本发明专利技术提供了一种阵列式光束聚焦组件的基准校核装置，涉及光学技术领域。本发明专利技术所述的阵列式光束聚焦组件的基准校核装置，包括自准直仪组件、标准镜组件和阵列式光束聚焦组件，所述标准镜组件位于所述自准直仪组件和所述阵列式光束聚焦组件之间，所述标准镜组件适于位于所述自准直仪组件视野内，所述自准直仪组件和所述标准镜组件适于在所述自准直仪组件与所述阵列式光束聚焦组件准直时对所述阵列式光束聚焦组件定轴。本发明专利技术所述的技术方案，通过自准直仪组件和标准镜组件调整阵列式光束聚焦组件的姿态，实现对阵列式光束聚焦组件定轴，有效提高了阵列式光束聚焦组件的聚焦能力；同时有效避免了在线调整方式对于靶场区聚焦环境洁净度的要求。聚焦环境洁净度的要求。聚焦环境洁净度的要求。
【技术实现步骤摘要】
一种阵列式光束聚焦组件的基准校核装置
[0001]本专利技术涉及光学
，具体而言，涉及一种阵列式光束聚焦组件的基准校核装置。
技术介绍
[0002]阵列式光学聚焦组件是光学终端元件中的核心光学元件，具有光束聚焦和谐波分离的作用。由于阵列式光学聚焦组件的组合形式，以及聚焦透镜焦距过大而导致焦点位置、强度对各个聚焦透镜的相对位置姿态的变化非常敏感的原因，对聚焦组件进行基准校核很有必要。但由于对靶场区的洁净度要求较高，在焦点聚焦时实时在线调整阵列式光束聚焦组件的位姿较为困难。
技术实现思路
[0003]本专利技术解决的问题是如何离线调整阵列式光束聚焦组件的位姿。
[0004]为解决上述问题，本专利技术提供一种阵列式光束聚焦组件的基准校核装置，包括自准直仪组件、标准镜组件和阵列式光束聚焦组件，所述标准镜组件位于所述自准直仪组件和所述阵列式光束聚焦组件之间，所述标准镜组件适于位于所述自准直仪组件视野内，所述自准直仪组件和所述标准镜组件适于在所述自准直仪组件与所述阵列式光束聚焦组件准直时对所述阵列式光束聚焦组件定轴。
[0005]本专利技术所述的阵列式光束聚焦组件的基准校核装置，通过自准直仪组件和标准镜组件调整阵列式光束聚焦组件的姿态，实现对阵列式光束聚焦组件定轴，有效提高了阵列式光束聚焦组件的聚焦能力；同时由于采用离线调整方式对阵列式光束聚焦组件的位姿进行调整，有效避免了在线调整方式对于靶场区聚焦环境洁净度的要求。
[0006]优选地，所述自准直仪组件包括自准直仪、自准直仪调节件、第一竖直导轨和第一水平导轨，所述第一竖直导轨与所述第一水平导轨滑动连接，所述自准直仪调节件与所述第一竖直导轨滑动连接，所述自准直仪安装在所述自准直仪调节件上，所述自准直仪调节件适于调整所述自准直仪的姿态。
[0007]本专利技术所述的阵列式光束聚焦组件的基准校核装置，通过自准直仪调节件、第一竖直导轨和第一水平导轨对自准直仪姿态及位置的调整，实现对阵列式光束聚焦组件中的各个透镜的准直，进而能够完成对透镜姿态的调整，实现对焦点位置的调整，完成对阵列式光束聚焦组件的定轴，有效提高了阵列式光束聚焦组件的聚焦能力。
[0008]优选地，所述自准直仪调节件包括第一俯仰组件、第一偏摆组件和第一升降组件，所述第一俯仰组件用于调节所述自准直仪的俯仰姿态，所述第一偏摆组件用于调节所述自准直仪的偏摆姿态，所述第一升降组件用于调节所述自准直仪的高度姿态。
[0009]本专利技术所述的阵列式光束聚焦组件的基准校核装置，通过第一俯仰组件、第一偏摆组件和第一升降组件调整自准直仪的俯仰姿态、偏摆姿态和高度，实现对阵列式光束聚焦组件中的各个透镜的准直，进而能够完成对透镜姿态的调整，实现对焦点位置的调整，完
成对阵列式光束聚焦组件的定轴，有效提高了阵列式光束聚焦组件的聚焦能力。
[0010]优选地，所述自准直仪为光电自准直仪。
[0011]本专利技术所述的阵列式光束聚焦组件的基准校核装置，通过设置自准直仪为光电自准直仪，有效提高校准速度和精度，从而有利于提高阵列式光束聚焦组件的聚焦能力。
[0012]优选地，所述标准镜组件包括标准镜、第二竖直导轨和第二水平导轨，所述第二竖直导轨与所述第二水平导轨滑动连接，所述标准镜与所述第二竖直导轨滑动连接。
[0013]本专利技术所述的阵列式光束聚焦组件的基准校核装置，通过第二竖直导轨和第二水平导轨对标准镜位置的调整，阵列式光束聚焦组件中的不同透镜定轴校准，进而能够完成对透镜姿态的调整，实现对焦点位置的调整，完成对阵列式光束聚焦组件的定轴，有效提高了阵列式光束聚焦组件的聚焦能力。
[0014]优选地，所述标准镜组件还包括用于调整所述标准镜姿态的第二俯仰组件、第二偏摆组件和第二升降组件，所述第二俯仰组件适于调整所述标准镜的俯仰姿态，所述第二偏摆组件适于调整所述标准镜的偏摆姿态，所述第二升降组件适于调整所述标准镜的高度姿态。
[0015]本专利技术所述的阵列式光束聚焦组件的基准校核装置，通过第二俯仰组件、第二偏摆组件和第二升降组件调整标准镜的俯仰姿态、偏摆姿态和高度，实现对阵列式光束聚焦组件中的各个透镜的准直，进而能够完成对透镜姿态的调整，实现对焦点位置的调整，完成对阵列式光束聚焦组件的定轴，有效提高了阵列式光束聚焦组件的聚焦能力。
[0016]优选地，所述第二竖直导轨包括两个平行设置的导轨，所述标准镜位于两个所述导轨之间。
[0017]本专利技术所述的阵列式光束聚焦组件的基准校核装置，通过设置标准镜位于第二竖直导轨的两个导轨之间，有效提高了标准镜位置调节时的灵活性，进而有利于实现对阵列式光束聚焦组件中的各个透镜的准直，进而能够完成对透镜姿态的调整，实现对焦点位置的调整，完成对阵列式光束聚焦组件的定轴，有效提高了阵列式光束聚焦组件的聚焦能力。
[0018]优选地，所述阵列式光束聚焦组件包括中间四路透镜和周围四路透镜，所述中间四路透镜中的任一透镜位于所述周围四路透镜中的两个透镜之间，所述中间四路透镜的后表面相互平行，所述周围四路透镜的后表面适于与所述中间四路透镜的后表面平行，所述自准直仪组件和所述标准镜组件适于对所述中间四路透镜和所述周围四路透镜定轴。
[0019]本专利技术所述的阵列式光束聚焦组件的基准校核装置，通过自准直仪组件和标准镜组件对中间四路透镜和周围四路透镜定轴，有效提高了阵列式光束聚焦组件的聚焦能力。
[0020]优选地，所述中间四路透镜包括第二透镜、第四透镜、第五透镜和第七透镜，所述第二透镜、所述第四透镜、所述第五透镜和所述第七透镜分别位于所述阵列式光束聚焦组件的上、下、左和右方位。
[0021]本专利技术所述的阵列式光束聚焦组件的基准校核装置，通过自准直仪组件和标准镜组件对中间四路透镜定轴，有效提高了阵列式光束聚焦组件的聚焦能力。
[0022]优选地，所述周围四路透镜包括第一透镜、第三透镜、第六透镜和第八透镜，所述第一透镜、所述第三透镜、所述第六透镜和所述第八透镜分别位于所述阵列式光束聚焦组件的左上、右上、左下和右下方位。
[0023]本专利技术所述的阵列式光束聚焦组件的基准校核装置，通过自准直仪组件和标准镜
组件对周围四路透镜定轴，有效提高了阵列式光束聚焦组件的聚焦能力。
附图说明
[0024]图1为本专利技术实施例所述的阵列式光束聚焦组件的基准校核装置的示意图；
[0025]图2为本专利技术实施例所述的自准直仪组件的示意图；
[0026]图3为本专利技术实施例所述的标准镜组件的示意图；
[0027]图4为本专利技术实施例所述的阵列式光束聚焦组件的示意图；
[0028]图5为本专利技术实施例所述的阵列式光束聚焦组件的基准校核方法示意图。
[0029]附图标记说明：
[0030]1‑
自准直仪组件，11
‑
自准直仪，12
‑
自准直仪调节件，13
‑
第一竖直导轨，14
‑
第一水平导轨；2
‑
...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种阵列式光束聚焦组件的基准校核装置，其特征在于，包括自准直仪组件(1)、标准镜组件(2)和阵列式光束聚焦组件(3)，所述标准镜组件(2)位于所述自准直仪组件(1)和所述阵列式光束聚焦组件(3)之间，所述标准镜组件(2)适于位于所述自准直仪组件(1)视野内，所述自准直仪组件(1)和所述标准镜组件(2)适于在所述自准直仪组件(1)与所述阵列式光束聚焦组件(3)准直时对所述阵列式光束聚焦组件(3)定轴。2.根据权利要求1所述的阵列式光束聚焦组件的基准校核装置，其特征在于，所述自准直仪组件(1)包括自准直仪(11)、自准直仪调节件(12)、第一竖直导轨(13)和第一水平导轨(14)，所述第一竖直导轨(13)与所述第一水平导轨(14)滑动连接，所述自准直仪调节件(12)与所述第一竖直导轨(13)滑动连接，所述自准直仪(11)安装在所述自准直仪调节件(12)上，所述自准直仪调节件(12)适于调整所述自准直仪(11)的姿态。3.根据权利要求2所述的阵列式光束聚焦组件的基准校核装置，其特征在于，所述自准直仪调节件(12)包括第一俯仰组件、第一偏摆组件和第一升降组件，所述第一俯仰组件用于调节所述自准直仪(11)的俯仰姿态，所述第一偏摆组件用于调节所述自准直仪(11)的偏摆姿态，所述第一升降组件用于调节所述自准直仪(11)的高度姿态。4.根据权利要求2所述的阵列式光束聚焦组件的基准校核装置，其特征在于，所述自准直仪(11)为光电自准直仪。5.根据权利要求1所述的阵列式光束聚焦组件的基准校核装置，其特征在于，所述标准镜组件(2)包括标准镜(21)、第二竖直导轨(22)和第二水平导轨(23)，所述第二竖直导轨(22)与所述第二水平导轨(23)滑动连接，所述标准镜(21)与所述第二竖直导轨(22)滑动连接。6....
【专利技术属性】
技术研发人员：曹永智，卢礼华，高思煜，赵航，于福利，缪浩然，张鹏，
申请(专利权)人：哈尔滨工业大学，
类型：发明
国别省市：
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