【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】本专利技术涉及一种用于电磁波屏蔽的构造，特别是一种由金属网和量子阱对称结构的光学复合薄膜构成的可见区域透明的电磁屏蔽观察窗。 在本专利技术中，所述的单层或多层的金属丝网的特征在于任一层金属丝网由单组拉直或多组拉直的金属细丝构成，每组金属细丝中的任意两根金属细丝都在同一平面内且彼此平行，任意一组金属细丝中的任意一根金属细丝到另一组金属丝所处平面的投影与该组金属丝的取向夹角在大于0小于180度之间，所述的任意一组金属细丝中的任意相邻两金属细丝之间的距离在0.3毫米到50毫米，所述的金属细丝的直径在0.005毫米到5毫米之间。材料采用导电性能良好的金属或者合金，如金、银、铜、铝、不锈钢等，每根金属细丝的两端都达到或者超过相应窗口所在的位置而完全覆盖窗口。 本专利技术中所述的金属介电复合薄膜完全覆盖于透明的衬底材料上，所述的金属介电复合薄膜和已有技术中的微波腔体材料零间隙复合，其结构类似于半导体量子阱结构，所述的金属介电复合薄膜由对称放置的两个诱导层和中间的功能层构成，所述的对称放置在功能层两边的诱导层分别为透明的双层介质薄膜衬底，其结构和各层薄膜的排列分别如A1B1和...
【技术保护点】
一种电磁屏蔽观察窗，设置在已有技术中的微波腔体上，其特征在于：所述的电磁屏蔽观察窗由单层或多层的金属丝网以及单层或多层的光学薄膜构成，所述的光学薄膜和微波腔体零间隙复合，所述的光学薄膜由对称放置的两个诱导层和中间的功能层构成，所述的对称放置在功能层两边的诱导层分别为透明的双层介电介质或半导体薄膜衬底，所述的功能层为单层金属膜或者含有多层金属膜的金属介电介质多层膜，所述的金属丝网由至少两组金属细丝构成，其中任意一组金属细丝中相邻的两根金属细丝之间的垂直距离小于等于所述的微波腔体中使用的最小截止微波波长的１／２倍，所述的金属丝网与所述的光学薄膜复合。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种电磁屏蔽观察窗，设置在已有技术中的微波腔体上，其特征在于所述的电磁屏蔽观察窗由单层或多层的金属丝网以及单层或多层的光学薄膜构成，所述的光学薄膜和微波腔体零间隙复合，所述的光学薄膜由对称放置的两个诱导层和中间的功能层构成，所述的对称放置在功能层两边的诱导层分别为透明的双层介电介质或半导体薄膜衬底，所述的功能层为单层金属膜或者含有多层金属膜的金属介电介质多层膜，所述的金属丝网由至少两组金属细丝构成，其中任意一组金属细丝中相邻的两根金属细丝之间的垂直距离小于等于所述的微波腔体中使用的最小截止微波波长的1/2倍，所述的金属丝网与所述的光学薄膜复合。2.如权利要求1所述的一种电磁屏蔽观察窗，其特征在于所述的金属丝网由一组或多组拉直的金属细丝构成。3.如权利要求1所述的一种电磁屏蔽观察窗，其特征在于所述的任意一组金属细丝中的任意两根金属细丝都处于同一平面内且彼此平行。4.如权利要求1所述的一种电磁屏蔽观察窗，其特征在于所述的任意一组金属细丝中的任意一根金属细丝到另一组金属丝所处平面的投影与该组金属丝的取向夹角在大于0小于180度之间。5.如权利要求1所述的一种电磁屏蔽观察窗，其特征在于所述的金属细丝的直径为0.005毫米到5毫米。6，如权利要求1所述的一种电磁屏蔽观察窗，其特征在于所述的任意一组金属细丝中的任意相邻两金属细丝之间的距离在0.3毫米到50毫米。7.如权利要求1所述的一种电磁屏蔽观察窗，其特征在于所述的任意一组金属丝至少与另一组金属丝垂直。8.如权利要求1所述的一种电磁屏蔽观察窗，其特征在于构成金属丝网的材料为金。9.如权利要求1所述的一种电磁屏蔽观察窗，其特征在于构成金属丝网的材料为银。10.如权利要求1所述的一种电磁屏蔽观察窗，其特征在于构成金属丝网的材料为铜。11.如权利要求1所述的一种电磁屏蔽观察窗，其特征在于构成金属丝网的材料为铝。12.如权利要求1所述的一种电磁屏蔽观察窗，其特征在于构成金...
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