负型感光性树脂组合物、图案形成方法及层叠薄膜技术

技术编号:37380693 阅读:9 留言:0更新日期:2023-04-27 07:22
本发明专利技术采用含有含环氧基树脂与阳离子聚合引发剂的负型感光性树脂组合物,包含以下述通式(I0)表示的锍盐。式(I0)中,R1及R2表示芳基、杂环式烃基或烷基。R3~R5为烷基、羟基、烷氧基、烷基羰基、芳基羰基、酰氧基、芳硫基、烷硫基、芳基、杂环式烃基、芳氧基、羟基(聚)亚烷氧基或卤素原子。k为0~4的整数,m为0~3的整数,n为1~4的整数。A是以

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】负型感光性树脂组合物、图案形成方法及层叠薄膜


[0001]本专利技术涉及负型感光性树脂组合物、图案形成方法及层叠薄膜。本申请基于2020年7月8日于日本申请的日本特愿2020

117686号主张优先权,并将其内容援用于此。

技术介绍

[0002]近年来,随着电子零件的小型化及高密度化,对于例如用于声表面波(SAW)滤波器等具有中空密封结构的电子零件的感光性树脂组合物的要求提高。在该电子零件的中空密封结构的形成中,固化感光性树脂组合物而得的固化膜的薄膜化及强度变得很有必要。
[0003]此外,感光性树脂组合物也用于半导体晶圆与透明基板之间的间隔件(壁材)。例如,使用负型感光性树脂组合物,在半导体晶圆等的表面形成感光性树脂膜,对该感光性树脂膜进行基于光、电子射线等放射线的选择性曝光,实施显影处理而形成图案后,与透明基板(例如玻璃基板)等压接而制成间隔件。在该感光性树脂膜中,利用光刻法在实施显影处理时形成间隔件所需厚度的膜、并且能够以良好的形状且没有残渣等地进行高分辨率的图案化变得很有必要。
[0004]作为形成所述感光性树脂膜的感光性材料,以往公开有含有在1个分子中具有2个以上的环氧基的环氧树脂、碱可溶性树脂及阳离子聚合引发剂的感光性树脂组合物(参照专利文献1)。
[0005]现有技术文献
[0006]专利文献
[0007]专利文献1:国际公开第2012/176750号

技术实现思路

[0008]专利技术要解决的技术问题
[0009]具有中空密封结构的电子零件的小型化及高密度化日益发展的过程中,在中空密封结构的形成中,厚膜且微细尺寸的图案形成变得至关重要。
[0010]但是,在专利文献1所记载的组合物等现有的感光性树脂组合物中,在试图实现作为所述中空密封结构的间隔件的图案的微细化的情况下,分辨率差成为问题。
[0011]本专利技术是鉴于上述情况而完成的,其技术问题在于提供一种分辨率进一步得以提高的负型感光性树脂组合物、使用了该负型感光性树脂组合物的图案形成方法及使用了该负型感光性树脂组合物的层叠薄膜。
[0012]用于解决上述技术问题的方案
[0013]为了解决上述技术问题,本专利技术采用了以下的构成。
[0014]即,本专利技术的第1方案是一种负型感光性树脂组合物,是含有含环氧基树脂(A)与阳离子聚合引发剂(I)的负型感光性树脂组合物,其特征在于,所述阳离子聚合引发剂(I)包含以下述通式(I0)表示的锍盐(I0)。
[0015]【化1】
[0016][0017][式(I0)中,R1及R2分别表示碳数为6~30的芳基、碳数为4~30的杂环式烃基、或碳数为1~30的烷基,这些芳基、杂环式烃基或烷基的氢原子的一部分可被取代基(t)取代。该取代基(t)是从碳数为1~18的烷基、羟基、碳数为1~18的烷氧基、碳数为2~18的烷基羰基、碳数为7~11的芳基羰基、碳数为2~19的酰氧基、碳数为6~20的芳硫基、碳数为1~18的烷硫基、碳数为6~10的芳基、碳数为4~20的杂环式烃基、碳数为6~10的芳氧基、以HO(

R
A
O)q

{R
A
O表示乙烯氧基及/或丙烯氧基,q表示1~5的整数。}表示的羟基(聚)亚烷氧基、及卤素原子构成的组中选择的至少一种。R3~R5分别为烷基、羟基、烷氧基、烷基羰基、芳基羰基、酰氧基、芳硫基、烷硫基、芳基、杂环式烃基、芳氧基、羟基(聚)亚烷氧基或卤素原子。k、m及n表示R3、R4及R5的数目,k为0~4的整数,m为0~3的整数,n为1~4的整数。在k、m及n分别为2以上的情况下,多个R3、R4及R5可以彼此相同也可以不同。A为以

S



O



SO



SO2‑
、或者

CO

表示的基团,O为氧原子,S为硫原子,X

表示一价的多原子阴离子。][0018]本专利技术的第2方案为一种图案形成方法,其特征在于,具有:使用所述第1方案的负型感光性树脂组合物在支承体上形成感光性树脂膜的工序;对所述感光性树脂膜进行曝光的工序;利用含有有机溶剂的显影液对所述曝光后的感光性树脂膜进行显影而形成负型图案的工序。
[0019]本专利技术的第3方案为一种层叠薄膜,由所述第1方案的负型感光性树脂组合物所构成的感光性树脂组合物层与支承薄膜层叠而得。
[0020]专利技术效果
[0021]根据本专利技术,能够提供一种分辨率进一步得以提高的负型感光性树脂组合物、使用了该负型感光性树脂组合物的图案形成方法及使用了该负型感光性树脂组合物的层叠薄膜。
具体实施方式
[0022]在本说明书及本权利要求书中,“脂肪族”是指相对于芳香族的相对概念,定义为表示不具有芳香族性的基团、不具有芳香族性的化合物等。
[0023]只要没有特别说明,“烷基”就包含直链状、支链状及环状的1价饱和烃基。烷氧基中的烷基也同样。
[0024]只要没有特别说明,“亚烷基”就包含直链状、支链状及环状的2价饱和烃基。
[0025]“卤代烷基”是烷基的一部分或全部的氢原子被卤素原子取代而得的基团,作为该卤素原子,可例举氟原子、氯原子、溴原子、碘原子。
[0026]“氟代烷基”是指,烷基的一部分或全部的氢原子被氟原子取代而得的基团。
[0027]“结构单元”是指,构成高分子化合物(树脂、聚合物、共聚物)的单体单元(单量体单元)。
[0028]在记载有“可具有取代基”的情况下,包含将氢原子(

H)用1价的基团取代的情况、
与将亚甲基(

CH2‑
)用2价的基团取代的情况这两种情况。
[0029]“曝光”是包含所有放射线的照射的概念。
[0030](负型感光性树脂)
[0031]本实施方式的负型感光性树脂组合物(以下有时简称为“感光性组合物”)含有含环氧基树脂(A)与阳离子聚合引发剂(I)。以下,也将这些各成分分别称为(A)成分、(I)成分。
[0032]若使用上述感光性组合物形成感光性树脂膜,并对该感光性树脂膜进行选择性曝光,则在该感光性树脂膜的曝光部中,(I)成分的阳离子部分解而产生酸,通过该酸的作用,(A)成分中的环氧基开环聚合,该(A)成分对含有有机溶剂的显影液的溶解性减小,另一方面,在该感光性树脂膜的未曝光部中,该(A)成分对含有有机溶剂的显影液的溶解性不发生变化,因此在感光性树脂膜的曝光部与未曝光部之间产生对含有有机溶剂的显影液的溶解性的差异。因此,若利用含有有机溶剂的显影液对该感光性树脂膜进行显影,则未曝光部被溶解、去除而形成负型的图案。
[0033]<含环氧基树脂(A)>
[0034]含环氧基树脂(本文档来自技高网
...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种负型感光性树脂组合物,是含有含环氧基树脂(A)与阳离子聚合引发剂(I)的负型感光性树脂组合物,其特征在于,所述阳离子聚合引发剂(I)包含以下述通式(I0)表示的锍盐(I 0),【化1】式(I0)中,R1及R2分别表示碳数为6~30的芳基、碳数为4~30的杂环式烃基、或碳数为1~30的烷基,这些芳基、杂环式烃基或烷基的氢原子的一部分可被取代基(t)取代,该取代基(t)是从碳数为1~18的烷基、羟基、碳数为1~18的烷氧基、碳数为2~18的烷基羰基、碳数为7~11的芳基羰基、碳数为2~19的酰氧基、碳数为6~20的芳硫基、碳数为1~18的烷硫基、碳数为6~10的芳基、碳数为4~20的杂环式烃基、碳数为6~10的芳氧基、以HO(

R
A
O)q

表示的羟基(聚)亚烷氧基、及卤素原子构成的组中选择的至少一种,R
A
O表示乙烯氧基及/或丙烯氧基,q表示1~5的整数,R3~R5分别为烷基、羟基、烷氧基、烷基羰基、芳基羰基、酰氧基、芳硫基、烷硫基、芳基、杂环式烃基、芳氧基、羟基(聚)亚烷氧基或卤素原子,k、m及n表示R3、R4及R5的数目,k为0~4的整数,m为0~3的整数,n为1~4的整数,在k、m及n分别为2以上的情况下,多个R3、R4及R5可以彼此相同也可以不同,A为以

S



O



SO



SO2‑
、或者

CO

表示的基团,O为氧原子,S为硫原子,X

表示一价的多原子阴离子。2.如权利要求1所述的负型感光性树脂组合物,其特征在于,所述通式(I 0)中的A是以

S



O

【专利技术属性】
技术研发人员:中尾拓人柴垣智幸中村友治山形宪一近藤崇弘增岛正宏今井洋文
申请(专利权)人:东京应化工业株式会社
类型:发明
国别省市:

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