相分离器以及包括该相分离器的组件和方法技术

本公开的主题涉及一种包括相分离器和气体清除阀的气体清除组件，用于接收气液混合物并从其中间歇地释放气体；所述相分离器包括用于容纳所述气液混合物并促进气液混合物的气体向其上部冒泡的分离器罐；以及主端口，用于从设置在其下方的外部气液混合物源的顶部接收气液混合物；所述气体清除阀包括用于分别容纳液体和气体的阀室，所述阀室具有与所述分离器罐的上部流体连通的上部区域和与分离器罐的下部流体连通的下部区域；排气孔，形成在所述上部区域处；以及密封装置，被构造成间歇地密封和打开所述排气孔，以能够间歇地通过排气孔释放气体。孔释放气体。孔释放气体。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】相分离器以及包括该相分离器的组件和方法


[0001]本专利技术涉及一种用于从气液混合物中分离气体和液体的相分离器，一种包括该相分离器和气体清除阀的组件，以及一种用于将气体清除阀改装到现有相分离器的方法。

技术介绍

[0002]在饮用水处理工艺中，溶解在原水中的铁和锰通常通过氧化和沉淀来除去。为此目的，将空气从下面吹入含有原水的氧化器中。所供应的空气通过典型地通过与氧化器连接的气体清除阀(a gas
‑
purge valve)，经由氧化器的上部从氧化器中除去。由于水压的降低，吹入氧化器底部的气泡尺寸随着它们在水中上升而增大。由于气体清除阀通常由停留在水表面上的浮子致动，所以其操作可受到增大的气泡的不利影响，因为它们在浮子周围引起一个汹涌的水表面，从而导致浮子不规则地向上和向下跳动。这种跳动可导致大量的水从气体清除阀中泄漏出来，并增加气体清除阀的磨损。
[0003]DE 201610202802U1公开了阀浮子稳定阻挡件，其具有围绕空间容积的壁和紧固部分，通过该紧固部分，稳定阻挡件在曝气和通风阀(an aeration a本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种气体清除组件，包括用于分离气液混合物的相分离器和可操作地连接到所述相分离器的气体清除阀，所述气体清除阀用于接收来自所述相分离器的所述气液混合物的分离的气体，并间歇地释放所述气体；所述相分离器包括：分离器罐，具有上部和下部，用于容纳所述气液混合物并促进气液混合物的气体向所述上部冒泡；以及主端口，形成在所述下部，用于从设置在所述主端口下方的外部气液混合物源的顶部接收所述气液混合物；所述气体清除阀包括：阀室，用于分别容纳从所述分离器罐接收的液体和气体，所述阀室具有与所述分离器罐的所述上部流体连通的上部区域和与所述分离器罐的所述下部流体连通的下部区域；排气孔，形成在所述上部区域处，用于促进从所述上部区域通过所述排气孔释放气体；以及密封装置，配置成间歇地密封和打开所述排气孔，以能够间歇地释放通过所述密封装置的气体。2.根据权利要求1所述的气体清除组件，其中，所述密封装置包括轴向可移动的浮子和密封构件，所述浮子可操作地连接到所述密封构件，所述浮子的运动使得所述密封构件与所述排气孔形成密封接合和脱离密封。3.根据权利要求1和2中任一项所述的气体清除组件，其中，所述密封构件是在所述排放孔的区域中固定在所述上部区域处的可移动阻挡件。4.根据权利要求1至3中任一项所述的气体清除组件，其中，所述相分离器还包括形成在所述下部处的分离器液体端口和形成在所述上部处的分离器气体端口；并且所述气体清除阀还包括形成在所述下部区域处的阀液体端口和形成在所述上部区域处的阀气体端口；并且所述气体清除组件还包括在所述分离器液体端口和所述阀液体端口之间延伸的液体通道以及在所述分离器气体端口和所述阀气体端口之间延伸的气体通道，所述液体通道用于促进所述液体在所述分离器液体端口和所述阀液体端口之间通过，所述气体通道用于促进所述气体在所述分离器气体端口和所述阀气体端口之间通过；其中，所述液体通道和所述气体通道一起在所述分离器罐和所述阀室之间建立连通容器关系。5.根据权利要求4所述的气体清除组件，其中，所述相分离器还包括在所述分离器罐内在所述主端口和所述分离器液体端口之间延伸到所述分离器液体端口的最下端上方的分离阻挡件，所述分离阻挡件用于引导气泡远离所述分离器液体端口，同时使液体能够通过所述分离阻挡件进入。6.根据权利要求5所述的气体清除组件，其中，所述分离阻挡件延伸到所述分离器液体端口的中央流动轴线上方，特别是延伸到所述分离器液体端口的最高端上方。7.根据权利要求5和6中任一项所述的气体清除组件，其中，所述分离阻挡件被设计成能够使液体在所述壁的最高端下方从所述分离器液体端口返回到所述主端口。8.根据权利要求5至7中任一项所述的气体清除组件，其中，所述分离阻挡件包括形成在所述分离阻挡件的最底部处的返回开口，所述返回开口配置成便于被截留的液体返回所
述主端口。9.根据权利要求5至8中任一项所述的气体清除组件，其中，所述分离阻挡件包围所述分离器液体端口和所述主端口中的一个的前面的区域。10.根据权利要求4至9中任一项所述的气体清除组件，其中，所述分离器液体端口和所述阀液体端口位于所述分离器气体端口和所述阀气体端口下方。11.根据权利要求4至10中任一项所述的气体清除组件，其中，所述分离器液体端口位于所述阀液体端口下方。12.根据权利要求4至11中任一项所述的气体清除组件，其中，所述主端口位于所述分离器液体端口下方。13.根据前述权利要求中任一项所述的气体清除组件，其中，所述主端口形成在所述分离器罐的底壁中。14.根据权利要求4至13中任一项所述的气体清除组件，其中，所述分离器液体端口形成在所述分离器罐的侧壁中。15.根据权利要求4至14中任一项所述的气体清除组件，其中，所述阀液体端口形成在所述阀室的底壁中。16.根据权利要求4至15中任一项所述的气体清除组件，其中，所述分离器气体端口形成在所述分离器罐的侧壁中。17.根据权利要求4至16中任一项所述的气体清除组件，其中，所述阀气体端口形成在所述阀室的侧壁中。18.根据前述权利要求中任一项所述的气体清除组件，其中，所述分离器罐是狭长的。19.根据前述权利要求中任一项所述的气体清除组件，其中，所述阀室是狭长的。20.根据权利要求4至19中任一项所述的气体清除组件，其中，所述液体通道和所述气体通道是双向的。21.根据权利要求4至20中任一项所述的气体清除组件，所述气体清除组件还包括防飞溅部，所述防飞溅部设置在所述分离器罐内，通常面向所述分离器气体端口，并与所述分离器气体端口间隔开，以防止液体飞溅进入所述分离器气体端口。22.根据权利要求21所述的气体清除组件，其中，所述防飞溅部具有有效飞溅阻挡面积，所述有效飞溅阻挡面积大于所述分离器气体端口的横截面积。23.根...

【专利技术属性】
技术研发人员：贝恩德，
申请(专利权)人：阿奎蒂亚有限公司，
类型：发明
国别省市：