一种复合薄膜的制备方法及薄膜技术

技术编号:37308503 阅读:23 留言:0更新日期:2023-04-21 22:52
本发明专利技术公开了一种复合薄膜的制备方法及薄膜,应用于复合薄膜制备技术领域,包括:在前驱体溶液中添加碳纳米管,形成混合溶液;在基板的牺牲层表面设置混合溶液,固化后形成复合薄膜;对附着在基板表面的复合薄膜进行应力释放,得到待分离样品;将待分离样品沿倾斜角度浸入湿法腐蚀溶液,去除牺牲层,使复合薄膜与基板分离,至复合薄膜漂浮于湿法腐蚀溶液表面;通过清洗液清洗分离后的复合薄膜,晾干后制成复合薄膜。通过释放其应力,可以避免在后续分离步骤中因为应力造成复合薄膜的破裂;之后将待分离样品以倾斜角度浸入湿法腐蚀溶液,可以避免溶液对薄膜的破坏,且使得复合薄膜在分离时可以具有完整,平整的结构。平整的结构。平整的结构。

【技术实现步骤摘要】
一种复合薄膜的制备方法及薄膜


[0001]本专利技术涉及复合薄膜制备
,特别是涉及一种复合薄膜的制备方法以及一种复合薄膜。

技术介绍

[0002]PI(Polymide,聚酰亚胺)薄膜具有优异的机械性能、热稳定性和电学特性,非常适合应用在热探测器和热辐射器中作为像元的基本材质。例如可见光/红外转换薄膜,一种红外场景生成器件,需要依赖大尺寸自悬浮PI薄膜作为像元阵列的基底,实现对高分辨率可见光图像的热吸收,然后二次辐射高分辨率红外图像,已成功应用于红外成像制导半实物仿真系统试验中。但PI薄膜具有较高的透明度,需要额外的光吸收层进行光



光转换。虽然当前已有多种宽波段高吸收材料可以制备在PI薄膜上,例如超材料、纳米锥、多孔金属薄膜等。但超材料需要使用电子束刻蚀技术,工艺价格昂贵,目前难以在PI薄膜上大面积集成。纳米锥具有粗糙的表面,可以抑制宽波段电磁波反射,但是需要较高的厚度不适用于对热质量有较高要求的像元。多孔金属薄膜采用热蒸发技术制备,虽然热质量较小,但机械性能较差,长时间光照升温会引发脱落。因此本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种复合薄膜的制备方法,其特征在于,包括:在前驱体溶液中添加碳纳米管,形成混合溶液;在基板的牺牲层表面设置所述混合溶液,固化后形成复合薄膜;对附着在基板表面的复合薄膜进行应力释放,得到待分离样品;将所述待分离样品沿倾斜角度浸入湿法腐蚀的溶液,去除所述牺牲层,使所述复合薄膜与所述基板分离,至所述复合薄膜漂浮于所述湿法腐蚀溶液表面;通过清洗液清洗分离后的所述复合薄膜,晾干后制成所述复合薄膜。2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述通过清洗液清洗分离后的所述复合薄膜,晾干后制成所述复合薄膜包括:通过去离子水清洗分离后的所述复合薄膜;沿垂直方向从所述去离子水中将所述复合薄膜提拉出,晾干后制成所述复合薄膜。3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,在所述对附着在基板表面的复合薄膜进行应力释放,得到待分离样品之后,还包括:沿所述待分离样品边缘划刻所述复合薄膜。4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述对附着在基板表面的复合薄膜进行应力释放,得到待分离样品包括:对附着在基板表面的复合薄膜加热进行应力释放,并自然恢复至室温,得到待分离样品。5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,所述牺牲层为二氧化硅层,所述湿法腐蚀的溶液为氢氟酸溶液。6.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,在设置于基板的牺牲层表面设置所述混合溶液,固化后形成复合薄膜之后,还包括:对所述复合薄膜进行图案化。7.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述碳纳米管为短多壁碳纳米管。8.根据权利要求7所述的方法,其特征在于,所述在前驱体溶液中添加短多壁碳纳米管,形成混合溶液的步骤包括:对所述短多壁碳纳米管进行表面处理,以增加所述短多壁碳纳米管与聚酰亚胺基体之间的结合键;将经过表面处理的短多壁碳纳米管添加...

【专利技术属性】
技术研发人员:周朗郭芬
申请(专利权)人:山东云海国创云计算装备产业创新中心有限公司
类型:发明
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1