【技术实现步骤摘要】
本技术有关于一种超导型电子元件散热盖,尤指一种应用于集成电路(CPU)或高热型电子元件的散热器的组成技术,其主要解决目前散热器底板成型凹槽的极限下,可以采用薄型散热片提高其散热效能,以及散热片与底板的结合技术。
技术介绍
由于科技的进步,集成电路和各种电子元件工艺的精进,使单位时间内进行运算本处理的速度也更加快速,相对的使产生的热量不断增加,为能解决集成电路产生的高温问题(例如现行Pentium 4系列工作温度约为摄民60度、AMD K7系列的工作温度则为摄氏80度左右)各散热器制造厂莫不投入大量的人力物力研发,期能有效提供为满足其散热需求,而散热问题主要解决的方式,其一是选用导热性佳的材料作为底板和散热片,例如由铝材改为铜材即是,另一则是在底板有限的面积上,尽可能定植更多的散热片,通过增加散热片的数量,增加其总体的散热面积,借此当设于散热片上方的风扇旋动气流对的吹袭时,可以有效降低其温升效应(如图1及图1A);然而就上述导热材的选用也不是说毫无限制的,除了要考量其材料的单价,更要评估其质地和加工的便利性。所以就目前高效率散热器采用者,概以铜材为最大宗;另,即使 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
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