【技术实现步骤摘要】
一种超宽角度穿透近红外光AR膜
[0001]本专利技术属于光学镀膜
,具体涉及一种超宽角度穿透近红外光AR膜。
技术介绍
[0002]随着红外技术的发展,850nm、905nm、940nm、1064nm、1550nm等波长红外LED、红外激光等在生物识别、自动测距方面得到越来越广泛的应用。
[0003]对折射率1.5到1.9的光学玻璃或光学塑料,其每个表面的反射损失约为4.0%到9.6%,在光学系统中会产生光能量的损失,并在光学系统内部各表面多次反射而造成杂散光,为减少或消除光学表面的反射光,从而增加光学元件的透光量,减少或消除系统的杂散光,需要在光学表面加工减反射膜,又称AR膜。减反射膜广泛应用于数码、监控、天文、车载、机器视觉领域。
[0004]对于生物识别、自动测距红外光学系统,往往需要光线在0
°
和大角度入射情况,均保持良好的透光量和低的杂散光,不幸的是,由于光学薄膜的物理特性,对于不同角度入射的光线,膜层的等效折射率和膜厚发生严重改变,镀膜曲线会出现偏移现象,常规的光学薄膜很 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种超宽角度穿透近红外光AR膜,包括基材和镀在基材上的AR膜,所述AR膜由内到外由第一高折射率膜、第一低折射率膜、第二高折射率膜、第二低折射率膜、第三高折射率膜、第三低折射率膜、第四高折射率膜、第五高折射率膜、第四低折射率膜、第六高折射率膜、第七高折射率膜、第五低折射率膜、第八高折射率膜、第九高折射率膜、第六低折射率膜组成。2.如权利要求1所述的一种超宽角度穿透近红外光AR膜,其特征是:所述第一高折射率膜镀设于基材层上,膜层材料为H4、TIO2、ZrO2、HfO2、Nb2O3、Ta2O5中的一种,厚度50
‑
103nm;所述第一低折射率膜镀设于第一高折射率膜上,膜层材料为SIO2或MGF2,厚度30
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85nm;所述第二高折射率膜镀设于第一低折射率膜上,膜层材料为H4、TIO2、ZrO2、HfO2、Nb2O3、Ta2O5中的一种,厚度100
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200nm;所述第二低折射率膜镀设于第二高折射率膜上,膜层材料为SIO2或MGF2,厚度80
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150nm;所述第三高折射率膜镀设于第二低折射率膜上,膜层材料为H4、TIO2、ZrO2、HfO2、Nb2O3、Ta2O5中的一种,厚度65
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120nm;所述第三低折射率膜镀设于第三高折射率膜上,膜层材料为SIO2或MGF2,厚度70
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140nm;所述第四高折射率膜镀设于第三低折射率膜上,膜层材料H4、TIO2、ZrO2、HfO2、Nb2O3、Ta2O5中的一种,厚度90
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170nm;所述第五高折射率膜镀设于第四高折射率膜上,膜层材料H4、TIO2、ZrO2、HfO2、Nb2O3、Ta2O5中的一种,厚度55
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120nm;所述第四低折射率膜镀设于第五高折射率膜上,膜层材料为SIO2或MGF2,厚度270
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540nm;所述第六高折射率膜镀设于第四低折射率膜上,膜层材料为H4、TIO2、ZrO2、HfO2、Nb2O3、Ta2O5中的一种,厚度100
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220nm;所述第七高折射率膜镀设于第六高折射率膜上,膜层材料为H4、TIO2、ZrO2、HfO2、Nb2...
【专利技术属性】
技术研发人员:刘中华,焦涛,陈军,周李园,高亚丽,
申请(专利权)人:南阳利达光电有限公司,
类型:发明
国别省市:
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