【技术实现步骤摘要】
低VOC型3D打印用光敏树脂显影清洗剂及其制备方法
[0001]本专利技术涉及3D打印材料加工
,尤其涉及一种低VOC型3D打印用光敏树脂显影清洗剂及其制备方法。
技术介绍
[0002]3D打印技术最早出现在20世纪90年代中期,实际上是利用光固化和纸层叠等技术的最新快速成型装置。它与普通打印工作原理基本相同,打印机内装有液体或粉末等“打印材料”,与电脑连接后,通过电脑控制把“打印材料”一层层叠加起来,最终把计算机上的蓝图变成实物。这打印技术称为3D立体打印技术。3D打印通常是采用数字技术材料打印机来实现的。常在模具制造、工业设计等领域被用于制造模型,后逐渐用于一些产品的直接制造,已经有使用这种技术打印而成的零部件。该技术在珠宝、鞋类、工业设计、建筑、工程和施工(AEC)、汽车,航空航天、牙科和医疗产业、教育、地理信息系统、土木工程、枪支以及其他领域都有所应用。
[0003]3D打印技术中目前最主流的DLP与SLA光固化成型两种技术相似,都是利用感光聚合材料(主要是光敏树脂)在紫外光照射下会快速凝固的特性完成。 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种低VOC型3D打印用光敏树脂显影清洗剂,其特征在于,由如下质量比材料组成:有机碱12%~25%,碱性补充剂5%~10%,显影分散剂4%~8%,助溶剂20%~30%,显影乳化剂10%~15%,溶液张力调整剂1.5%~3.0%,表面调整剂2~4%,降黏剂0.1%~0.2%,纯水15%~30%。2.根据权利要求1所述的低VOC型3D打印用光敏树脂显影清洗剂,其特征在于,所述有机碱为N
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甲基二乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、N
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甲基二异丙醇胺、二异丙醇胺、三异丙醇胺、多乙烯多胺、聚醚胺D400中的一种或几种组合。3.根据权利要求1所述的低VOC型3D打印用光敏树脂显影清洗剂,其特征在于,所述碱性补充剂为氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠、五水偏硅酸钠、硅酸钾中的两种或多种组成。4.根据权利要求1所述的低VOC型3D打印用光敏树脂显影清洗剂,其特征在于,所述显影分散剂为仲烷基磺酸钠、十二烷基苯磺酸钠、萘酚磺酸钠、丁基萘磺酸钠、辛基磺酸钠、羧酸盐
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磺酸盐
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非离子三元共聚物中的一种或多种组成。5.根据权利要求1所述的低VOC型3D打印用光敏树脂显影清洗剂,其特征在于,所述助溶剂为二乙二醇、三丙二醇、1,3
‑
丙三醇、1,4
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丁二醇、癸炔二醇、三甘醇、四甘醇、五甘醇中的两种或多种组成。6.根据权利要求1所述的低VOC型3D打印用光敏树脂显影清洗剂,其特征在于,所述显影乳化剂为LUCRAMUL
®
PS16(翁开尔化学)、LUCRAMUL
®
PS29(翁开尔化学)、LUCRAMUL
®
PS54(翁开尔化学)、TakesurfD
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6512(竹本油脂株式会社)、TakesurfD
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6414(竹本油脂株式会社)、TakesurfYZ
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1100(竹本油脂株式会社)、SORPOLT
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15(东邦化学)、SOPROPHORBSU(东邦化学)、SORPOLT
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20(东邦化学)中的三种或多种组成。7.根据权利要求1所述的低VOC型3D打印用光...
【专利技术属性】
技术研发人员:冉有仁,谢亮亮,李小锋,吕智滨,刘三川,
申请(专利权)人:深圳市科玺化工有限公司,
类型:发明
国别省市:
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