【技术实现步骤摘要】
碳化硅MOSFET建模方法
[0001]本专利技术涉及功率器件
,具体涉及一种碳化硅MOSFET建模方法。
技术介绍
[0002]在航空航天、轨道交通、电动汽车、电力系统和工业产出等领域内,电机驱动系统作为一种电能与机械能转化的装置,被广泛应用于上述领域,而电机驱动系统的核心是以IGBT与MOSFET为代表的硅基功率开关器件。然而,硅材料本身的物理特性与性能已达到极限,难以满足当前部分行业的需求。碳化硅MOSFET以其高功率、高临界击穿场强、高禁带宽度等优异特性受到广泛关注与应用,用以代替传统硅基MOSFET。在系统开发初期,建立碳化硅MOSFET静态与动态特性模型,有利于评估设计性能与系统的电磁兼容性能,以尽早完善,减小成本。
[0003]目前碳化硅MOSFET的建模主要有数值法、物理法、电路法等方法,数值模型、物理模型需要半导体物理基础,求解复杂;电路模型基于SPICE等软件,部分参数获取受限或测量复杂。
技术实现思路
[0004]本专利技术为解决上述技术问题,提供了一种碳化硅MOSFET建 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种碳化硅MOSFET建模方法,其特征在于,包括以下步骤:建立所述碳化硅MOSFET的静态特性模型;建立所述碳化硅MOSFET的动态特性模型;获取所述碳化硅MOSFET的静态特性数据点;获取所述碳化硅MOSFET的动态特性数据点;通过遗传算法,将所述静态特性数据点利用所述静态特性模型进行拟合,将所述动态特性数据点利用所述动态特性模型进行拟合,得到最优化的静态特性模型参数和动态特性模型参数。2.根据权利要求1所述的碳化硅MOSFET建模方法,其特征在于,基于改进的EKV模型公式描述所述碳化硅MOSFET的静态特性,所述静态特性模型为:其中,I
d
为漏极电流,V
gs
为栅源极电压,V
ds
为漏源极电压,h1~h7为所述静态特性模型的参数,h1描述跨导斜率,h2、h7描述V
gs
系数,h3描述阈值电压,h4为指数项,h5描述饱和系数,h6描述V
ds
系数。3.根据权利要求2所述的碳化硅MOSFET建模方法,其特征在于,基于寄生非线性电容的拟合公式描述所述碳化硅MOSFET的动态特性,所述动态特性模型为:其中,C为寄生非线性电容的容值,p0~p3为所述动态特性模型的参数。4.根据权利要求3所述的碳化硅MOS...
【专利技术属性】
技术研发人员:史如新,嵇建飞,许霖,刘晓康,苏佳华,庞福滨,张弛,
申请(专利权)人:国网江苏省电力有限公司国家电网有限公司,
类型:发明
国别省市:
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