【技术实现步骤摘要】
一种高分散制备PVA系熔体的方法
[0001]本专利技术涉及高分子材料加工
,具体涉及一种高分散制备PVA系熔体的方法。
技术介绍
[0002]PVA光学膜是目前唯一可以加工成具有偏光特性的功能性材料,其经染色、拉伸、上下覆膜后制成的偏光片,可广泛用于检测仪表、偏振显微镜、汽车头灯防眩目装置、LCD/OLED显示器、太阳镜、防眩护目镜以及照相机和摄影机镜前的偏振滤光片中。市场对偏光片的运用范围还在不断扩大,其所用的PVA光学膜的需求也在不断增加,因此PVA光学膜具有良好的市场发展前景。
[0003]目前PVA光学膜制备方法都是通过熔融PVA原料,然后经过流延或涂布制成膜再经干燥制成产品膜。但PVA的熔融温度和分解温度接近,使得熔融的同时发生分解反应,难于热塑加工。现有的做法是将原料PVA、增塑剂、水、表面活性剂和其他助剂在一定温度和压力下按一定比例混合,从而降低原料PVA的熔点和沸点,升高原料PVA的分解温度。目前的混合方式一般在双螺杆中进行混合熔解,再经过滤制备成PVA光学膜制膜熔液备用。
[0004 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种高分散制备PVA系熔体的方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤I:原料准备;步骤II:将表面活性剂和抗氧剂加入二级脱盐水中配制成第一溶液,然后向第一溶液中加入甘油,混合均匀形成第二溶液;步骤III:将乙二醇与二级脱盐水混合均匀,形成第三溶液;步骤IV:将乙二醇与二级脱盐水混合均匀,形成第四溶液;步骤V:熔融,将聚乙烯醇颗粒加入到挤出机中,调节挤出机温度及压力,将第二溶液加入到挤出机的第三段,将第三溶液加入到挤出机的第六段,将第四溶液加入到挤出机第九段,进行熔融,形成PVA系熔体。2.根据权利要求1所述的一种高分散制备PVA系熔体的方法,其特征在于:步骤V中,挤出机第三段的捏合块中,窄捏合块、中捏合块和宽捏合块的数量比为3
‑
4:1
‑
2:1,错列角度为45
‑
60
°
;挤出机第六段的捏合块中,窄捏合块、中捏合块和宽捏合块的数量比为1
‑
2:1
‑
2:1,错列角度为60
‑
75
°
;挤出机第九段的捏合块中,窄捏合块、中捏合块和宽捏合块的数量比为1:1
‑
2:2
‑
3,错列角度为75
‑
90
°
。3.根据权利要求2所述的一种高分散制备PVA系熔体的方法,其特征在于:步骤I中,称取以下质量分数的原料,聚乙烯醇100
‑
200份、二级脱盐水100
‑
400份、甘油12
‑
112份、乙二醇10
‑
100份、表面活性剂0.01
‑
8份、抗氧剂0.0005
‑
0.2份。4.根据权利要求3所述的一种高分散制备PVA系熔体的方法,其特征在于:步骤I中,聚乙烯醇的聚合度为2000
‑
40...
【专利技术属性】
技术研发人员:杨周玺,尹富强,吕惠霞,张环,朱灵玲,
申请(专利权)人:中国石化集团重庆川维化工有限公司,
类型:发明
国别省市:
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