【技术实现步骤摘要】
一种抗反射透镜及成像装置
[0001]本技术涉及光学镜头
,特别是涉及一种抗反射透镜以及一种成像装置。
技术介绍
[0002]当光线入射到两种介质的分界面时,会发生菲涅尔反射,这种反射会对光能的传输和探测造成很大阻碍。为解决光能反射所带来的问题,多采用在基底材料表面镀制单层或多层减反射增透介质薄膜来实现抗反射功能。为了实现最优的减反射效果,需要制作薄膜的介质材料具有特定的折射率。但天然介质材料的折射率是固定的,一般不等于减反射设计所需要的特定折射率,很难符合最优减反射设计的需求。
[0003]在现有技术中,一种基于蛾眼仿生技术的抗反射微结构可以很好地解决上述问题。这种抗反射微结构是在基底上周期排列的柱体或椎体微结构阵列,可以看做一层具有渐变折射率梯度分布的薄膜,可以实现一定的减反射效果。微结构阵列的等效折射率不是固定的,可以根据不同的设计在一定范围内调整。经过减反射设计的抗反射微结构具有特定的等效折射率,可以达到最好的减反射效果。
[0004]但是在现有技术中,这种抗反射结构存在以下不足:第一、柱体或者 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种抗反射透镜,其特征在于,包括:基底(1);位于所述基底(1)表面的微结构;所述微结构呈周期性分布形成微结构阵列(2),相邻所述微结构之间设置有间隙;覆盖所述微结构表面的保护层(3);所述保护层(3)填充所述间隙,且所述保护层(3)背向所述基底(1)一侧表面高于所述微结构的顶端;所述保护层(3)背向所述基底(1)一侧表面为平整表面;所述保护层(3)的折射率与所述微结构的折射率不同。2.根据权利要求1所述的抗反射透镜,其特征在于,所述微结构为圆柱微结构、圆锥微结构、圆台微结构或金字塔微结构。3.根据权利要求1所述的抗反射透镜,其特征在于,所述微结构呈三角形周期分布形成所述微结构阵列(2),或所述微结构呈矩形周期分布形成所述微结构阵列(2)。4.根据权利要求1所述的抗反射透镜,其特征在于,所述微结构高度的取值范围为0.3um
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20um;所述微结构阵列(2)周期的取值范围为0.3um...
【专利技术属性】
技术研发人员:王兴祥,
申请(专利权)人:烟台睿创微纳技术股份有限公司,
类型:新型
国别省市:
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