层叠体制造技术

层叠体朝着厚度方向的一面侧依次具备基材层和防污层。防污层包含具有全氟聚醚基的烷氧基硅烷化合物。通过掠入射X射线衍射法中的面内衍射测定而测得的防污层的源自全氟聚醚基在面内方向上的周期排列性的峰的半峰全宽为以上。以上。以上。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】层叠体


[0001]本专利技术涉及层叠体，详细而言，涉及具备防污层的层叠体。

技术介绍

[0002]以往，从防止手垢、指纹等污物附着于薄膜基材的表面、光学薄膜等光学部件的表面的观点出发，已知的是形成防污层。
[0003]作为具备这种防污层的光学薄膜，提出了例如依次具备薄膜基材、防反射层和防污层的防反射薄膜(例如参照专利文献1)。
[0004]现有技术文献
[0005]专利文献
[0006]专利文献1：日本特开2020
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52221号公报

技术实现思路

[0007]专利技术要解决的问题
[0008]另一方面，若拭去附着于防污层的污物，则存在防污层的防污性降低的不良情况。
[0009]本专利技术提供即便在拭去附着于防污层的污物后，也能够抑制防污层的防污性降低的层叠体。
[0010]用于解决问题的方案
[0011]本专利技术[1]是一种层叠体，其朝着厚度方向的一面侧依次具备基材层和防污层，前述防污层包含具有全氟聚醚基的烷氧基硅烷化合物，通过掠入射X射线衍本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种层叠体，其朝着厚度方向的一面侧依次具备基材层和防污层，所述防污层包含具有全氟聚醚基的烷氧基硅烷化合物，所述层叠体的通过掠入射X射线衍射法中的面内衍射测定而测得的所述防污层的源自全氟聚醚基在面内方向上的周期排列性的峰的半峰全宽为以上。2.根据权利要求1所述的层叠体，其中，所述防污层的厚度方向的另一面具备底漆层。3.根据权利要求2所述的层叠体，其中，所述底漆层为包含二氧化硅的层。4.根据权利要求3所述的层叠体，其中，所述防污层通过具有全氟聚...

【专利技术属性】
技术研发人员：宫本幸大，梨木智刚，
申请(专利权)人：日东电工株式会社，
类型：发明
国别省市：