一种用于优化电子玻璃刻蚀加工平面度的微孔气流装置及刻蚀方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及电子玻璃刻蚀技术领域，尤其是指一种用于优化电子玻璃刻蚀加工平面度的微孔气流装置及刻蚀方法，包括吸附平台、上光刻蚀器、下光刻蚀器及两个微孔气流机构，吸附平台的中部开设有光刻蚀空腔，上光刻蚀器和下光刻蚀器同轴地相对设置，上光刻蚀器和下光刻蚀器分别位于光刻蚀空腔的上下两侧，两个微孔气流机构分布于光刻蚀器的两侧。本发明专利技术能够实现对电子玻璃进行双面刻蚀，在光刻蚀时优化了电子玻璃的光刻蚀区域的平面度，提高了电子玻璃的光刻蚀精度和质量，且使得吸附平台的中部呈中空状，吸附平台的中部不需要设置横梁吸附结构，简化了吸附平台的结构。简化了吸附平台的结构。简化了吸附平台的结构。

【技术实现步骤摘要】
一种用于优化电子玻璃刻蚀加工平面度的微孔气流装置及刻蚀方法


[0001]本专利技术涉及电子玻璃刻蚀
，尤其是指一种用于优化电子玻璃刻蚀加工平面度的微孔气流装置及刻蚀方法。

技术介绍

[0002]在3C制造领域、新型显示行业、半导体行业、集成电路行业等实际产品制造过程中，涉及电子玻璃应用范围越来越广，如：电容式触控屏，平板显示等领域。在电子玻璃实际加工应用中，电子玻璃一般放置在横梁架平台上，然后采用真空吸附将电子玻璃吸附在横梁架平台上。例如，电子玻璃在双面光蚀刻工艺中，因为需要双面同时蚀刻，电子玻璃只能悬空放置在横梁架平台的表面，电子玻璃被真空吸附在横梁架平台的表面，在电子玻璃吸附过程中或电子玻璃本身会产生微变形量，电子玻璃的实际轮廓与理想平面度相差一定距离。在光刻蚀工艺中，电子玻璃产生微观变形量，从而影响电子玻璃平面度精度，降低电子玻璃蚀刻的线路质量及精度。
[0003]申请号为201120434750.1的中国专利文件公开了一种脉冲激光刻蚀双面ITO玻璃上导电膜层的装置，其膜材的正面和背面各布置一套脉冲激光刻蚀装置，每套脉冲激光本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于优化电子玻璃刻蚀加工平面度的微孔气流装置，其特征在于：包括吸附平台(1)、上光刻蚀器(2)、下光刻蚀器(3)及两个微孔气流机构(4)，吸附平台(1)的中部开设有光刻蚀空腔(5)，上光刻蚀器(2)和下光刻蚀器(3)同轴地相对设置，上光刻蚀器(2)和下光刻蚀器(3)分别位于光刻蚀空腔(5)的上下两侧，两个微孔气流机构(4)分布于上光刻蚀器(2)的两侧，吸附平台(1)用于吸紧电子玻璃(17)的边缘，两个微孔气流机构(4)用于向吸附平台(1)所吸附的电子玻璃(17)施加正压微气流，上光刻蚀器(2)和下光刻蚀器(3)分别对电子玻璃(17)的两侧面进行光刻蚀。2.根据权利要求1所述的一种用于优化电子玻璃刻蚀加工平面度的微孔气流装置，其特征在于：微孔气流机构(4)包括安装板(6)、设置于安装板(6)的平面度调节模组(7)、设置于平面度调节模组(7)的调节端的气压腔体(8)、连接于气压腔体(8)的下方的微孔体(9)及与气压腔体(8)连接的供气组件(10)，供气组件(10)与气压腔体(8)的内腔连通，微孔体(9)设置有多个微气流孔(11)，多个微气流孔(11)均与气压腔体(8)的内腔连通。3.根据权利要求2所述的一种用于优化电子玻璃刻蚀加工平面度的微孔气流装置，其特征在于：供气组件(10)包括供气管(12)及设置于供气管(12)的调节阀(13)，供气管(12)经由调节阀(13)与气压腔体(8)的内腔连通。4.根据权利要求3所述的一种用于优化电子玻璃刻蚀加工平面度的微孔气流装置，其特征在于：气压腔体(8)装设有接头(18)，供气管(12)与接头(18)连接，供气管(12)经由接头(18)与气压腔体(8)的内腔连通。5.根据权利要求2所述的一种用于优化电子玻璃刻蚀加工平面度的微孔气流装置，其特征在于：气压腔体(8)的内腔连通有压力表(14)。6.根据权利要求2所述的一种用于优化电子玻璃刻蚀加工平面度的微...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈绒，唐联耀，武晓云，马丽心，郑清华，林文杰，
申请(专利权)人：广东科技学院，
类型：发明
国别省市：