显示基板及其制备方法、显示面板和显示装置制造方法及图纸

本公开实施例提供一种显示基板及其制备方法、显示面板和显示装置。其中显示基板包括：衬底基板；发光功能层，包括：像素界定层和多个发光器件，像素界定层包括与发光器件一一对应的多个像素容纳孔，发光器件位于对应的像素容纳孔内；半透降反层，位于发光器件远离衬底基板的一侧，半透降反层在衬底基板上的正投影至少覆盖像素容纳孔在衬底基板上的正投影，半透降反层的光透过率为30％～70％。降反层的光透过率为30％～70％。降反层的光透过率为30％～70％。

【技术实现步骤摘要】
显示基板及其制备方法、显示面板和显示装置


[0001]本公开涉及显示
，具体涉及一种显示基板及其制备方法、显示面板和显示装置。

技术介绍

[0002]随着显示技术的发展，OLED显示装置已成为最常用的显示器件，其具有自发光、响应速度快宽视角等诸多优点，因此得到了广泛的应用。在显示基板的实际使用过程中，由于发光器件的第二电极的材料特性，其本身具有较强的反射率，使得部分环境光被第二电极反射，导致显示装置的显示效果不佳，尤其在环境光较弱或暗室环境下，对比度下降，从而造成显示画面的色域降低，显示效果差。

技术实现思路

[0003]本公开实施例提供一种显示基板及其制备方法、显示面板和显示装置。
[0004]第一方面，本公开实施例提供一种显示基板，包括：
[0005]衬底基板；
[0006]发光功能层，包括：像素界定层和多个发光器件，所述像素界定层包括与所述发光器件一一对应的多个像素容纳孔，所述发光器件位于对应的像素容纳孔内；
[0007]半透降反层，位于所述发光器件远离所述衬底基板的一侧，所述半透降反本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种显示基板，其特征在于，包括：衬底基板；发光功能层，包括：像素界定层和多个发光器件，所述像素界定层包括与所述发光器件一一对应的多个像素容纳孔，所述发光器件位于对应的像素容纳孔内；半透降反层，位于所述发光器件远离所述衬底基板的一侧，所述半透降反层在所述衬底基板上的正投影至少覆盖所述像素容纳孔在所述衬底基板上的正投影，所述半透降反层的光透过率为30％～70％。2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板还包括封装层，位于所述发光器件远离所述衬底基板的一侧；所述半透降反层位于所述封装层远离所述衬底基板一侧；或者，所述半透降反层位于所述封装层与所述发光器件之间；或者，所述半透降反层位于所述封装层内部。3.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述半透降反层包括：与所述发光器件一一对应的多个半透降反图形，所述半透降反图形在所述衬底基板上的正投影覆盖对应的所述发光器件，任意相邻的所述半透降反图形之间存在间隔区域。4.根据权利要求3所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板还包括第一遮光图形，所述第一遮光图形与所述半透降反图形一体成型，所述第一遮光图形填充所述间隔区域，所述第一遮光图形的厚度大于所述半透降反图形的厚度。5.根据权利要求4所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板还包括透明支撑图形，所述透明支撑图形位于对应的所述半透降反图形靠近所述衬底基板的一侧，所述透明支撑图形与对应的所述半透降反图形相接触，所述半透降反图形远离所述衬底基板的一侧表面与所述第一遮光图形远离衬底基板一侧表面平齐；或者，半透降反图形靠近衬底基板的一侧表面与第一遮光图形靠近衬底基板一侧表面平齐，所述半透降反图形和所述遮光图远离衬底基板的一侧形成有平坦化层。6.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述半透降反层为面状膜层。7.根据权利...

【专利技术属性】
技术研发人员：王斌，梁翠翠，关新兴，
申请(专利权)人：成都京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：