【技术实现步骤摘要】
一种
α
,
β
‑
不饱和羧酸酯官能化高分子的合成方法
[0001]本专利技术涉及有机合成
,具体涉及一种α,β
‑
不饱和羧酸酯官能化高分子的合成方法。
技术介绍
[0002]α,β
‑
不饱和羧酸酯广泛存在于天然/合成有机小分子和功能高分子结构中,其取代基结构的变化会产生迥异的反应性,因此可以衍生出各式各样的用途(例如:β位被苯环取代的肉桂酸酯和香豆素常作为感光基团修饰高分子材料,其可以用作光固化材料、光刻胶、液晶显示材料、自修复材料、形状记忆材料等)。
[0003]目前,主要是通过修饰剂对聚合物进行后修饰来引入α,β
‑
不饱和羧酸酯结构,修饰剂除了包含α,β
‑
不饱和羧酸酯结构以外,还包含羟基、氨基、羧基、卤素、异氰酸酯基、酰卤等中的至少一种基团供修饰基团和目标分子活性位点发生偶联反应。然而,这些偶联反应多为缩合反应,会生成小分子副产物,原子经济性低,且不利于产物的分离提纯。而且,羟基(氨基)和羧基(卤素)的反应以及羧基和卤素的反应需要在强酸/碱催化、高温等苛刻的条件下进行,适合用于修饰的不饱和羧酸酯结构十分有限。此外,采用含有α,β
‑
不饱和羧酸酯的引发剂、终止剂或双官能单体也可以实现聚合和修饰的同步进行,这一方法更为简洁高效,且具有原子经济性,但大多数高活性的α,β
‑
不饱和羧酸酯都很难兼容传统的离子型/自由基聚合反应条件,仅肉桂酸酯、香豆素等少数几 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种α,β
‑
不饱和羧酸酯官能化高分子的合成方法,其特征在于,包括以下步骤:将含α,β
‑
不饱和羧酸酯取代基的环氧化物、活泼氢化合物和催化剂混合进行聚合反应,即得α,β
‑
不饱和羧酸酯官能化高分子。2.根据权利要求1所述的α,β
‑
不饱和羧酸酯官能化高分子的合成方法,其特征在于:所述含α,β
‑
不饱和羧酸酯取代基的环氧化物为丙烯酸缩水甘油酯、甲基丙烯酸缩水甘油酯、丙烯酸
‑
3,4
‑
环氧环己基甲酯、甲基丙烯酸
‑
3,4
‑
环氧环己基甲酯、3
‑
(2
‑
呋喃基)丙烯酸缩水甘油酯、肉桂酸缩水甘油酯、7
‑
环氧丙烷氧
‑4‑
甲基香豆素、马来酸缩水甘油甲酯、巴豆酸缩水甘油酯、巴豆酸
‑2‑
甲基环氧丙酯、2
‑
戊烯酸缩水甘油酯、3,3
‑
二甲基丙烯酸缩水甘油酯、反式
‑2‑
己烯酸缩水甘油酯、2,4
‑
戊二烯酸缩水甘油酯、2,4
‑
己二烯酸缩水甘油酯中的至少一种。3.根据权利要求1所述的α,β
‑
不饱和羧酸酯官能化高分子的合成方法,其特征在于:所述活泼氢化合物为胺、水、醇、酚、羧酸、硫醇、酰胺、端羟基聚合物中的至少一种。4.根据权利要求1所述的α,β
‑
不饱和羧酸酯官能化高分子的合成方法,其特征在于:所述催化剂为有机碱或有机碱和有机硼的混合物。5.根据权利要求4所述的α,β
‑
不饱和羧酸酯官能化高分子的合成方法,其特征在于:所述有机碱为磷腈碱、三氨基膦、三级胺、脒、胍、叔丁醇锂/钠/钾/铯、特戊酸锂/钠/钾/铯/铵中的至少一种;所述有机硼为三甲基硼、三乙基硼、二乙基甲氧基硼、三异丙基硼、三正丁基硼、三仲丁基硼、B
‑
异松蒎基
‑9‑
硼二环[3.3.1]壬烷、三苯基硼、三(五氟苯基)硼、C1~C8的三烷基硼酸酯、硼酸三苯酯中的至少一种。6.根据权利要求1所...
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