一种测量系统和测量方法技术方案

本申请提供了一种测量系统和测量方法，应用于安全玻璃的副像偏离测量中，能够消除测量系统中组装误差引起的平板元件间表面的平行度变差所导致的系统副像，从而提升测量的准确性。该系统包括：光源、成像单元和N个平板元件。其中，N个平板元件中的至少一个平板元件放置在光源与待测样品之间的光路上，和/或放置在待测样品与成像单元之间的光路上。N个平板元件中的第一平板元件包括第一表面和第二表面，该第一表面或第二表面的法线与测量系统的光轴的夹角不等于0。N为大于或者等于1的整数。第一平板元件的第一表面或第二表面的法线与系统光轴的夹角不等于0，通过倾斜放置第一平板元件能够将入射光反射，以使入射光不进入成像单元。单元。单元。

【技术实现步骤摘要】
一种测量系统和测量方法


[0001]本申请涉及光学成像
，更具体地，涉及一种测量系统和测量方法。

技术介绍

[0002]在副像偏离测量系统中，需要对待测样品产生的主像和副像的光强进行测量。由于测量光会通过测量系统中的多个光学元件，因此多个光学元件的平行表面之间存在二次反射形成的副像与透射形成的主像。当这些光学元件在组装过程中产生组装误差时，将导致光学元件之间的表面不平行，此时这些非平行的表面之间将产生与主像不重合的副像，可以称为系统副像，即在观察系统中观察到光学系统自身元件的表面之间由于平行度变差带来的系统副像。当该系统副像和待测样品的副像的光强处于同一量级时，将无法对两个副像进行分辨。因此如何消除光学系统中非测量样品的副像，成为亟待解决的问题。

技术实现思路

[0003]本申请提供一种测量系统和测量方法，能够消除测量系统中由于组装误差引起的两个平面元件的表面的平行度误差所产生的副像，从而提升系统测量的准确性。
[0004]第一方面，本申请实施例提供一种测量系统。该测量系统可以应用于副像测量实验或副像测量仿真中，用本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种测量系统，其特征在于，用于对待测样品进行测量，该测量系统包括：光源、成像单元和N个平板元件，所述N个平板元件中的至少一个平板元件放置在所述光源与所述待测样品之间的光路上，和/或，所述N个平板元件中的至少一个平板元件放置在所述待测样品与所述成像单元之间的光路上，所述N个平板元件包括第一平板元件，所述第一平板元件包括第一表面和第二表面，N为大于或者等于1的整数，所述第一平板元件的所述第一表面或所述第二表面的法线与所述测量系统的光轴的夹角不等于0，所述光源，用于生成测量光；所述成像单元，基于第一光束生成第一图像，基于第二个光束生成第二图像，所述第一光束为所述待测样品基于所述光源出射的测量光透射生成的，所述第二光束为所述待测样品基于所述光源出射的所述测量光透射和反射生成的；所述第一平板元件，用于将来自第三表面的出射光从所述第一表面或所述第二表面反射，以使所述来自第三表面的出射光不进入所述成像单元，所述第三表面为与所述第一表面或所述第二表面非平行的表面，所述第三表面的入射光属于所述测量光的一部分。2.根据权利要求1所述的测量系统，其特征在于，所述第一平板元件的所述第一表面或所述第二表面的法线与所述测量系统的光轴的夹角为α，所述反射光与所述光轴的夹角为2α。3.根据权利要求2所述的测量系统，其特...

【专利技术属性】
技术研发人员：李俊峰，
申请(专利权)人：北京杰福科技有限公司，
类型：发明
国别省市：