一种实现DMD多路复用的分区同时直写曝光系统技术方案

本实用新型专利技术公开了一种实现DMD多路复用的分区同时直写曝光系统，包括：光源、照明系统、数字微镜阵列、反射镜组、导光系统、投影系统等组成部分。本方案通过将数字微镜阵列设置成沿扫描方向分区的N个DMD子阵列，配合反射镜组和导光系统输出多个图像分区光路，每一个分区的光进入不同的第一反射镜，导光系统分别将光路进行调整并以一定的方式排列，经调整后进入到各个投影系统中，最终在工作平面呈现多个由同一片DMD投影出的拼接图像,从而可以仅用一片DMD分区完成多路同时曝光，充分利用了DMD的每一个像素，节省传统直写曝光系统的多个DMD设备成本。备成本。备成本。

【技术实现步骤摘要】
一种实现DMD多路复用的分区同时直写曝光系统


[0001]本技术涉及直写曝光系统领域，尤其是一种实现DMD多路复用的分区同时直写曝光系统。

技术介绍

[0002]当前激光直写系统，一台激光直写设备由多个DMD及投影系统以一定排列方式拼接并同时进行曝光，采用扫描的工作方式对目标点进行重复曝光，其中一片DMD(数字微镜)对应一套投影系统。当前主要的直写系统中，即使采用重复曝光，也不需要使用DMD过多的“行”，只使用其中部分“行”像素，例如256行像素和512行像素，是通行做法。实际上，“行”数增加，装载数据所用的时间也会相应增加，既没有提升分辨，又降低了产能，而激光直写设备中DMD的成本占比非常高，不能完全利用DMD的每一个像素，是当前直写系统中的一大弊端。

技术实现思路

[0003]本技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本技术要解决的技术问题是提供一种实现DMD多路复用的分区同时直写曝光系统，能够只使用单个DMD来降低激光直写设备的制造成本。
[0004]根据本技术实施例的一种实现DMD多路复用的分区同时直写曝光系统，包括：光源，用于输出初始光线；照明系统，与所述光源的输出端连接，用于对所述初始光线进行预处理以满足曝光要求；数字微镜阵列，设置于所述照明系统的输出侧，所述数字微镜阵列包括沿扫描方向分区的N个DMD子阵列，N个所述DMD子阵列分别对应待曝光图像的N个不同区域且其出光方向垂直于扫描平面；反射镜组，包括N
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1个第一反射镜，N
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1个所述第一反射镜分别对应反射N
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1个所述DMD子阵列的输出光线；导光系统，包括N
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1个导光模块，N
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1个所述导光模块分别与N
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1个所述第一反射镜一一对应；投影系统，包括N个投影模块，其中1个所述投影模块对应1个输出光线直投的DMD子阵列，其余N
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1个投影模块对应接收N
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1个所述导光模块的输出光线；所述投影系统用于将所述输出光线转换成投影光，并作用于工作平面。
[0005]根据本技术实施例的一种实现DMD多路复用的分区同时直写曝光系统，至少具有如下有益效果：本方案通过将数字微镜阵列设置成沿扫描方向分区的N个DMD子阵列，配合反射镜组和导光系统输出多个图像分区光路，每一个分区的光进入不同的第一反射镜，导光系统分别将光路进行调整并以一定的方式排列，经调整后进入到各个投影系统中，最终在工作平面呈现多个由同一片DMD投影出的拼接图像,从而可以仅用一片DMD分区完成多路同时曝光，充分利用了DMD的每一个像素，节省传统直写曝光系统的多个DMD设备成本。
[0006]根据本技术的一些实施例，N个所述DMD子阵列为控制待曝光图像的发生时相互独立的DMD子阵列。
[0007]根据本技术的一些实施例，N个所述DMD子阵列与扫描方向保持特定倾斜角。
[0008]根据本技术的一些实施例，N个所述DMD子阵列之间设置有空白间隙行数。
[0009]根据本技术的一些实施例，N个所述DMD子阵列与N个投影模块之间的相对位置固定。
[0010]根据本技术的一些实施例，所述光源采用激光器或LED光源。
[0011]根据本技术的一些实施例，所述照明模块包括依次设置的光棒、照明透镜，所述光棒通过光纤连接所述光源的输出端。
[0012]根据本技术的一些实施例，N个所述导光模块为第二反射镜或棱镜。
[0013]本技术的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本技术的实践了解到。
附图说明
[0014]本技术的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：
[0015]图1是本技术实施例的分区同时直写曝光系统原理图；
[0016]图2是本技术实施例的分区同时直写曝光系统立体图；
[0017]图3是本技术实施例的分区同时直写曝光系统光路图；
[0018]图4是本技术实施例的分区同时直写曝光系统光路仿真图；
[0019]图5是本技术实施例的分区同时直写曝光系统偏转分区效果图。
具体实施方式
[0020]下面详细描述本技术的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本技术，而不能理解为对本技术的限制。
[0021]在本技术的描述中，需要理解的是，涉及到方位描述，例如上、下、前、后、左、右等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。
[0022]本技术的描述中，除非另有明确的限定，设置、安装、连接等词语应做广义理解，所属
技术人员可以结合技术方案的具体内容合理确定上述词语在本技术中的具体含义。
[0023]针对传统激光直写曝光系统是由多个DMD及投影系统以一定排列方式拼接同时进行曝光，采用扫描的工作方式对目标点进行重复曝光，未能完全利用DMD的每一个像素，造成了成本和性能的流失问题，特提出以下技术方案。
[0024]如图1、图2所示，为本技术的一种实现DMD多路复用的分区同时直写曝光系统，包括：光源100、照明系统200、数字微镜阵列300、反射镜组400、导光系统500、投影系统600等主要组成部分。
[0025]其中，光源100用于输出初始光线；照明系统200与光源100的输出端连接，用于对初始光线进行预处理以满足曝光要求；数字微镜阵列300设置于照明系统200的输出侧，包
括沿扫描方向分区的N个DMD子阵列，N个DMD子阵列分别对应待曝光图像的N个不同区域且其出光方向垂直于扫描平面；反射镜组400包括N
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1个第一反射镜，N
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1个第一反射镜分别对应反射N
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1个DMD子阵列的输出光线；导光系统500包括N
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1个导光模块，N
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1个导光模块分别与N
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1个第一反射镜一一对应；投影系统600包括N个投影模块，其中1个投影模块对应1个输出光线直投的DMD子阵列，其余N
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1个投影模块对应接收N
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1个导光模块的输出光线，投影系统600用于将输出光线转换成投影光，并作用于工作平面700。
[0026]在本实施例中，以N等于4为例，工作时，光源100输出初始光线，经过照明系统200的预处理以满足曝光要求，预处理后的光线出射至数字微镜阵列300(DMD)，4个DMD子阵列分别上位本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种实现DMD多路复用的分区同时直写曝光系统，其特征在于，包括：光源，用于输出初始光线；照明系统，与所述光源的输出端连接，用于对所述初始光线进行预处理以满足曝光要求；数字微镜阵列，设置于所述照明系统的输出侧并用于控制待曝光图像的发生，所述数字微镜阵列包括沿扫描方向分区的N个DMD子阵列，N个所述DMD子阵列分别对应待曝光图像的N个不同区域且其出光方向垂直于扫描平面；反射镜组，包括N
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1个第一反射镜，N
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1个所述第一反射镜分别对应反射N
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1个所述DMD子阵列的输出光线；导光系统，包括N
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1个导光模块，N
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1个所述导光模块分别与N
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1个所述第一反射镜一一对应；投影系统，包括N个投影模块，其中1个所述投影模块对应1个输出光线直投的DMD子阵列，其余N
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1个投影模块对应接收N
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1个所述导光模块的输出光线；所述投影系统用于将所述输出光线转换成投影光...

【专利技术属性】
技术研发人员：周朝阳，
申请(专利权)人：深圳光迪科技有限公司，
类型：新型
国别省市：