烘干槽、烘干装置以及清洗设备制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及晶圆槽式清洗技术领域，具体涉及烘干槽、烘干装置以及清洗设备，包括槽体和烘干组件，所述烘干组件设置在槽体周侧上方，所述槽体内置有工件和清洗液，待所述工件被提出所述清洗液面时，所述烘干组件用于烘干所述工件的表面。本实用新型专利技术槽体可直接作为最后一道清洗，同时实现慢提脱水烘干功能，无需独立设置烘干槽。槽体配合红外灯管、晶圆升降机构，在晶圆缓慢提升离开清洗槽水面的过程中，通过红外灯管的红外光线聚焦到晶圆出水面，减小晶圆出水面处的水的表面张力。晶圆升降机构可以实现晶圆的调速升降。降机构可以实现晶圆的调速升降。降机构可以实现晶圆的调速升降。

【技术实现步骤摘要】
烘干槽、烘干装置以及清洗设备


[0001]本技术涉及晶圆槽式清洗
，具体涉及一种烘干槽、烘干装置以及清洗设备。

技术介绍

[0002]在光伏硅片和半导体晶圆的清洗工艺中，需要对晶圆的表面进行多道处理工艺，包括蚀刻、清洗等湿式处理程序，常选用的设备为槽式清洗设备。
[0003]槽式清洗设备主要是通过施加不同的化学液体对晶圆表面进行处理，然后进行水洗，最后烘干。随着槽式清洗设备的发展，对晶圆烘干的速度要求越来越高，对烘干的安全性要求也逐渐提高。
[0004]现有的槽式设备烘干方式，烘干方式基本为氮气烘干、IPA烘干、微波烘干、加热灯管光照烘干等等。现有的这几种烘干方式，有烘干时间长、安全性差、高耗能等缺点。

技术实现思路

[0005]本技术的目的是克服现有技术的缺陷，提供一种晶圆烘干装置。
[0006]实现本技术目的的技术方案是：一种烘干槽，包括槽体和烘干组件，所述烘干组件设置在槽体周侧上方，所述槽体内置有工件和清洗液，待所述工件被提出所述清洗液面时，所述烘干组件用于烘干所述工件的表面。
[0007本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种烘干槽，其特征在于：包括槽体(2)和烘干组件，所述烘干组件设置在槽体(2)周侧上方，所述槽体(2)内置有工件和清洗液，待所述工件被提出所述清洗液面时，所述烘干组件用于烘干所述工件的表面。2.根据权利要求1所述的一种烘干槽，其特征在于：所述烘干组件包括红外灯管(21)以及罩设在所述红外灯管(21)外侧的可调灯罩(23)。3.根据权利要求2所述的一种烘干槽，其特征在于：所述可调灯罩(23)包括两个罩盖(232)，所述罩盖(232)中部设有条形槽(233)，所述红外灯管(21)的两端与所述条形槽(233)滑动连接；还包括第一弧形板(231)和第二弧形板(235)，所述罩盖(232)周侧设有两条弧形槽(234)，第一弧形板(231)和第二弧形板(235)分别与所述弧形槽(234)滑动连接，以使所述第二弧形板(235)的内侧与所述第一弧形板(231)的外侧部分重合。4.根据权利要求1所述的一种烘干槽，其特征在于：所述槽体(2)包括主槽(201)和设置主槽(201)外部的副槽(202)，所述主槽(201)内设有加热器(25)，所述副槽外侧设有抽风管(24)。5.一种烘干装置，包括主机机架(1)，其特征在于：...

【专利技术属性】
技术研发人员：左国军，谈丽文，成旭，
申请(专利权)人：常州捷佳创精密机械有限公司，
类型：新型
国别省市：