用于洗浴和药物治疗的水的清洁制造技术

本发明专利技术涉及一种在任意现有的温泉或水池上易于适应或自己动手安装的水清洁装置，所述清洁装置包括电解模块，该电解模块具有在硅衬底上的特定掺硼金刚石电极。本发明专利技术还涉及一种使用水清洁装置来清洁温泉或水池中的水的方法，该水清洁装置包括存在于电解模块上的所述特定掺硼金刚石电极。本发明专利技术还涉及用于皮肤炎症性疾病治疗和用于皮肤伤口愈合治疗的电解洗浴水。洗浴水。洗浴水。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于洗浴和药物治疗的水的清洁


[0001]本专利技术涉及一种用于不使用杀真菌或生物杀灭化学添加剂来清洁温泉和水池的水的装置和方法。本专利技术还涉及使用通过该装置和方法获得的水来治疗皮肤问题。

技术介绍

[0002]如今，私人或公共温泉或水池在家庭中很常见。这些装置需要最少的维护来有效地工作，并且对于使用这些水的人来说需要保持水的清洁和安全。所有者遇到的主要问题是确保水没有被污染或水没有包含细菌和/或真菌，这些细菌和/或真菌通常是从用户的皮肤转移到水中或本来就包含在水中，或是通过与水接触的污染空气获得。
[0003]为了解决这个问题，必须定期使用侵蚀性的生物杀灭和杀真菌化学物质来清洁水，尤其是氯衍生物。然而，当被添加到水中时，这些化学物质不是中性的，并且它们会对身体组织和皮肤具有侵蚀性。一个很好的例子是，当不戴眼镜在公共或私人水池中游泳时，眼睛会有灼热感。
[0004]添加到温泉或水池的水回路中的化学物质需要具有资格的人员使用，并且应该小心处理这些化学物质。化学物质有缺点，因为它们会引起过敏或刺激皮肤。
>[0005]例如，本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种水清洁装置，包括：涂覆在硅衬底上的至少两个掺硼金刚石电极，其中，硼的浓度在200ppm(3
×
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19
B原子/cm3)到1500ppm(2
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10
20
B原子/cm3)之间，所述金刚石电极具有约在50到100cm2之间的活性表面积，其中，所述装置用于制备用于皮肤治疗的水。2.根据权利要求1所述的水清洁装置，其中，所述电极的工作电压在阴极极化时在
‑
1V到
‑
2V之间，在阳极极化时在+2V到+4V之间。3.根据权利要求1所述的水清洁装置，其中，所述装置被配置为在使用中使得液压流在所述掺硼金刚石电极上持续地流通。4.根据权利要求1所述的水清洁装置，其中，所制备的水用于皮肤伤口愈合的治疗。5.根据权利要求1所述的水清洁装置，其中，所制备的水用于皮肤炎症性疾病的治疗。6.根据权利要求5所述的水清洁装置，其中，所述炎症性疾病为湿疹或特应性皮炎。7.一种不使用杀真菌或生物杀灭化学添加剂来净化水的方法，所述方法包括以下步骤：i)将清洁装置串联安装在水过滤回路中，所述装置包括涂覆在硅衬底上的至少两个掺硼金刚石电极，其中，硼的浓度在200ppm(3
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10
19
B原子/cm3)到1500ppm(100
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B原子/cm3)之间，所述金刚石电极具有约在50到100cm2之间的活性表面积；ii)使包含在所述过滤回路中的所述水流通，使得所述电极与所述水过滤回路持续地接触；以及iii)将所述电极周期性地连接到电源，以周期性地电解在所述电极上流通的所述水；iv)将所述水施加到人体皮肤的受影响区域。8.根据权利要求7所述的方法，其中，所述水的pH保持在6至8之间。9.根据权利要求7所述的方法，其中，所述水的温度保持在35℃至45
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【专利技术属性】
技术研发人员：安东尼，
申请(专利权)人：韦奥公司，
类型：发明
国别省市：