一种珍珠层状结构的聚酰亚胺基电磁屏蔽薄膜及其制备方法与应用技术

本发明专利技术属于电磁屏蔽技术领域，本发明专利技术提供了一种珍珠层状结构的聚酰亚胺基电磁屏蔽薄膜及其制备方法与应用。该制备方法包括以下步骤：S1、将二胺单体、二酐单体和有机溶剂混合后进行反应得到油溶性聚酰胺酸；S2、将油溶性聚酰胺酸滴入水中进行沉淀得到样品；S3、将样品、三乙胺和水混合后得到聚酰胺酸溶液；S4、将聚酰胺酸溶液和MXene溶液混合后经干燥得到PAA/MXene复合膜；S5、对PAA/MXene复合膜进行热处理即得珍珠层状结构的聚酰亚胺基电磁屏蔽薄膜。本发明专利技术制备的产品具有优异的电磁干扰屏蔽性能、机械性能和热稳定性能，在恶劣环境下依旧可以保持较高且稳定的电磁屏蔽效果，具有广阔的应用前景。阔的应用前景。阔的应用前景。

【技术实现步骤摘要】
一种珍珠层状结构的聚酰亚胺基电磁屏蔽薄膜及其制备方法与应用


[0001]本专利技术涉及电磁屏蔽
，尤其涉及一种珍珠层状结构的聚酰亚胺基电磁屏蔽薄膜及其制备方法与应用。

技术介绍

[0002]随着5G时代的到来，大量的高频率、大功率电子设备被广泛应用在生活各处，由此产生的电磁波干扰(EMI)或辐射日益严重。大量的电磁波不仅会严重影响精密电子仪器的正常功能和使用寿命，而且对人体健康也有一定的危害。因此，亟需开发高性能电磁干扰屏蔽材料来解决上述问题。
[0003]传统的金属电磁屏蔽材料，如铜、铁、银等由于导电性能好，已被广泛应用于电磁污染防治。但其密度高，难加工和不耐腐蚀性限制了其应用。近年来，碳基纳米材料，如石墨烯、还原氧化石墨烯、碳纳米管、炭黑等，因其具有低密度和耐腐蚀性等优点，被认为是优异的EMI屏蔽材料。然而，碳系填料难以分散和低EMI屏蔽能力限制了它们的应用范围。与金属材料和碳材料相比，二维层状过渡金属碳化物、氮化物或碳氮化物(MXene)由于其突出的导电性、亲水性和化学活性，有望成为下一代高性能EMI屏蔽材料，近些年来受到了本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种珍珠层状结构的聚酰亚胺基电磁屏蔽薄膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：S1、将二胺单体、二酐单体和有机溶剂混合后进行反应得到油溶性聚酰胺酸；S2、将油溶性聚酰胺酸滴入水中进行沉淀得到样品；S3、将样品、三乙胺和水混合后得到聚酰胺酸溶液；S4、将聚酰胺酸溶液和MXene溶液混合后经干燥得到PAA/MXene复合膜；S5、对PAA/MXene复合膜进行热处理即得珍珠层状结构的聚酰亚胺基电磁屏蔽薄膜。2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述步骤S1中，二胺单体为苯二胺、间苯二胺、二氨基二苯砜、4,4'
‑
二氨基二苯醚、3,3'
‑
二甲基
‑
4,4'二氨基二苯甲烷、二甲基
‑
5,5'
‑
3,7'二苯并噻吩二胺、1,4
‑
双(4
‑
氨基
‑2‑
三氟甲基苯氧基)苯、4,4双(4
‑
氨基
‑2‑
三氟甲基苯氧基)联苯和1,3,5
‑
三(2
‑
三氟甲基
‑4‑
氨基苯氧基)苯中的一种或几种；二酐单体为4,4'
‑
联苯醚二酐、联苯四甲酸二酐、1,2,4,5
‑
均苯四甲酸二酐、3,3'
‑
4,4'
‑
二苯酮四酸二酐、双酚
‑
A二醚二酐、4,4
‑
氧双邻苯二甲酸酐、1,2,4,5
‑
环己烷四酸二酐、3,3'
‑
4,4'
‑
双环己烷四酸二酐和2,2'
...

【专利技术属性】
技术研发人员：林宇，谈斌喆，罗琨，
申请(专利权)人：华东理工大学，
类型：发明
国别省市：