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含硅产物的合成制造技术

技术编号:37408830 阅读:50 留言:0更新日期:2023-04-30 09:34
本文公开了从廉价二氧化硅源生产Si或SiO

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】含硅产物的合成
[0001]相关申请的引用
[0002]本申请在35U.S.C.
§
119(e)下要求2020年8月7日提交的美国临时申请号63/062,832的优先权益,其全部公开内容通过引用结合到本文中。
[0003]专利技术背景


[0004]本公开一般涉及从低成本二氧化硅源合成有价值的硅产物。

技术实现思路

[0005]本文公开了用于从二氧化硅源生产球化粉末的方法的实施方案,所述方法包括:将二氧化硅源进料材料引入微波等离子体炬;并且使二氧化硅源进料材料在由微波等离子体炬产生的等离子体内熔融和球化,以形成球化粉末。
[0006]在一些实施方案中,方法还包括由球化粉末形成阳极。在一些实施方案中,方法还包括由阳极形成电池。在一些实施方案中,不使用高能研磨。在一些实施方案中,不使用光刻处理。
[0007]在一些实施方案中,硅球化粉末为Si或SiO
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。在一些实施方案中,二氧化硅源进料材料为硅藻。在一些实施方案中,二氧化硅源进料为二氧化硅胶体。在一些实施方案中,二氧化硅源进本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种从二氧化硅源生产球化粉末的方法,所述方法包括:将二氧化硅源进料材料引入微波等离子体炬;并且使二氧化硅源进料材料在由微波等离子体炬产生的等离子体内熔融和球化,以形成球化粉末。2.权利要求1的方法,所述方法还包括由球化粉末形成阳极。3.权利要求2的方法,所述方法还包括由阳极形成电池。4.权利要求1的方法,其中不使用高能研磨。5.权利要求1的方法,其中不使用光刻处理。6.权利要求1的方法,其中硅球化粉末为Si或SiO
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。7.权利要求1的方法,其中所述二氧化硅源进料材料为硅藻。8.权利要求1的方法,其中所述二氧化硅源进料材料为二氧化硅胶体。9.权利要求1的方法,其中所述二氧化硅源进料材料为热解法二氧化硅。10.权利要求1的方法,其中所述微波等离子体炬使用选自氢气、氧气、氩气、一氧化碳和甲烷的气体。11.权利要求10的方法,其中所述气体处于高压下。12.一种由以下方法形成的球化粉末,所述方法包括:将二氧化硅源进料材料引入微波等离子体炬;并且使二氧化硅源进料材料在由微波等离子体炬产生的等离子体内熔融和球化,以形成球化粉...

【专利技术属性】
技术研发人员:A
申请(专利权)人:六K有限公司
类型:发明
国别省市:

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