一种形成涂布留白区的方法、装置及其应用制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种形成涂布留白区的方法、装置及其应用，所述方法包括以下步骤：将形状记忆合金贴附在涂布基底上，再依次经过涂布及烘干，所述形状记忆合金在所述涂布的温度下保持贴附态，在所述烘干的温度下变为卷曲态，进而在所述烘干的过程中脱落并在所述涂布基底上形成留白区。本发明专利技术利用记忆合金的形状记忆效应自带的卷曲脱落驱动力，可形成间断的、形状复杂的留白区，所述形状记忆合金在卷曲并主动脱离后，不存在残留，使得留白区的边界清晰，不产生厚边现象，且可以重复回收使用。且可以重复回收使用。且可以重复回收使用。

【技术实现步骤摘要】
一种形成涂布留白区的方法、装置及其应用


[0001]本专利技术属于涂布加工
，涉及一种形成涂布留白区的方法、装置及其应用。

技术介绍

[0002]涂布工艺是锂离子电池制造中的重要工艺环节，现有的传统涂布工艺需要将浆料连续均匀地涂布在整卷的集流体箔材上，现有的涂布方式可以实现正面的连续涂布，但是当需要在敷料区内留出空白区，或者单面留白、小区域留白(如留出极耳位时)，往往无法直接通过涂布设备实现。
[0003]目前现有技术中，可以选择通过阀门控制断开成浆料的供应，来得到横向一整条的留白区；或加装垫片堵塞敷料的供应，得到纵向一整条的留白区；但都只能形成在纵向或者在横向连续的且形状简单的留白区，无法形成不连续、形状复杂的留白区；可以选择在涂布完成后，直接用激光或者刮刀将敷料层去除，但由于浆料已经固化，清除速度较慢，降低生产效率及良率，增加工艺耗时及生产成本。
[0004]因此上需要开发一种新的形成涂布留白区的方案，使得留白区的形状位置更加灵活可控，在不影响浆料的涂布效果的基础上实现大规模低成本生产。
专利
技术实现思路

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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种形成涂布留白区的方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：将形状记忆合金贴附在涂布基底上，再依次经过涂布及烘干，所述形状记忆合金在所述涂布的温度下保持贴附态，在所述烘干的温度下变为卷曲态，进而在所述烘干的过程中脱落并在所述涂布基底上形成留白区。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述形状记忆合金为双程形状记忆合金薄片；优选地，所述形状记忆合金在所述贴附态时的形状为展平的平面；优选地，所述形状记忆合金包括TiNi系合金、Cu基合金或Fe基合金中的任意一种或至少两种的组合；优选地，所述形状记忆合金的形状与所述留白区的形状相同；优选地，所述形状记忆合金的厚度不超过所述涂布基底的厚度；优选地，所述形状记忆合金的厚度为5～5000μm，优选为10～100μm。3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，使用贴附介质将所述形状记忆合金贴附在所述涂布基底上；优选地，所述贴附介质包括常温胶或易挥发性液体；优选地，所述常温胶包括树脂胶和/或白乳胶；优选地，所述常温胶预先粘贴于所述形状记忆合金的表面或所述涂布基底的表面上；优选地，先将所述易挥发性液体涂覆在所述涂布基底上，再贴附所述形状记忆合金；优选地，所述贴附介质为常温胶时，所述方法还包括在所述形状记忆合金脱落后，清除所述常温胶；优选地，所述易挥发性液体包括乙醇、水、NMP或DMF中的任意一种或至少两种的组合。4.根据权利要求1
‑
3任一项所述的方法，其特征在于，所述涂布包括单侧涂布、双侧分别涂布或双侧同时涂布；优选地，所述涂布的温度为15～50℃；优选地，所述烘干的温度为70～150℃；优选地，所述涂布的方法包括挤压涂布、喷涂、旋涂、刮涂、辊涂或浸涂中的任意一种或至少两种的组合。5.根据权利要求1
‑
4任一项所述的方法，...

【专利技术属性】
技术研发人员：张传祥，
申请(专利权)人：重庆太蓝新能源有限公司，
类型：发明
国别省市：