一种具有稳定气流场的沉积腔制造技术

本发明专利技术涉及一种具有稳定气流场的沉积腔，包括有沉积腔体，沉积腔体中安设有上、下旋转夹盘，对应于上、下旋转夹盘安设有上下间隔的喷灯，上、下旋转夹盘或喷灯与上下移动装置相连，沉积腔体的一侧与进风腔相连通，沉积腔的另一侧与抽风腔相连通，其特征在于所述的抽风腔位于喷灯的前面一侧，抽风腔的前面与沉积腔相贯通，抽风腔的后面联接上下分隔的子抽风腔，每个子抽风腔的出风口处串接风量调节阀，用于对抽出气体流量的调节，所述的子抽风腔的出风口与抽风管道相连通。本发明专利技术有利于气流场的均匀顺畅，减少紊流，使沉积区域气流场趋于稳定，同时通过调节不同沉积区域抽风流量促进温度场的均匀，及时抽走粉尘，从而有效提高OVD工艺的沉积质量。工艺的沉积质量。工艺的沉积质量。

【技术实现步骤摘要】
一种具有稳定气流场的沉积腔


[0001]本专利技术涉及一种具有稳定气流场的沉积腔，为用于外部气相沉积法制备合成石英玻璃圆柱体的配套设备。

技术介绍

[0002]外部气相沉积法(OVD)制作石英玻璃圆柱体是一种重要的、众所周知的方法，可获得高纯合成二氧化硅石英玻璃产品，由于其杰出的材料特性，普遍应用于光纤、光学玻璃以及半导体行业。OVD的工艺流程为沉积喷灯将二氧化硅纳米气流沉积在目标靶棒上，形成多孔二氧化硅粉棒预制体，然后将多孔二氧化硅粉棒预制体在真空或者氦气中烧结成无孔纯二氧化硅石英玻璃圆柱体。
[0003]OVD法沉积机理是热泳，指的是由于温度梯度对颗粒产生的效应，它会造成颗粒从一个高温区移动至低温区，由此可见，温度梯度是影响沉积的主要因素，颗粒温度较高，靶材温度较低，可提高收集率和沉积效率。为了保证沉积二氧化硅粉棒的沉积纯度和均匀性，喷灯的喷射燃烧沉积过程是在具有负压的沉积腔中进行的，沉积腔将整个喷灯组和沉积靶棒封闭在沉积腔中，与外界相对隔离，使沉积区域保持较高的温度，同时通过设置进风腔和抽风腔，将未沉积至靶棒上粉尘及时抽出沉积区域本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种具有稳定气流场的沉积腔，包括有沉积腔体，沉积腔体中安设有上、下旋转夹盘，对应于上、下旋转夹盘安设有上下间隔的喷灯，上、下旋转夹盘或喷灯与上下移动装置相连，沉积腔体的一侧与进风腔相连通，沉积腔的另一侧与抽风腔相连通，其特征在于所述的抽风腔位于喷灯的前面一侧，抽风腔的前面与沉积腔相贯通，抽风腔的后面联接上下分隔的子抽风腔，每个子抽风腔的出风口处串接风量调节阀，用于对抽出气体流量的调节，所述的子抽风腔的出风口与抽风管道相连通。2.按权利要求1所述的具有稳定气流场的沉积腔，其特征在于所述的子抽风腔呈棱台锥筒状，前大后小，前端与抽风腔前面联通，后端通过连接管与抽风管道相连通，所述的风量调节阀设置在连接管上。3.按权利要求1或2所述的具有稳定气流场的沉积腔，其特征在于所述的进风腔位于喷灯背面一侧，进风腔的前面与沉积腔相贯通，进风腔的后面联接上下分隔的子进风腔，每个子进风腔的进风口处设置加热装置，用于对进入气体的加温。4.按权利要求3所述的具有...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨轶，赵亮，胡俊中，余保国，王瑞春，顾立新，周游，代红兵，
申请(专利权)人：长飞光纤光缆股份有限公司，
类型：发明
国别省市：