一种脑电头盔检测电极自适配调节结构制造技术

本实用新型专利技术涉及脑电设备技术领域，特别涉及一种脑电头盔检测电极自适配调节结构。其包括外环调节支架、中环调节支架、内环调节支架、第一弹性件、第二弹性件、脑电传感器，外环调节支架内部设有第一调节腔体，中环调节支架内部设有第二调节腔体，中环调节支架滑动连接在外环调节支架上并位于第一调节腔体内，第一弹性件连接在外环调节支架和中环调节支架之间，内环调节支架滑动连接在中环调节支架上并位于第二调节腔体内，第二弹性件连接在中环调节支架和内环调节支架之间，脑电传感器连接在内环调节支架的底端。设有两级弹性结构，可以对脑电传感器与头部接触的位置做出两级角度调剂，使可调节的量足够大，满足大人小孩、头大头小的人员使用。的人员使用。的人员使用。

【技术实现步骤摘要】
一种脑电头盔检测电极自适配调节结构


[0001]本技术涉及脑电设备
，特别涉及一种脑电头盔检测电极自适配调节结构。

技术介绍

[0002]脑电传感器是用来测量多路脑电信号的检测仪器，能感受到被测量的信息，并能将感受到的信息，按一定规律变换成为电信号或其他所需形式的信息输出，以满足信息的传输、处理、存储、显示、记录和控制等要求。
[0003]通用的脑电传感器有粘贴或吸的，粘贴或吸的，在有头发的地方不好用。也有只有一级弹簧的装置，只有一级弹簧的调节量有限，头小的或小孩不好用，会接触不良。
[0004]由于人体头型有大有小，需要设计一个结构适配不同大小的头型，来保证头型比较大的可以正确并舒适的佩戴，头型比较小的有足够的固定并保证传感器压力，故需要设计头盔形状并适配调节机构。
[0005]再者人体头型并不是一个确定的结构，无法拟合为圆形或椭球，并且有一定形状差异；而设计制造不可能为每一个传感器基座定制特定的曲率，会造成制造成本、装配复杂度的攀升，所以从制造性上，头盔设计为球形，即每一点的曲率相同，简化传感器基座制造为最优方案；同时一套调节机构保证每个传感器的接触，也是需要考虑的问题。

技术实现思路

[0006]本技术提供一种脑电头盔检测电极自适配调节结构，旨在解决现有脑电头盔存在的问题。
[0007]本技术提供一种脑电头盔检测电极自适配调节结构，包括外环调节支架、中环调节支架、内环调节支架、第一弹性件、第二弹性件、脑电传感器，所述外环调节支架内部设有第一调节腔体，所述中环调节支架内部设有第二调节腔体，所述中环调节支架滑动连接在外环调节支架上并位于第一调节腔体内，所述第一弹性件连接在外环调节支架和中环调节支架之间，所述内环调节支架滑动连接在中环调节支架上并位于第二调节腔体内，所述第二弹性件连接在中环调节支架和内环调节支架之间，所述脑电传感器连接在内环调节支架的底端，当人体头部与所述脑电传感器接触时挤压所述第一弹性件、第二弹性件，且所述中环调节支架相对于外环调节支架之间、所述内环调节支架相对于中环调节支架发生向接触面法向的偏转。
[0008]作为本技术的进一步改进，所述外环调节支架的侧壁上设有外环滑槽，所述中环调节支架的侧边凸起设有中环滑块，所述中环滑块卡入外环滑槽内。
[0009]作为本技术的进一步改进，所述中环调节支架的侧壁上设有中环滑槽，所述内环调节支架的侧边凸起设有内环滑块，所述内环滑块卡入中环滑槽内。
[0010]作为本技术的进一步改进，所述中环调节支架的顶端设有中环顶端凹槽部，所述外环调节支架的底端内壁上设有外环凹槽部，所述第一弹性件抵接在中环顶端凹槽部
和外环凹槽部之间。
[0011]作为本技术的进一步改进，所述内环调节支架的顶端设有内环凸起部，所述中环调节支架的底端内壁上设有中环底端凹槽部，所述第二弹性件抵接在内环凸起部和中环底端凹槽部之间。
[0012]作为本技术的进一步改进，所述脑电传感器设有多个传感触脚，多个所述传感触脚构成与人体头部贴合的接触面。
[0013]作为本技术的进一步改进，所述中环调节支架侧壁的底部边沿设有多个支架触脚。
[0014]作为本技术的进一步改进，脑电头盔检测电极自适配调节结构还包括安装基座，所述外环调节支架连接在安装基座上，所述安装基座外接用于人体头部佩戴的头盔。
[0015]作为本技术的进一步改进，所述安装基座套在外环调节支架外部，所述安装基座内壁设有基座凸圈，所述外环调节支架的外壁设有齿条，所述齿条啮合在基座凸圈上。
[0016]作为本技术的进一步改进，该脑电头盔检测电极自适配调节结构还包括高度调节绳，所述安装基座上设有基座绳口，所述中环调节支架或内环调节支架的顶端设有高度调节帽，所述高度调节绳的一端固定在高度调节帽内，所述高度调节绳的另一端从基座绳口处伸出。
[0017]本技术的有益效果是：本调节结构设有两级弹性结构，可以对脑电传感器与头部接触的位置做出两级角度调剂，使可调节的量足够大，满足大人小孩、头大头小的人员使用，避免因为头小引起接触不良，影响测量准确度的问题。本结构可以减少制造成本、减少装配复杂度，不会因为头型的大、小引起电极接触不好，造成脑电测量数据的误差。
附图说明
[0018]图1是本技术中脑电头盔检测电极自适配调节结构在脑电头盔上的位置示意图；
[0019]图2是本技术中脑电头盔检测电极自适配调节结构在自由状态下的整体结构图；
[0020]图3是本技术中脑电头盔检测电极自适配调节结构在自由状态下的结构半剖视图；
[0021]图4是本技术中脑电头盔检测电极自适配调节结构在接触状态下的整体结构图；
[0022]图5是本技术中脑电头盔检测电极自适配调节结构在接触状态下的结构半剖视图；
[0023]图6是本技术中高度调节绳在脑电头盔检测电极自适配调节结构上的连接结构图。
具体实施方式
[0024]为了使本技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本技术进行进一步详细说明。
[0025]如图2至图5所示，本技术的一种脑电头盔检测电极自适配调节结构，包括外
环调节支架1、中环调节支架2、内环调节支架3、第一弹性件5、第二弹性件6、脑电传感器4，外环调节支架1内部设有第一调节腔体，中环调节支架2内部设有第二调节腔体，中环调节支架2滑动连接在外环调节支架1上并位于第一调节腔体内，第一弹性件5连接在外环调节支架1和中环调节支架2之间，内环调节支架3滑动连接在中环调节支架2上并位于第二调节腔体内，第二弹性件6连接在中环调节支架2和内环调节支架3之间，脑电传感器4连接在内环调节支架3的底端，当人体头部与脑电传感器4接触时挤压第一弹性件5、第二弹性件6，且中环调节支架2相对于外环调节支架1之间、内环调节支架3相对于中环调节支架2发生向接触面法向的偏转。
[0026]调节结构分为两级调节结构，即外环调节支架1、中环调节支架2、第一弹性件5构成的第一级弹性调节结构，中环调节支架2、内环调节支架3、第二弹性件6构成的第二级调节结构。在佩戴时，脑电传感器4受到头部的顶压，第一弹性件5和第二弹性件6分别自动调节受到的压力大小，提供了充足的压缩弹性空间，使脑电传感器4的调节量足够大，调节量覆盖最大和最小头型大小，来满足大人小孩、头大头小人群的使用，解决了现有只有一级弹簧的调节量有限，头小的或小孩不好用，造成会接触不良，影响测量准确度的问题。
[0027]如图2和图3所示，外环调节支架1的侧壁上设有外环滑槽11，中环调节支架2的侧边凸起设有中环滑块21，中环滑块21卡入外环滑槽11内。
[0028]中环调节支架2的侧壁上设有中环滑槽22，内环调节支架3的侧边凸起设有内环滑块31，内环滑块31卡入中环滑槽22内。
[0029]外环调节支架1和中环调节支架2之间、中本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种脑电头盔检测电极自适配调节结构，其特征在于，包括外环调节支架、中环调节支架、内环调节支架、第一弹性件、第二弹性件、脑电传感器，所述外环调节支架内部设有第一调节腔体，所述中环调节支架内部设有第二调节腔体，所述中环调节支架滑动连接在外环调节支架上并位于第一调节腔体内，所述第一弹性件连接在外环调节支架和中环调节支架之间，所述内环调节支架滑动连接在中环调节支架上并位于第二调节腔体内，所述第二弹性件连接在中环调节支架和内环调节支架之间，所述脑电传感器连接在内环调节支架的底端，当人体头部与所述脑电传感器接触时挤压所述第一弹性件、第二弹性件，且所述中环调节支架相对于外环调节支架之间、所述内环调节支架相对于中环调节支架发生向接触面法向的偏转。2.根据权利要求1所述的脑电头盔检测电极自适配调节结构，其特征在于，所述外环调节支架的侧壁上设有外环滑槽，所述中环调节支架的侧边凸起设有中环滑块，所述中环滑块卡入外环滑槽内。3.根据权利要求1所述的脑电头盔检测电极自适配调节结构，其特征在于，所述中环调节支架的侧壁上设有中环滑槽，所述内环调节支架的侧边凸起设有内环滑块，所述内环滑块卡入中环滑槽内。4.根据权利要求1所述的脑电头盔检测电极自适配调节结构，其特征在于，所述中环调节支架的顶端设有中环顶端凹槽部，所述外环调节支架的底端内壁上设有外环...

【专利技术属性】
技术研发人员：白纪龙，王亚青，刘文新，
申请(专利权)人：深圳市回映电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：