【技术实现步骤摘要】
故障定位方法、装置、电子设备及存储介质
[0001]本申请涉及故障检测领域,尤其涉及一种故障定位方法、装置、电子设备及存储介质。
技术介绍
[0002]在半导体生产中,刻蚀设备可用于生成制作半导体的晶圆。在生产过程中。刻蚀设备的运行状态对晶圆的制备影响重大。刻蚀设备成本高,如何提高刻蚀设备维修效率、降低刻蚀设备故障停机时间是提高半导体生产效率,以及控制半导体生产成本的重要途径。
[0003]刻蚀的一般过程包括硅片吸附、气体流量与腔室压力调节、预刻蚀、主刻蚀、过刻蚀和腔室清洗等步骤。为确保安全生产和产品质量的一致性,需要对刻蚀过程进行质量监控和故障检测。为了监控生产过程,刻蚀设备中往往设置众多传感器以采集腔室压力、气体流量、温度、功率以及光谱信号等监控变量的实时数据。
[0004]目前,针对刻蚀设备故障检测的方法有以下几种,一类是将发生报警的晶圆标记为反例,未报警的晶圆标记为正例,通过算法,对晶圆进行分类,从而计算出不同传感器的权重大小。权重大的传感器视为异常传感器。另一类是通过算法,找到离群的晶圆,并通过距离 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种故障定位方法,其特征在于,包括:获取目标设备的多个传感器参数和报警信息;在所述多个传感器参数中确定出异常传感器信息;将所述异常传感器信息与所述报警信息进行拼接处理,得到报警语句;将所述报警语句输入语言模型,得到所述目标设备的故障部件信息,所述语言模型通过训练报警语句和对应的部件信息得到。2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,在所述多个传感器参数中确定出异常传感器信息,包括:基于随机森林回归算法,对所述多个传感器参数进行处理,得到每个传感器参数的权重;根据所述多个传感器参数以及所述每个传感器参数的权重,确定出异常传感器信息。3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,根据所述多个传感器参数以及所述每个传感器参数的权重,确定出异常传感器信息,包括:对所述每个传感器参数的权重进行归一化处理,得到每个传感器参数的归一化权重;将所述多个传感器参数作为样本、以及将所述每个传感器参数的归一化权重作为采样概率,对所述多个传感器参数进行有放回的采样,将采样结果进行拼接处理,得到所述异常传感器信息。4.根据权利要求3任一项所述的方法,其特征在于,将所述报警语句输入语言模型,得到所述目标设备的故障部件信息,包括:根据所述报警语句生成报警语句的词向量;将所述报警语句的词向量输入语言模型,得到故障部件的编码;对所述故障部件的编码进行解码处理,得到所述目标设备的故障部件信息。5.根据权利要求1
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4任一项所述的方法,其特征在于,所述方法还包括:获取所述训练报警语句和对应的部件信息;根据所述训练报警语句生成训练报警语句的词向量,对对应的部件信息进行编码处理,得到对应部件的编码;通过所述训练报警语句的词向量和所述对应部件的编码进行模型训练,直至模型准确度收敛,则得到所述语言模型。6.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,获取目标设备的多个传感器参数,包括:获取所述目标设备下的多个待筛选传感器参数,所述多个待筛选传感器参数包括多个组成特征,每个组成特征有对应的占比系数;基于降维算法,对所述多个待筛选传感器参数进行筛选处理,删除占比系数小于阈值的组成特征,得到所述多个传感器参数。7.根据权利要求6所述的方法,其特征在于,所述待筛选传感器参数包括统计参数、时段参数以及累计参数;获取所述目标设备下的多个待筛选传感器参数,包括:确定多个预设时刻,根据所述多个预设时刻确定时段参数;获取所述目标设备在预设多个时刻下的多个传感器数据;对所述多个传感器数据进行统计学处理,得到所述统计参数;根据所述多个传感器数据以及所述时段参数,得到所述累计参数;
将所述统计参数、所述时段参数以及所述累计参数确定为所述待筛选传感器参数。8.一种故障定位装置,其特征在于,包括:获...
【专利技术属性】
技术研发人员:李楚文,李琛,周涛,刁许玲,
申请(专利权)人:上海集成电路研发中心有限公司,
类型:发明
国别省市:
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