感光性板状构件吸附机构和图像记录装置制造方法及图纸

在台架（１５２）内与各吸附孔（１７２）对应安装气缸构件（１７６），收藏在其内部的活塞构件（１７８）通过压缩盘簧施力上。在安放面（１５２Ｐ）上不安方衬底（１５０）的状态下，活塞构件（１７８）由于压缩盘簧（１８２）的施力力，变为闭塞位置，闭塞吸附孔（１７２）。如果安放衬底（１５０），则活塞构件（１７８）抵抗压缩盘簧（１８２）的施力力，变为开放位置，吸附孔（１７２）被开放，所以能用基于负压的吸引力吸引衬底（１５０）。用简单的构成，取得即使是尺寸不同的感光性板状构件，也能有效利用基于负压的吸引力，可靠吸附在台架上的感光性板状构件吸附机构和具有该感光性板状构件吸附机构的图像记录装置。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及感光性板状构件吸附机构和图像记录装置。
技术介绍
在把感光性板状构件安放在台架(stage)上，记录所需的图案等的图像记录装置中，有在台架的安放面上形成多个吸附孔，通过负压吸附保持安放在安方面上的感光性板状构件的构成。可是，一般从安放在安放面上感光性板状构件的周围，存在所谓的空气泄漏，所以为了取得充分的吸附力，需要更大的真空泵或吹风机等装置。此外，在该构成中，在成为图像记录的对象的多个尺寸的感光性板状构件中，配合最大尺寸的感光性板状构件，使多个吸附孔分散在安放面的宽阔范围中，所以当吸附更小尺寸的感光性板状构件时，位于感光性板状构件的外侧的吸附孔不被感光性板状构件堵塞，空气从这里流入，所以吸附台架内部的压力上升，有可能无法取得充分的吸附力。为了消除这样的问题，考虑到用薄膜等覆盖位于感光性板状构件的外侧区域的未使用的吸附孔的方法。可是，在该方法中，有必要按照感光性板状构件尺寸不同，准备与此对应的形状的薄膜，贴在安放面上，花费工夫。对此，例如在专利文献1中，描述了配合感光性板状构件即衬底(基板)的尺寸，把台架内划分为多个吸附区，分割管道，配合衬底尺寸切换吸引泵，用比衬底尺寸更小的吸附区吸附的构成的曝光装置。可是，在该构成中，台架内的结构变得复杂，并且限制了能对应的衬底尺寸。此外，在专利文献2中，描述了通过隔膜或筒状弹性体的变形关闭而构成的吸附保持装置。可是，在该构成中，用台架内的负压使隔膜或筒状弹性体变形，所以为了关闭未使用的吸附孔，有必要作用吸引力，无法有效利用基于台架内的负压的吸引力。特开平6-355279号公报特开平3-73289号公报专利
技术实现思路
本专利技术考虑所述事实，其目的在于用简单的构成，取得即使是不同尺寸的感光性板状构件，也能有效利用基于负压的吸引力，可靠地吸附在台架上的感光性板状构件吸附机构和具有该感光性板状构件吸附机构的图像记录装置。在专利技术1中，其特征在于包括能把感光性板状构件安放在安放面上的台架；形成在所述安放面上，用于吸附安放的感光性板状构件的多个吸附孔；与所述多个吸附孔分别对应设置，能在开放吸附孔的开放位置和闭塞吸附孔的闭塞位置之间移动的开闭构件；使所述各移动构件在所述安放面上安放了感光性板状构件的区域的吸附孔，为开放位置，在安放面上未安放感光性板状构件的区域的吸附孔，向闭塞位置移动的移动部件。在该感光性板状构件吸附机构中，台架的多个吸附孔中，在安放感光性板状构件的区域的吸附孔中，通过移动部件，开闭构件向开放位置移动，吸附孔开放。因此，通过台架内的负压能吸引感光性板状构件。而在未安放感光性板状构件的区域的吸附孔中，通过移动部件，开闭构件向闭塞位置移动，使吸附孔闭塞。因此，空气不会随意从感光性板状构件的外侧的未使用的吸附孔流入，例如即使使用小的吸引装置时，也能可靠吸附感光性板状构件。开闭构件根据感光性板状构件向安放面的安放或不安放，开闭该区域的吸附孔，所以没必要为了吸附孔的开闭而利用台架内的负压，能为了感光性板状构件的吸附，有效利用基于负压的吸引力。此外，开闭部件因为只开放安放感光性板状构件的区域的吸附孔，所以能与不同尺寸的感光性板状构件对应吸附。在台架内没必要设置与感光性板状构件尺寸匹配的吸附区或管道，所以结构不会变得复杂。在专利技术2中，根据专利技术1，其特征在于所述移动部件包括设置在所述开闭构件上，在开闭构件的闭塞位置从安放面突出，在开放位置由感光性板状构件按压，后退到吸附孔内的被按压部；使所述开闭构件施力闭塞位置的施力部件。因此，在不安放感光性板状构件的区域的吸附孔中，通过施力(赋能)构件，把开闭构件施力于闭塞位置，被按压部从安放面突出。如果安放感光性板状构件，则在该区域的吸附孔中，被突出部由感光性板状构件按压，抵抗施力构件的施力力，向吸附孔内后退，开闭构件变为开放位置。这样，通过施力构件使开闭构件施力开放位置，能把不吸附感光性板状构件的区域的吸附孔维持在闭塞位置。此外，用在闭塞构件上设置被按压部的简单构成，在安放感光性板状构件的状态下，能使闭塞构件向开放位置移动。在专利技术3中，根据专利技术2，其特征在于所述开闭构件的移动方向为与通过台架内的负压作用于开闭构件上的力正交的方向。因此，当台架内为负压时，使开闭构件移动的力作用，开闭构件也不会随便移动，所以能把开闭构件可靠地维持在闭塞位置。在专利技术4中，其特征在于包括专利技术1～3中的任意一项所述的感光性板状构件吸附机构；在通过所述感光性板状构件吸附机构吸附在安放面上的感光性板状构件上记录图像的图像记录部件。因为具有专利技术1～3中的任意一项所述的感光性板状构件吸附机构，所以用简单的构成，并且无论感光性板状构件的尺寸，都能可靠吸附感光性板状构件。在台架的安放面上吸附感光性板状构件的状态下，能通过图像记录部件记录图像。在专利技术5中，根据专利技术4，其特征在于所述图像记录部件为对感光性板状构件照射激光，进行图像记录的激光记录部件。这样，通过激光记录部件对感光性板状构件照射激光，能以高速和高精度记录图像。附图说明图1是表示本专利技术实施方式1的图像记录装置的外观的立体图。图2是表示本专利技术实施方式1的图像记录装置的扫描仪的构成的立体图。图3(A)是表示形成在感光材料上的曝光完毕区域的平面图，(B)是表示基于各曝光头的曝光区的排列的图。图4是表示本专利技术实施方式1的曝光头概略构成的立体图。图5(A)是表示图4所示的曝光头的构成的沿着光轴的副扫描方向的剖面图，(B)是(A)的侧面图。图6是表示本专利技术实施方式1的曝光头的数字微反射镜器件(DMD)的构成的局部放大图。图7(A)和(B)是用于说明本专利技术实施方式1的曝光头的DMD动作的说明图。图8是表示具有本专利技术实施方式1的衬底吸附机构的台架的剖面图。图9是表示本专利技术实施方式1的衬底吸附机构的剖面图，(A)是未安放衬底的状态，(B)是安放衬底的状态。图10是表示本专利技术实施方式2的衬底吸附机构的剖面图，(A)是未安放衬底的状态，(B)是安放衬底的状态。图11是表示本专利技术实施方式3的衬底吸附机构的剖面图。图12是为说明用基于扫描仪的一次扫描把感光材料曝光的曝光方式的平面图。图13(A)和(B)是为说明用基于扫描仪的多次扫描把感光材料曝光的曝光方式的平面图。图中，LD1～LD7-GaN类半导体激光器；102-图像记录装置；104-衬底吸附机构(感光性板状构件吸附机构)；150-衬底(感光性板状构件)；152-台架；152P-安放面；166-曝光头；172-吸附孔；176-气缸构件(移动构件)；178-活塞构件(开闭构件)；178T-顶端部(被按压部，移动部件)；182-压缩盘簧(施力部件，移动部件)；188-牵线(卷出装置)；204-衬底吸附机构(感光性板状构件吸附机构)；304-衬底吸附机构(感光性板状构件吸附机构)。具体实施例方式在图8和图9中表示本专利技术实施方式1的衬底吸附机构104。此外，图1表示具有该衬底吸附机构104的图像记录装置102。该图像记录装置102是所谓的平头型的图像记录装置，如图1所示，备有把感光性板状构件的一例即衬底150吸附保持在表面(安放面152P)上的台架152。在由四个脚部154支撑的板状底板156的上表面上设置有沿着台架移动方向延伸的两条导轨158。台架152配置为其长度方向向着台架移本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种感光性板状构件吸附机构，其特征在于：包括：能把感光性板状构件安放在安放面上的台架；形成在所述安放面上，用于吸附安放的感光性板状构件的多个吸附孔；与所述多个吸附孔分别对应设置，能在开放吸附孔的开放位置和闭塞吸附孔的 闭塞位置之间移动的开闭构件；使所述各移动构件在所述安放面上安放了感光性板状构件的区域的吸附孔，为开放位置，在安放面上未安放感光性板状构件的区域的吸附孔，向闭塞位置移动的移动部件。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：上村宽，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]