一种高精度接近开关激光调修方法及系统技术方案

本申请提供一种高精度接近开关激光调修方法及系统，其中该方法包括：采集高精度接近开关的闭合参数值，根据高精度接近开关的闭合参数偏差，判断高精度接近开关需要的调修模式；若判断结果为高偏差调修模式，在灵敏度控制电阻的电流传输面上添加同族金属粉末，控制恒定激光源金属熔覆接近开关的灵敏度控制电阻的电流传输面表面，以改变灵敏度控制电阻阻值，开环调修接近开关的闭合参数；若判断结果为低偏差调修模式，控制恒定激光源汽化接近开关的灵敏度控制电阻表面，并根据反馈的闭合参数调整激光调修的汽化路径，闭环调修接近开关的闭合参数，实现针对高精度接近开关的闭合参数进行调修，且能方便快捷的实现高精度接近开关的调修需求。关的调修需求。关的调修需求。

【技术实现步骤摘要】
一种高精度接近开关激光调修方法及系统


[0001]本申请涉及接近开关
，更具体的说，本申请涉及一种高精度接近开关激光调修方法及系统。

技术介绍

[0002]接近开关是一种无需与运动部件进行机械直接接触而可以操作的位置开关，其特点是当物体逼近接近开关的感应面到执行动作距离时，不需要机械接触及施加任何压力即可使开关动作，从而驱动直流电器或给计算机装置提供控制指令，常用的接近开关通常利用位移传感器对接近物体的敏感特性，当物体距离接近开关一定距离时可以实现对接近开关的通断控制。
[0003]在航空航天，军工制造等领域，对接近开关的性能要求很高，一般需要采用高精度接近开关，但高精度接近开关在长时间的使用中容易积累误差，出现零漂或是灵敏度偏移等误差问题，若误差积累到一定程度就需要更换接近开关或是对其进行调修。
[0004]现有的接近开关调修技术方案是根据接近开关阻抗参数确定接近开关的灵敏度偏差，进而根据接近开关的灵敏度偏差确定灵敏度控制电阻需要改变的阻值后，调节接近开关中的灵敏度控制电阻阻值，实现接近开关的调修，但本申请专利技术人在实现本申请实施例的技术方案的过程中，发现上述现有技术至少存在如下技术问题：现有的接近开关调修方法中需要依赖精确的接近开关阻抗参数才能实现调修，但在接近开关存在老化、零漂引起未知的阻抗参数变化时，由于确定接近开关的灵敏度偏差依赖精确的接近开关阻抗参数，则无法精确确定接近开关的灵敏度偏差，进而无法精确确定灵敏度控制电阻需要的电阻改变，难以精确达到需要的高精度接近开关精度；现有的接近开关调修方法中改变灵敏度控制电阻的方式是采用笨重的电机切割调阻，无法方便快捷的实现高精度接近开关的调修需求。

技术实现思路

[0005]本申请要解决的技术问题是提供一种高精度接近开关调修方法及系统，无需依赖精确的接近开关阻抗参数就能够针对高精度接近开关的闭合参数进行调修，且能方便快捷的满足高精度接近开关的调修需求。
[0006]为解决所述技术问题，本申请采用如下技术方案：第一方面，本申请提供一种高精度接近开关激光调修方法，其包括：采集高精度接近开关的闭合参数值；将所述闭合参数值与接近开关的标准闭合参数值进行比对，确定接近开关的闭合参数偏差矩阵；将所述闭合参数偏差矩阵与预设的接近开关调修阈值进行比较，判断接近开关所需的调修模式；若判断结果为高偏差调修模式，则根据所述闭合参数偏差矩阵，确定灵敏度控制
电阻调修量，根据所述灵敏度控制电阻调修量，在灵敏度控制电阻的电流传输面上添加同族金属粉末，控制恒定激光源金属熔覆该灵敏度控制电阻的电流传输面上添加的同族金属粉末，得到金属熔覆后改变的灵敏度控制电阻阻值，根据改变后的灵敏度控制电阻阻值，开环调修接近开关的闭合参数；若判断结果为低偏差调修模式，则根据所述闭合参数偏差矩阵，确定激光调修的汽化路径，根据所述汽化路径，对灵敏度控制电阻进行表面汽化，在汽化过程中通过预设的反馈回路实时反馈接近开关的闭合参数，根据反馈的闭合参数重新调整激光调修的汽化路径，通过汽化对接近开关的闭合参数进行控制，闭环调修接近开关的闭合参数。
[0007]在一些实施例中，还可以包括：将开环调修后的接近开关的闭合参数值与接近开关的标准闭合参数值进行比对，重新确定接近开关的闭合参数偏差矩阵；将重新确定的闭合参数偏差矩阵与预设的接近开关调修阈值进行比较，再次判断接近开关所需的调修模式，根据判断结果，对接近开关重新进行调修。
[0008]在一些实施例中，采集高精度接近开关的闭合参数值可包括：在接近开关电路中设置距离传感器与红外传感器；通过所述距离传感器采集确定接近对象的距离值集合，通过所述红外传感器采集确定接近对象的速度值集合；将所述距离值集合和所述速度值集合与接近开关电路中的电平信号在同一个时间域上进行处理，确定接近开关的闭合参数值。
[0009]在一些实施例中，确定接近开关的闭合参数偏差矩阵可包括：对采集的闭合参数值进行线性放大；将线性放大后的闭合参数值与接近开关的标准闭合参数值进行比对，确定闭合参数的偏差量；根据所述闭合参数的偏差量，确定接近开关的闭合参数偏差矩阵。
[0010]在一些实施例中，根据所述灵敏度控制电阻的调修量，在灵敏度控制电阻的电流传输面上添加同族金属粉末可包括:根据接近开关的灵敏度控制电阻在三维空间上的电流传输方向，将灵敏度控制电阻的电流传输面分为电流传输截面与电流传输侧面，其中，与电流方向平行的电阻表面为电流传输侧面，与电流方向垂直的电阻表面为电流传输截面；根据灵敏度控制电阻的调修量，选取电流传输截面或电流传输侧面添加灵敏度控制电阻的同族金属粉末。
[0011]在一些实施例中，还可包括：对添加了同族金属粉末的电流传输面进行表面火焰处理。
[0012]在一些实施例中，根据所述闭合参数偏差矩阵，确定激光调修的汽化路径可包括：根据所述闭合参数偏差矩阵正负性，选定需要进行表面汽化的电流传输面；对所述电流传输面的汽化率进行计算，得到激光调修的电流传输面汽化路径。
[0013]在一些实施例中，在汽化过程中通过预设的反馈回路实时反馈接近开关的闭合参数，根据反馈的闭合参数重新调整激光调修的汽化路径可包括：设置传感器对汽化过程中接近开关的闭合参数进行采集，得到闭合参数采集结
果；构造反馈回路，将所述闭合参数采集结果通过所述反馈回路反馈回接近开关的主控调修单元，确定采集的闭合参数值与标准闭合参数值的当前偏差值，接近开关的主控调修单元根据所述当前偏差值输出调修控制信号；根据所述调修控制信号，调整激光调修的汽化路径。
[0014]第二方面，本申请还提供一种高精度接近开关激光调修系统，其包括：闭合参数采集模块，用于采集所述高精度接近开关的闭合参数值；闭合参数处理模块，用于将所述闭合参数值与接近开关的标准闭合参数值进行比对，确定接近开关的闭合参数偏差矩阵；调修模式判断模块，用于将所述闭合参数偏差矩阵与预设的接近开关调修阈值进行比较，判断接近开关所需的调修模式；高偏差调修模块，用于在判断结果为高偏差调修模式时，根据所述闭合参数偏差矩阵，确定灵敏度控制电阻调修量，根据所述灵敏度控制电阻调修量，在灵敏度控制电阻的电流传输面上添加同族金属粉末，控制恒定激光源金属熔覆该灵敏度控制电阻的电流传输面上添加的同族金属粉末，得到金属熔覆后改变的灵敏度控制电阻阻值，根据改变后的灵敏度控制电阻阻值，开环调修接近开关的闭合参数；低偏差调修模块，用于在判断结果为低偏差调修模式时，根据所述闭合参数偏差矩阵，确定激光调修的汽化路径，根据所述汽化路径，对灵敏度控制电阻进行表面汽化，在汽化过程中通过预设的反馈回路实时反馈接近开关的闭合参数，根据反馈的闭合参数重新调整激光调修的汽化路径，通过汽化对接近开关的闭合参数进行控制，闭环调修接近开关的闭合参数。
[0015]第三方面，本申请还提供一种计算机可读存储介质，所述计算机可读存储介质存储有计算机程序，所述计算机程序被处理器执行时实现上述第一方面的高精度接近开关激光调修方法。
[0016]本申请提供的技术方案具有以下有本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种高精度接近开关激光调修方法，其特征在于，包括：采集高精度接近开关的闭合参数值；将所述闭合参数值与接近开关的标准闭合参数值进行比对，确定接近开关的闭合参数偏差矩阵；将所述闭合参数偏差矩阵与预设的接近开关调修阈值进行比较，判断接近开关所需的调修模式；若判断结果为高偏差调修模式，则根据所述闭合参数偏差矩阵，确定灵敏度控制电阻调修量，根据所述灵敏度控制电阻调修量，在灵敏度控制电阻的电流传输面上添加同族金属粉末，控制恒定激光源金属熔覆该灵敏度控制电阻的电流传输面上添加的同族金属粉末，得到金属熔覆后改变的灵敏度控制电阻阻值，根据改变后的灵敏度控制电阻阻值，开环调修接近开关的闭合参数；若判断结果为低偏差调修模式，则根据所述闭合参数偏差矩阵，确定激光调修的汽化路径，根据所述汽化路径，对灵敏度控制电阻进行表面汽化，在汽化过程中通过预设的反馈回路实时反馈接近开关的闭合参数，根据反馈的闭合参数重新调整激光调修的汽化路径，通过汽化对接近开关的闭合参数进行控制，闭环调修接近开关的闭合参数。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，还包括：将开环调修后的接近开关的闭合参数值与接近开关的标准闭合参数值进行比对，重新确定接近开关的闭合参数偏差矩阵；将重新确定的闭合参数偏差矩阵与预设的接近开关调修阈值进行比较，再次判断接近开关所需的调修模式，根据判断结果，对接近开关重新进行调修。3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，采集高精度接近开关的闭合参数值包括：在接近开关电路中设置距离传感器与红外传感器；通过所述距离传感器采集确定接近对象的距离值集合，通过所述红外传感器采集确定接近对象的速度值集合；将所述距离值集合和所述速度值集合与接近开关电路中的电平信号在同一个时间域上进行处理，确定接近开关的闭合参数值。4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，确定接近开关的闭合参数偏差矩阵包括：对采集的闭合参数值进行线性放大；将线性放大后的闭合参数值与接近开关的标准闭合参数值进行比对，确定闭合参数的偏差量；根据所述闭合参数的偏差量，确定接近开关的闭合参数偏差矩阵。5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，根据所述灵敏度控制电阻的调修量，在灵敏度控制电阻的电流传输面上添加同族金属粉末包括:根据接近开关的灵敏度控制电阻在三维空间上的电流传输方向，将灵敏度控制电阻的电流传输面分为电流传输截面与电流传输侧面，其中，与电流方向平行的电阻表面为电流传输侧面，与电流方向垂直的电阻表面为电流传输截...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱登川，胡生员，罗奇，廖远光，曹小建，周杰，支婉云，
申请(专利权)人：深圳市大族半导体测试技术有限公司，
类型：发明
国别省市：