【技术实现步骤摘要】
一种W波段的双圆极化玻璃基阵列天线及其馈电方法
[0001]本专利技术涉及阵列天线
,尤其涉及一种W波段的双圆极化玻璃基阵列天线及其馈电方法。
技术介绍
[0002]毫米波相控阵由于天线等结构较小,往往需要更为精细的加工工艺,国内外此类天线的主要实现是硅基或者PCB(印制电路板)介质。在毫米波天线系统中通常都是将天线与后端的芯片进行集成,因此设计的难度在于系统的集成与封装,天线结构往往都是采用简单的贴片天线等形式。
[0003]现有天线存在的缺点:
[0004]1)基于硅基的天线阵,介电常数高,工作带宽和扫描性能受限。
[0005]2)基于PCB介质的天线阵,仅适用于一维天线阵,阵列规模和扫描角度受限。
[0006]因此,针对现有阵列天线的工作带宽和扫描角度受限的问题,需要提供一种新的阵列天线。
技术实现思路
[0007]鉴于上述的分析,本专利技术旨在提供一种W波段的双圆极化玻璃基阵列天线及其馈电方法,用以解决现有阵列天线工作带宽和扫描性能受限的问题。
[0008 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种W波段的双圆极化玻璃基阵列天线,其特征在于,包括多个阵列分布的双圆极化天线单元(1);所述双圆极化天线单元(1)包括:辐射层和馈电层;所述辐射层包括:第一层介质(11)和第二层介质(12);所述馈电层包括:第三层介质(13)和第四层介质(14);所述辐射层设有多个第一金属过孔(15),所述馈电层设有多个第二金属过孔(16);所述第一层介质(11)的上表面和第二层介质(12)的上表面均设有微带贴片;所述第三层介质(13)的上表面设有第三金属地板(131),所述第三金属地板(131)上设有H形缝隙;所述H形缝隙有两个,分别为:第一H形缝隙(132)和第二H形缝隙(133);所述第四层介质(14)的上表面设有耦合微带线;所述耦合微带线包括第一耦合微带线(142)和第二耦合微带线(143);所述第四层介质(14)的下方设有同轴馈电内芯和同轴馈电外壳;所述同轴馈电内芯贯穿所述第四层介质(14),且所述同轴馈电内芯的上端连接耦合微带线,下端连接馈电端口。2.根据权利要求1所述的W波段的双圆极化玻璃基阵列天线,其特征在于,所述第一层介质(11)的上表面还设有第一金属地板(111);所述第一金属地板(111)为L形,且设置在第一层介质(11)上表面的四个角上。3.根据权利要求2所述的W波段的双圆极化玻璃基阵列天线,其特征在于,所述第二层介质(12)的上表面还设有第二金属地板(121);所述第二金属地板(121)为L形,且设置在第二层介质(12)上表面的四个角上。4.根据权利要求1
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3任一项所述的W波段的双圆极化玻璃基阵列天线,其特征在于,所述微带贴片包括:第一微带贴片(112)和第二微带贴片(122);所述第一微带贴片(112)设置在所述第一层介质(11)的上表面;所述第二微带贴片(122)设置在第二层介质(12)的上表面。5.根据权利要求4所述的W波段的双圆极化玻璃基阵列天线,其特征在于,所述第一微带贴片(112)和第二微带贴片(122)均设有切角;所述第二微带贴片(122)的中心设有方孔(123)。6.根据权利要求5所述的W波段的双圆极化玻璃基阵列天线,其特征在于,所述同轴馈电内芯包括:第一同轴馈电内芯(171)和第二同轴馈电内芯(181);所述同...
【专利技术属性】
技术研发人员:欧阳建生,康育贵,胡锐,
申请(专利权)人:广东越新微系统研究院,
类型:发明
国别省市:
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