺寸为特征的多个含金属晶粒，并且磁畴中的每一个具有由含金属晶粒的晶体织构决定的畴易轴。该区域具有基于该区域内的畴易轴的平均值的区域平均易轴。区域平均磁轴和区域平均易轴形成区域平均对准角，该区域平均对准角在多个磁畴内具有小于30

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】具有定制织构和磁取向的永磁体
优先权数据
[0001]本专利申请是要求于2020年8月6日提交的第63/061,798号美国专利申请、于2020年8月6日提交的第63/061,800号美国专利申请和于2021年6月26日提交的第17/359,556号美国专利申请的优先权的国际申请，这些美国专利申请各自通过引用并入本文。
专利

[0002]本专利技术总体上涉及具有定制磁性质的永磁体。专利技术背景
[0003]磁体是产生磁场的材料或物体。磁场建立作用在其他磁体或铁磁材料(诸如铁、钢、镍或钴)上的力。永磁体是由已磁化的并建立其自身的持久磁场的材料制成的物体。
[0004]尽管仅铁磁材料和亚铁磁材料是被磁体足够强地吸引而被普遍认为是磁的材料，但所有物质对磁场至少弱地响应。一些铁磁材料是诸如退火铁的软磁材料(“软磁体”)。软磁体可以是已磁化的，但不趋向于保持磁化。另一方面，硬磁材料(“硬磁体”)趋向于保持磁化并且典型地难以退磁。永磁体通常由硬铁磁材料(诸如铝镍钴合金和铁氧体)制成，这些硬铁磁材料在制造期间在强磁场中经受特殊处理以对准内部微晶本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种永磁体结构，所述永磁体结构包括：区域，所述区域具有区域平均磁轴和多个磁畴，其中，所述磁畴中的每一个具有畴磁轴，其中，每个所述畴磁轴与所述区域平均磁轴基本上对准，并且其中，所述多个磁畴的特征在于平均磁畴尺寸；以及在所述区域内的多个含金属晶粒，其中，所述多个含金属晶粒的特征在于平均晶粒尺寸，其中，所述磁畴中的每一个具有由所述含金属晶粒的晶体织构决定的畴易轴；其中，所述区域具有基于所述区域内的所述畴易轴的平均值的区域平均易轴；并且其中，所述区域平均磁轴和所述区域平均易轴形成区域平均对准角θ，所述区域平均对准角在所述多个磁畴内基于对准角变化具有小于30
°
的θ标准偏差。2.如权利要求1所述的永磁体结构，其中，所述含金属晶粒包含选自下组的金属合金，所述组由以下各项组成：NdFeB、FeCoCr、FeAlNiCo、SmCo、Dy2O3、SrRuO3、及其组合。3.如权利要求1所述的永磁体结构，其中，所述θ标准偏差小于20
°
。4.如权利要求1所述的永磁体结构，其中，所述θ标准偏差小于10
°
。5.如权利要求1所述的永磁体结构，其中，所述θ标准偏差小于5
°
。6.如权利要求1所述的永磁体结构，其中，所述区域平均对准角θ是从
‑
10
°
至10
°
。7.如权利要求1所述的永磁体结构，其中，所述区域平均对准角θ是从
‑2°
至2
°
。8.如权利要求1所述的永磁体结构，其中，所述区域平均对准角θ选自0
°
至90
°
。9.如权利要求1所述的永磁体结构，其中，所述区域平均对准角θ是0
°
。10.如权利要求1所述的永磁体结构，其中，所述区域平均对准角θ是90
°
。11.如权利要求1所述的永磁体结构，其中，所述区域平均易轴具有小于25
°
的标准偏差。12.如权利要求1所述的永磁体结构，其中，所述区域平均易轴具有小于2...

【专利技术属性】
技术研发人员：布伦南，
申请(专利权)人：HRL实验室有限责任公司，
类型：发明
国别省市：