本发明专利技术提供了一种形成涂布留白区的方法、装置及其应用，所述方法包括以下步骤：将形状记忆合金贴附在涂布基底上，再依次经过涂布及烘干，所述形状记忆合金在所述涂布的温度下保持贴附态，在所述烘干的温度下变为卷曲态，进而在所述烘干的过程中脱落并在所述涂布基底上形成留白区。本发明专利技术利用记忆合金的形状记忆效应自带的卷曲脱落驱动力，可形成间断的、形状复杂的留白区，所述形状记忆合金在卷曲并主动脱离后，不存在残留，使得留白区的边界清晰，不产生厚边现象，且可以重复回收使用。且可以重复回收使用。且可以重复回收使用。
【技术实现步骤摘要】
一种形成涂布留白区的方法、装置及其应用
[0001]本专利技术属于涂布加工
，涉及一种形成涂布留白区的方法、装置及其应用。
技术介绍
[0002]涂布工艺是锂离子电池制造中的重要工艺环节，现有的传统涂布工艺需要将浆料连续均匀地涂布在整卷的集流体箔材上，现有的涂布方式可以实现正面的连续涂布，但是当需要在敷料区内留出空白区，或者单面留白、小区域留白(如留出极耳位时)，往往无法直接通过涂布设备实现。
[0003]目前现有技术中，可以选择通过阀门控制断开成浆料的供应，来得到横向一整条的留白区；或加装垫片堵塞敷料的供应，得到纵向一整条的留白区；但都只能形成在纵向或者在横向连续的且形状简单的留白区，无法形成不连续、形状复杂的留白区；可以选择在涂布完成后，直接用激光或者刮刀将敷料层去除，但由于浆料已经固化，清除速度较慢，降低生产效率及良率，增加工艺耗时及生产成本。
[0004]因此上需要开发一种新的形成涂布留白区的方案，使得留白区的形状位置更加灵活可控，在不影响浆料的涂布效果的基础上实现大规模低成本生产。
技术实现思路
[0005]鉴于现有技术中存在的问题，本专利技术的目的在于提供一种形成涂布留白区的方法、装置及其应用，所述方法将形状记忆合金贴附在涂布基底上，再依次经过涂布及烘干，所述形状记忆合金在所述涂布的温度下保持贴附态，在所述烘干的温度下变为卷曲态，进而在所述烘干的过程中脱落并在所述涂布基底上形成留白区。本专利技术利用形状记忆合金的形状记忆效应自带卷曲脱落驱动力，可形成间断的、形状复杂的留白区，所述形状记忆合金在卷曲并主动脱离后，不存在残留，使得留白区的边界清晰不产生厚边现象，且可以重复回收使用。
[0006]为达此目的，本专利技术采用以下技术方案：
[0007]第一方面，本专利技术提供了一种形成涂布留白区的方法，所述方法包括以下步骤：
[0008]将形状记忆合金贴附在涂布基底上，再依次经过涂布及烘干，所述形状记忆合金在所述涂布的温度下保持贴附态，在所述烘干的温度下变为卷曲态，进而在所述烘干的过程中脱落并在所述涂布基底上形成留白区。
[0009]以下作为本专利技术优选的技术方案，但不作为本专利技术提供的技术方案的限制，通过以下技术方案，可以更好地达到和实现本专利技术的技术目的和有益效果。
[0010]作为本专利技术优选的技术方案，所述形状记忆合金为双程形状记忆合金薄片。
[0011]优选地，所述形状记忆合金包括TiNi系合金、Cu基合金或Fe基合金中的任意一种或至少两种的组合。
[0012]优选地，所述形状记忆合金在所述贴附态时的形状为展平的平面。
[0013]优选地，所述形状记忆合金的形状与所述留白区的形状相同。
[0014]优选地，所述形状记忆合金的厚度不超过所述涂布基底的厚度。
[0015]优选地，所述形状记忆合金的厚度为5～5000μm，优选为10～100μm。
[0016]作为本专利技术优选的技术方案，使用贴附介质将所述形状记忆合金贴附在所述涂布基底上。
[0017]优选地，所述贴附介质包括常温胶或易挥发性液体。
[0018]优选地，所述常温胶包括树脂胶和/或白乳胶。
[0019]优选地，所述常温胶预先粘贴于所述形状记忆合金的表面或所述涂布基底的表面上。
[0020]优选地，先将所述易挥发性液体涂覆在所述涂布基底上，再贴附所述形状记忆合金片。
[0021]优选地，所述贴附介质为常温胶时，所述方法还包括在所述形状记忆合金脱落后，清除所述常温胶。
[0022]优选地，所述易挥发性液体包括乙醇、水、NMP或DMF中的任意一种或至少两种的组合。
[0023]作为本专利技术优选的技术方案，所述涂布包括单侧涂布、双侧分别涂布或双侧同时涂布。
[0024]优选地，所述涂布的温度为15～50℃。
[0025]优选地，所述烘干的温度为70～150℃。
[0026]优选地，所述涂布的方法包括挤压涂布、喷涂、旋涂、刮涂、辊涂或浸涂中的任意一种或至少两种的组合，所述组合典型但非限制性的实例包括挤压涂布与喷涂的组合、挤压涂布与旋涂的组合、喷涂与旋涂的组合、喷涂与刮涂的组合、喷涂与辊涂的组合、喷涂与浸涂的组合、旋涂与刮涂的组合、旋涂与辊涂的组合、旋涂与浸涂的组合、刮涂与辊涂的组合、刮涂与浸涂的组合、辊涂与浸涂的组合、挤压涂布与刮涂的组合、挤压涂布与辊涂的组合或挤压涂布与浸涂的组合。
[0027]作为本专利技术优选的技术方案，所述方法还包括对脱落的所述形状记忆合金进行回收。
[0028]优选地，所述回收的方法包括负压抽气回收。
[0029]优选地，所述方法还包括对回收的形状记忆合金依次进行清洗、降温恢复贴附态及于贴附态下干燥后，重新使用。
[0030]作为本专利技术优选的技术方案，所述装置包括沿涂布基底的传送方向依次设置的形状记忆合金贴片机构、涂布机构及烘干机构；
[0031]其中，所述形状记忆合金贴片机构配置为将形状记忆合金贴附在涂布基底上；
[0032]所述涂布机构配置为对贴附有所述形状记忆合金的所述涂布基底进行涂布，所述形状记忆合金在所述涂布的温度下保持贴附态；
[0033]所述烘干机构配置为对所述涂布基底进行烘干，在所述烘干的温度下变为卷曲态，进而在所述烘干的过程中脱落并在所述涂布基底上形成留白区。
[0034]作为本专利技术优选的技术方案，所述形状记忆合金贴片机构含有贴附介质模块，所述贴附介质模块用于在所述形状记忆合金贴片上或所述涂布基底上设置贴附介质；
[0035]优选地，所述烘干机构的内部设置有贴附介质去除模块。
的含义是两个或两个以上。
[0054]需要说明的是，在本专利技术的描述中，除非另有明确的规定和限定，术语“设置”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以通过具体情况理解上述术语在本专利技术中的具体含义。
[0055]下面通过具体实施方式来进一步说明本专利技术的技术方案。
[0056]本专利技术在一个实施方式中提供了一种形成涂布留白区的方法，所述方法将形状记忆合金贴附在涂布基底上，再依次经过涂布及烘干，所述形状记忆合金在所述涂布的温度下保持贴附态，在所述烘干的温度下变为卷曲态，进而在所述烘干的过程中脱落并在所述涂布基底上形成留白区。
[0057]本专利技术在一个实施方式中利用记忆合金的形状记忆效应自带的卷曲脱落驱动力，使其作为贴片贴合在涂布基底上的预设留白区进行遮挡覆盖，在涂布时，预设留白区的浆料会涂布在形状记忆合金上，之后在烘干的过程中，烘干温度使所述形状记忆合金变为卷曲态而产生足够的驱动力使得所述形状记忆合金卷曲、翘起并从涂布基底上脱离或脱落，进而在涂布基底上形成留白区。
[0058]形状记忆合金具有形状记忆效应，表现为在外本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种形成涂布留白区的方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：将形状记忆合金贴附在涂布基底上，再依次经过涂布及烘干，所述形状记忆合金在所述涂布的温度下保持贴附态，在所述烘干的温度下变为卷曲态，进而在所述烘干的过程中脱落并在所述涂布基底上形成留白区。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述形状记忆合金为双程形状记忆合金薄片；优选地，所述形状记忆合金在所述贴附态时的形状为展平的平面；优选地，所述形状记忆合金包括TiNi系合金、Cu基合金或Fe基合金中的任意一种或至少两种的组合；优选地，所述形状记忆合金的形状与所述留白区的形状相同；优选地，所述形状记忆合金的厚度不超过所述涂布基底的厚度；优选地，所述形状记忆合金的厚度为5～5000μm，优选为10～100μm。3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，使用贴附介质将所述形状记忆合金贴附在所述涂布基底上；优选地，所述贴附介质包括常温胶或易挥发性液体；优选地，所述常温胶包括树脂胶和/或白乳胶；优选地，所述常温胶预先粘贴于所述形状记忆合金的表面或所述涂布基底的表面上；优选地，先将所述易挥发性液体涂覆在所述涂布基底上，再贴附所述形状记忆合金；优选地，所述贴附介质为常温胶时，所述方法还包括在所述形状记忆合金脱落后，清除所述常温胶；优选地，所述易挥发性液体包括乙醇、水、NMP或DMF中的任意一种或至少两种的组合。4.根据权利要求1
‑
3任一项所述的方法，其特征在于，所述涂布包括单侧涂布、双侧分别涂布或双侧同时涂布；优选地，所述涂布的温度为15～50℃；优选地，所述烘干的温度为70～150℃；优选地，所述涂布的方法包括挤压涂布、喷涂、旋涂、刮涂、辊涂或浸涂中的任意一种或至少两种的组合。5.根据权利要求1
‑
4任一项所述的方法，...
【专利技术属性】
技术研发人员：张传祥，
申请(专利权)人：重庆太蓝新能源有限公司，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。