一种适用性广的菲涅尔抗光幕布制造技术

本实用新型专利技术涉及一种适用性广的菲涅尔抗光幕布，包括基材层、光学微结构层和反射层，基材层为无规共聚聚丙烯透明薄膜，基材层上与光学微结构层接触的一面为电晕面，光学微结构层上与反射层接触的一面设有凸起的菲涅尔纹路，且反射层由反射油墨喷涂于光学微结构层表面形成。本实用新型专利技术采用无规共聚聚丙烯透明薄膜，重量轻、挠曲性能好，抗光幕布经历多次弯曲无形变、无断裂，满足软幕布的使用需求，因此能够适用多种应用场景；无规共聚聚丙烯透明薄膜作为基材层，其与光学微结构层接触的一面作电晕处理，提高基材层的附着力，使得抗光幕布结构的层级之间连接更加牢固，提升产品的结构强度；本实用新型专利技术仅有三层物理结构，产品轻薄，结构简洁。构简洁。构简洁。

【技术实现步骤摘要】
一种适用性广的菲涅尔抗光幕布


[0001]本技术涉及抗光幕布领域，具体的说，是涉及一种适用性广的菲涅尔抗光幕布。

技术介绍

[0002]随着菲涅尔抗光幕布在投影配件行业内的使用逐渐增加，消费者对菲涅尔纹路的抗光效果逐渐认同，对菲涅尔抗光幕布的应用场景也提出了更多的要求。
[0003]现阶段菲涅尔抗光幕布可以选用PET、PVC、PP等材料制成，但是各种材料具有不同的缺陷：
[0004]（1）中国专利号CN112099303提出了一种菲涅尔抗光投影幕及其制造方法，由于PET材料成型后材质脆而硬，导致多次弯曲后易产生形变、断裂等不良现象，因此菲涅尔膜材大多贴合在硬质基板（如铝基泡沫板或镀铬泡沫板）上，以加强其结构强度，但是会导致菲涅尔抗光幕布无法弯曲；即使贴合在部分软基材上也不能实现多次弯曲无变化。因此，采用PET材料作为基材层的菲涅尔抗光幕布大多作为硬幕使用，使用场景受限。
[0005]（2）PVC（聚氯乙烯）材料的弯曲模量较大，使用PVC薄膜制成抗光幕后，再应用制作卷幕时需尺寸较大的卷轴，成品的外观、尺寸都有很大限制，且成本也会相应增加。
[0006]（3）PP（聚丙烯）材料具有相对较好的挠曲性能（即耐弯曲疲劳的能力），但是PP材料的附着力不好，需要做一定处理后才能生产。因此采用PP材料作为基材层，得到的幕布结构强度较小，产品易损坏，并且PP材料的基材层制成幕布时的工艺较为复杂。
[0007]因此现在需要一种既能简化抗光幕布的产品结构，又能增加基材层附着力、增加产品结构强度，并且能够具有优异挠曲性能的抗光幕布。

技术实现思路

[0008]为了解决现有菲涅尔抗光幕布因挠曲性能不佳而导致使用场景受限、生产成本高，以及由于基材层的附着力较差而导致产品结构强度低的问题，本技术提供一种适用性广的菲涅尔抗光幕布。
[0009]本技术技术方案如下所述：
[0010]一种适用性广的菲涅尔抗光幕布，其特征在于，包括依次接触连接的基材层、光学微结构层和反射层，所述基材层为无规共聚聚丙烯透明薄膜，与所述光学微结构层接触的所述基材层的一面为电晕面，与所述反射层接触的所述光学微结构层的一面设有凸起的菲涅尔纹路，且所述反射层由反射油墨喷涂于所述光学微结构层表面形成。
[0011]根据上述方案的本技术，其特征在于，所述基材层的入射面的粗糙度不大于基材层与所述光学微结构层接触的一面的粗糙度。
[0012]进一步的，所述基材层的入射面的粗糙度为0.4微米～3微米。
[0013]进一步的，所述基材层与所述光学微结构层接触的一面的粗糙度为1.5微米～5微米。
[0014]根据上述方案的本技术，其特征在于，与所述光学微结构层接触的所述基材层的电晕面的达因值不低于38mN/M。
[0015]根据上述方案的本技术，其特征在于，所述无规共聚聚丙烯透明薄膜的透光率大于89%。
[0016]根据上述方案的本技术，其特征在于，所述无规共聚聚丙烯透明薄膜的厚度范围为150微米～550微米。
[0017]进一步的，当抗光幕布的尺寸小于100寸时，所述无规共聚聚丙烯透明薄膜的厚度范围为150微米～350微米。
[0018]进一步的，当抗光幕布的尺寸大于等于100寸且小于120寸时，所述无规共聚聚丙烯透明薄膜的厚度范围为350微米～450微米。
[0019]进一步的，当抗光幕布的尺寸大于等于120寸时，所述无规共聚聚丙烯透明薄膜的厚度范围为450微米～550微米。
[0020]根据上述方案的本技术，其特征在于，所述光学微结构层的材质为UV胶，所述光学微结构层的厚度范围为30微米～100微米。
[0021]根据上述方案的本技术，其特征在于，菲涅尔纹路中内部的单个微结构宽幅为80微米～150微米。
[0022]根据上述方案的本技术，其特征在于，所述反射层的厚度范围为40微米～150微米。
[0023]根据上述方案的本技术，其特征在于，所述基材层的入射面也为电晕面。
[0024]根据上述方案的本技术，其有益效果在于：
[0025]本技术的基材层采用无规共聚聚丙烯透明薄膜，材质重量轻、挠曲性能好，实现成品抗光幕布经历多次弯曲而无形变、无断裂，可满足软幕布的使用需求，因此能够适用多种应用场景；
[0026]由于无规共聚聚丙烯透明薄膜的弯曲模量小，相比于PVC材质，能够避免制作卷幕时采用较大的卷轴，利于减小成品外观尺寸，也可降低生产成本；
[0027]无规共聚聚丙烯透明薄膜作为基材层，其与光学微结构层接触的一面作电晕处理，提高基材层的附着力，使得抗光幕布结构的层级之间连接更加牢固，提升产品的结构强度；
[0028]本技术仅有三层物理结构——无规共聚聚丙烯透明薄膜、光学微结构层和在光学微结构层上直接喷涂反射油墨形成的反射层，抗光幕布产品轻薄，结构简洁。
附图说明
[0029]图1为本技术的结构示意图；
[0030]图2为本技术的应用示意图。
[0031]在图中，1、基材层；101、电晕面；2、光学微结构层；201、单个微结构；3、反射层；4、投影灯光；5、环境灯光；6、观影者。
具体实施方式
[0032]为了更好地理解本技术的目的、技术方案以及技术效果，以下结合附图和实
施例对本技术进行进一步的讲解说明。同时声明，以下所描述的实施例仅用于解释本技术，并不用于限定本技术。
[0033]如图1和图2所示，一种适用性广的菲涅尔抗光幕布，包括依次接触连接的基材层1、光学微结构层2和反射层3，基材层1为无规共聚聚丙烯透明薄膜，与光学微结构层2接触的基材层1的一面为电晕面，与反射层3接触的光学微结构层2的一面设有凸起的菲涅尔纹路，反射层3由反射油墨喷涂于光学微结构层2表面形成。
[0034]基材层1为无规共聚聚丙烯透明薄膜，相比于PET，挠曲性能好，能够解决基材层较硬的缺陷，成品抗光幕布经历多次弯曲而无形变、无断裂，可满足软幕布的使用需求，进而实现本产品既可以做硬幕，也可以做软幕，能够适用多种应用场景。无规共聚聚丙烯（PP
‑
R）是现有工程塑料中比重最低的材料之一，市场用量大，价格便宜；由于无规共聚聚丙烯透明薄膜的弯曲模量小，相比于PVC材质，能够避免制作卷幕时采用较大的卷轴，利于减小成品外观尺寸，也可降低生产成本。因此，采用无规共聚聚丙烯透明薄膜，能够有效降低整体成本。
[0035]无规共聚聚丙烯是一种改性的聚丙烯，无规共聚聚丙烯透明薄膜作为基材层1，其与UV胶层接触的一面作电晕处理，电晕面101的达因值（即表面张力系数）不低于38mN/M，能够解决聚丙烯材料附着力不好的缺陷，提高层级之间的连接强度，确保抗光幕布产品的结构强度及品质。在其他可选实施例中，无规共聚聚丙烯透明薄膜可作双面电晕处理，即基材层1的入射面也可为电晕面。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种适用性广的菲涅尔抗光幕布，其特征在于，包括依次接触连接的基材层、光学微结构层和反射层，所述基材层为无规共聚聚丙烯透明薄膜，与所述光学微结构层接触的所述基材层的一面为电晕面，与所述反射层接触的所述光学微结构层的一面设有凸起的菲涅尔纹路，且所述反射层由反射油墨喷涂于所述光学微结构层表面形成。2.根据权利要求1所述的一种适用性广的菲涅尔抗光幕布，其特征在于，所述基材层的入射面的粗糙度不大于基材层与所述光学微结构层接触的一面的粗糙度。3.根据权利要求2所述的一种适用性广的菲涅尔抗光幕布，其特征在于，所述基材层的入射面的粗糙度为0.4微米～3微米。4.根据权利要求2所述的一种适用性广的菲涅尔抗光幕布，其特征在于，所述基材层与所述光学微结构层接触的一面的粗糙度为1.5微米～5微米。5.根据权利要求1所述的一种适用性广的菲涅尔抗光幕布，其特征在于，所述无规共聚聚丙烯透明薄膜的厚度范围为15...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵炯，但雪飞，朱军龙，黄云城，
申请(专利权)人：湖南省谛源光学科技有限公司，
类型：新型
国别省市：