温室灌溉控制方法、装置、系统及设备制造方法及图纸

技术编号:37349167 阅读:30 留言:0更新日期:2023-04-22 21:46
本发明专利技术提供一种温室灌溉控制方法、装置、系统及设备,涉及作物品种测试领域,该方法包括:获取温室中监测点的累积辐射值,根据每一栽培垄的中心位置与监测点在南北方向上的相对位置处理累积辐射值,确定每一栽培垄的累积辐射值;在任一栽培垄的累积辐射值大于预设光辐射值的情况下,生成灌溉指令,所述灌溉指令用于指示对所述栽培垄进行灌溉;所述栽培垄的垄长为东西朝向。本发明专利技术以东西垄向的布设方法对温室作物进行分区灌溉控制,以累计光辐射作为主要灌溉决策依据,动态调整各分区灌溉时机和灌水量,并利用动态规划方法调整灌溉顺序,保证灌溉均匀,以应对不同田畦间由光照差异、生长差异导致的对需水过程动态匹配的需求。生长差异导致的对需水过程动态匹配的需求。生长差异导致的对需水过程动态匹配的需求。

【技术实现步骤摘要】
温室灌溉控制方法、装置、系统及设备


[0001]本专利技术涉及自动灌溉领域,尤其涉及一种温室灌溉控制方法、装置、系统及设备。

技术介绍

[0002]目前,在东西方向的栽培垄中,每一垄所接收的光辐射存在差异,故不同垄间的作物耗水情况也表现出明显的差异,此时采用集中灌溉的方式会降低灌溉水的利用效率。

技术实现思路

[0003]本专利技术提供一种温室灌溉控制方法、装置、系统及设备,用以解决现有技术中在东西垄向种植中灌溉水利用率较低的技术缺陷,提供了一种分区灌溉,根据不同垄的累积辐射值进行按需灌溉的技术方案。
[0004]第一方面,本专利技术提供了一种温室灌溉控制方法,包括:获取温室中监测点的累积辐射值,根据每一栽培垄的中心位置与所述监测点在南北方向上的相对位置处理所述监测点的累积辐射值,确定每一栽培垄的累积辐射值;在任一栽培垄的累积辐射值大于预设光辐射值的情况下,生成灌溉指令,所述灌溉指令用于指示对所述栽培垄进行灌溉;所述栽培垄的垄长为东西朝向;所述预设光辐射值是根据栽培作物品种、栽培作物生育期以及栽培作物所处季节确定的。
[0005]根据本专利技术提供的温室灌溉控制方法,在获取温室中监测点的累积辐射值之前,还包括:根据温室中心区域上的任意一点确定所述监测点;所述温室中心区域是根据温室在东西方向上的中点,向南北方向延伸确定的。
[0006]根据本专利技术提供的温室灌溉控制方法,所述获取温室中监测点的累积辐射值,包括:获取第一时刻的第一总辐射值;间隔预设时长后,获取第二时刻的第二总辐射值;根据所述第一总辐射值、所述第二总辐射值以及所述预设时长确定温室中监测点的累积辐射值。
[0007]根据本专利技术提供的温室灌溉控制方法,所述根据每一栽培垄的中心位置与所述监测点在南北方向上的相对位置处理所述监测点的累积辐射值,确定每一栽培垄的累积辐射值,包括:对于任一栽培垄,获取所述栽培垄中心位置至温室后墙的第一距离,获取所述监测点到所述温室后墙的第二距离;根据所述第一距离以及所述第二距离确定距离差值,并根据所述距离差值以及温室南北方向的总长度确定相对比值;
根据所述相对比值、第一预设常数以及所述监测点的累积辐射值确定相对辐射值;根据当前时刻的时长比值、第二预设常数以及所述相对辐射值确定所述栽培垄的累积辐射值。
[0008]根据本专利技术提供的温室灌溉控制方法,所述生成灌溉指令,包括:获取温室环境信息,所述温室环境信息包括日平均气温以及相对湿度;根据所述日平均气温以及相对湿度确定温室作物的作物蒸散量;将所述作物蒸散量确定为预设灌溉量,根据所述预设灌溉量生成所述灌溉指令;所述灌溉指令用于指示根据所述预设灌溉量对所述栽培垄进行灌溉。
[0009]根据本专利技术提供的温室灌溉控制方法,在生成灌溉指令之后,还包括:获取所述栽培垄的累积灌溉量;在所述累积灌溉量大于或等于所述预设灌溉量的情况下,生成关闭指令;所述关闭指令用于指示停止对所述栽培垄进行灌溉。
[0010]第二方面,提供了一种温室灌溉控制装置,包括:确定单元:用于获取温室中监测点的累积辐射值,根据每一栽培垄的中心位置与所述监测点在南北方向上的相对位置处理所述监测点的累积辐射值,确定每一栽培垄的累积辐射值;生成单元:用于在任一栽培垄的累积辐射值大于预设光辐射值的情况下,生成灌溉指令,所述灌溉指令用于指示对所述栽培垄进行灌溉;所述栽培垄的垄长为东西朝向;所述预设光辐射值是根据栽培作物品种、栽培作物生育期以及栽培作物所处季节确定的。
[0011]第三方面,提供了一种灌溉控制系统,包括:温室以及温室后墙,所述温室内分布有东西垄向的多个栽培垄;在监测点位置固设有总辐射传感器,用于获取温室中监测点的累积辐射值;还包括所述的温室灌溉控制装置。
[0012]根据本专利技术提供的灌溉控制系统,还包括:固设于温室中心,南北方向设置的主管道,用于输送灌溉液;与所述主管道相连接的多个支管,用于实现灌溉液的分流;与每一支管相连接的滴灌带,用于实现对每一栽培垄的灌溉;固设于每一支管上的无线阀门控制器以及电磁阀,所述无线阀门控制器用于根据所述温室灌溉控制装置的指令控制所述电磁阀的开启以及关闭。
[0013]第四方面,本专利技术还提供一种电子设备,包括存储器、处理器及存储在所述存储器上并可在所述处理器上运行的计算机程序,所述处理器执行所述程序时实现所述的温室灌溉控制方法。
[0014]第五方面,本专利技术还提供一种非暂态计算机可读存储介质,其上存储有计算机程序,该计算机程序被处理器执行时实现如上述任一种所述温室灌溉控制方法。
[0015]本专利技术提供了一种温室灌溉控制方法、装置、系统及设备,旨在解决栽培垄的垄长为东西朝向的情况下,由于每条垄所受到的光辐射值不同,从而导致每条垄的需水量存在
差异的技术问题,通过获取监测点的累积辐射值,根据温室光照分布模型确定每一栽培垄的累积辐射值,从而在任一栽培垄的累积辐射值大于预设光辐射值的情况下,对所述栽培垄进行灌溉,本专利技术以东西垄向的布设方法对温室作物进行分区灌溉控制,以累计光辐射作为主要灌溉决策依据,动态调整各分区灌溉时机和灌水量,并利用动态规划方法调整灌溉顺序,保证灌溉均匀,以应对不同田畦间由光照差异、生长差异导致的对需水过程动态匹配的需求。
附图说明
[0016]为了更清楚地说明本专利技术或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作一简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图是本专利技术的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0017]图1是本专利技术提供的温室灌溉控制方法的流程示意图之一;图2是本专利技术提供的获取温室中监测点的累积辐射值的流程示意图;图3是本专利技术提供的确定每一栽培垄的累积辐射值的流程示意图;图4是本专利技术提供的生成灌溉指令的流程示意图;图5是本专利技术提供的温室灌溉控制方法的流程示意图之二;图6是本专利技术提供的温室灌溉控制装置的结构示意图;图7是本专利技术提供的灌溉控制系统的结构示意图之一;图8是本专利技术提供的灌溉控制系统的结构示意图之二;图9是本专利技术提供的灌溉控制系统的结构示意图之三;图10是本专利技术提供的电子设备的结构示意图。
具体实施方式
[0018]为使本专利技术的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本专利技术中的附图,对本专利技术中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本专利技术一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本专利技术保护的范围。
[0019]日光温室作为设施农业的重要形式,广泛应用与蔬菜生产,目前日光温室搭建方向主要为坐北朝南,以南北向作为主栽方向,存在垄向短、畦数多等特点,在南北向建设的日光温室中,由于被测后墙对阳光的遮挡,造成北侧作物耗水明显小于南侧作物,传统南北垄向的种植方法中,采用每垄相同的灌溉制度,容易造成北侧过剩南侧缺乏的灌水效果,不利于精准节水灌溉的实施。在实际生产过程中南北向开本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种温室灌溉控制方法,其特征在于,包括:获取温室中监测点的累积辐射值,根据每一栽培垄的中心位置与所述监测点在南北方向上的相对位置处理所述监测点的累积辐射值,确定每一栽培垄的累积辐射值;在任一栽培垄的累积辐射值大于预设光辐射值的情况下,生成灌溉指令,所述灌溉指令用于指示对所述栽培垄进行灌溉;所述栽培垄的垄长为东西朝向;所述预设光辐射值是根据栽培作物品种、栽培作物生育期以及栽培作物所处季节确定的。2.根据权利要求1所述的温室灌溉控制方法,其特征在于,在获取温室中监测点的累积辐射值之前,还包括:根据温室中心区域上的任意一点确定所述监测点;所述温室中心区域是根据温室在东西方向上的中点,向南北方向延伸确定的。3.根据权利要求1所述的温室灌溉控制方法,其特征在于,所述获取温室中监测点的累积辐射值,包括:获取第一时刻的第一总辐射值;间隔预设时长后,获取第二时刻的第二总辐射值;根据所述第一总辐射值、所述第二总辐射值以及所述预设时长确定温室中监测点的累积辐射值。4.根据权利要求1所述的温室灌溉控制方法,其特征在于,所述根据每一栽培垄的中心位置与所述监测点在南北方向上的相对位置处理所述监测点的累积辐射值,确定每一栽培垄的累积辐射值,包括:对于任一栽培垄,获取所述栽培垄中心位置至温室后墙的第一距离,获取所述监测点到所述温室后墙的第二距离;根据所述第一距离以及所述第二距离确定距离差值,并根据所述距离差值以及温室南北方向的总长度确定相对比值;根据所述相对比值、第一预设常数以及所述监测点的累积辐射值确定相对辐射值;根据当前时刻的时长比值、第二预设常数以及所述相对辐射值确定所述栽培垄的累积辐射值。5.根据权利要求1所述的温室灌溉控制方法,其特征在于,所述生成灌溉指令,包括:获取温室环境信息,所述温室环境信息包括日平均气温以及相对湿度;根据所述日平均气温以及相对湿度确定温室作物...

【专利技术属性】
技术研发人员:张钟莉莉张石锐李晶晶郑文刚黄媛史凯丽
申请(专利权)人:北京市农林科学院智能装备技术研究中心
类型:发明
国别省市:

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