一种高纯度二氧化氯的制备方法技术

本发明专利技术涉及气体制备领域，尤其涉及一种高纯度二氧化氯的制备方法。本发明专利技术提供一种能够实现间歇式注入溶液反应而降低固体结晶产生的概率以及将有毒气体进行过滤净化排出的高纯度二氧化氯的制备方法。一种高纯度二氧化氯的制备方法，具体步骤为：原料配比

【技术实现步骤摘要】
一种高纯度二氧化氯的制备方法


[0001]本专利技术涉及气体制备领域，尤其涉及一种高纯度二氧化氯的制备方法。

技术介绍

[0002]二氧化氯是一种强氧化剂和高效杀菌剂，对微生物的作用是因二氧化氯对细胞壁有较强的吸附和穿透能力，有效地氧化细胞内含巯基的酶，快速抑制微生物蛋白质的合成，导致微生物代谢障碍而细胞死亡。
[0003]现有技术中，在制备二氧化氯时，先将配比好后的氯酸钠溶液、硫酸溶液和还原剂分别加入反应器内，反应时间为0.5h
‑
2h，最终反应生成二氧化氯、酸和氯酸钠的混合溶液、固体结晶以及有毒气体，现有技术中没有明确公开如何处理固体结晶以及有毒气体，显然如何处理固体结晶以及有毒气体成为目前的重中之重，在反应过程中，如果有大量的固体结晶生产，则会影响到二氧化氯制备的纯度，另外产生的有毒气体如果直接排出反应器的话，这样会导致空气受到污染。
[0004]现在研发一种能够实现间歇式注入溶液反应而降低固体结晶产生的概率以及将有毒气体进行过滤净化排出的高纯度二氧化氯的制备方法。

技术实现思路

[0005]为了克服现有技术中无法解决固体结晶以及有毒气体产生的缺点，要解决的技术问题：提供一种能够实现间歇式注入溶液反应而降低固体结晶产生的概率以及将有毒气体进行过滤净化排出的高纯度二氧化氯的制备方法。
[0006]一种高纯度二氧化氯的制备方法，包括有：
[0007]S1、原料配比：
[0008]氯酸钠溶液30％
‑
48％、硫酸溶液60％r/>‑
78％和还原剂10％
‑
35％；
[0009]S2、原料反应：
[0010]将氯酸钠溶液30％
‑
48％、硫酸溶液60％
‑
78％和还原剂10％
‑
35％按照摩尔比为1.1：0.79：0.62的比例加入到反应器内，生成二氧化氯、酸和氯酸钠的混合溶液、固体结晶以及有毒气体；
[0011]S3、曝气处理：
[0012]将混合溶液通入曝气器13内中反应8
‑
15min，生成气态二氧化氯以及剩余混合溶液，气态二氧化氯向上排入到水淋区域；
[0013]S4、生成二氧化氯消毒液和残留液体：
[0014]将气态二氧化氯进行水淋处理得到高纯度的二氧化氯消毒液，而剩余的残留液体进行回收处理。
[0015]进一步地，还原剂为过氧化氢或者盐酸。
[0016]进一步地，S1中，硫酸溶液包含硫酸和草酸，硫酸溶液中硫酸的质量百分浓度为55％
‑
75％，硫酸溶液中草酸的质量百分浓度为0.5％
‑
5％。
[0017]进一步地，S1中，氯酸钠溶液中包含氯酸钠、双氧水和尿素，其中，氯酸钠质量百分浓度为15％
‑
35％，双氧水质量百分浓度为5.0％
‑
12.0％，尿素质量百分浓度为0.5
‑
2.4％。
[0018]进一步地，S2中，如果出现少量的固体结晶时，二次加入氯酸钠溶液、硫酸溶液和还原剂，通过反应器上设置的观察部，时刻观察是否存在大量的固体结晶，如果还出现大量固体结晶，则继续进行三次加入三种溶液，直至没有固体结晶的产生即可进行S3。
[0019]进一步地，S2中，产生的有毒气体会因为排气扇而向上排出，通过过滤网对有毒气体进行过滤，气体进入排气管内时，过滤吸附片将气体中的刺激性气体和颗粒物质进行吸附，最后通过喷淋管喷出消毒水对气体进行消毒。
[0020]进一步地，S3中，在自动控制下，反应温度控制为42℃
‑
53℃，压力为0.01～0.06MPa、反应时间10～40min。
[0021]进一步地，S3中，将剩余混合溶液进行二次曝气处理，得到气态二氧化氯也进入水淋区域。
[0022]本专利技术具有以下优点：1、采用多次少量的加入氯酸钠溶液、硫酸溶液和过氧化氢溶液进行反应，并且通过观察部，能够方便人们观察反应器内部生产产物的状态，通过间歇式注入溶液进行反应，而降低固体结晶产生的概率。
[0023]2、采用两次曝气处理的方式，第一次曝气得到气态二氧化氯以及剩余混合溶液，将第一次生成的气态二氧化氯排入到水淋区域，将剩余混合溶液进行第二次曝气处理，再次产生的气态二氧化氯也排入到水淋区域，如此能够减少气态二氧化氯的浪费。
[0024]3、反应器内产生有毒气体，通过排气扇将有毒气体向上排出，经过过滤网的过滤以及过滤吸附片的吸附作用，并且经过消毒水进行喷淋，能够将有毒气体进行过滤净化，减少对空气的污染。
[0025]4、采用搅拌件不断转动将三种溶液不断的搅拌混合在一起，这样能够提高混合的效率，降低固体结晶产生的概率。
附图说明
[0026]图1为本专利技术高纯度二氧化氯的制备流程图。
[0027]图2为本专利技术二氧化氯反应装置的结构示意图。
[0028]图3为本专利技术二氧化氯反应装置内部结构展示图。
[0029]图4为本专利技术气体过滤的结构细节图。
[0030]图5为本专利技术过滤吸附片的展示图。
[0031]图6为本专利技术下料的结构细节图。
[0032]1‑
反应器，2
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观察部，3
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排气管，4
‑
喷淋管，5
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过滤网，6
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排气扇，7
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过滤吸附片，8
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下料盒，9
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搅拌件，10
‑
遮盖组件，11
‑
喷头，12
‑
出料管，13
‑
曝气器，14
‑
进气管。
具体实施方式
[0033]下面结合具体实施例对本专利技术作进一步描述，在此专利技术的示意性实施例以及说明用来解释本专利技术，但并不作为对本专利技术的限定。
[0034]本专利技术公开二氧化氯反应装置，如图2
‑
6所示，包括有反应器1、观察部2、排气管3、喷淋管4、过滤网5、排气扇6、过滤吸附片7、下料盒8、搅拌件9、遮盖组件10、喷头11、出料管
12、曝气器13和进气管14，反应器1右部设置有观察部2，反应器1顶部设有排气管3，排气管3内下部连接有过滤网5，排气管3底部连接有排气扇6，排气扇6能够将气体通过过滤网5向上排出，排气管3顶部连接有喷淋管4，喷淋管4能够喷淋消毒水，喷淋管4内自带单向阀，排气管3内壁连接有三个过滤吸附片7，排气扇6的传动轴下部连接有搅拌件9，排气扇6的传动轴转动能够带动搅拌件9进行转动，从而对反应器1内部的溶液进行搅拌，反应器1左上部通过螺栓连接有下料盒8，下料盒8用于储存三种溶液，下料盒8下部连接有喷头11，喷头11右部位于反应器1内，喷头11能够将溶液喷洒到反应器1内，喷头11右上部设有遮盖组件10，遮盖组件10由遮挡件和扭簧组成，遮挡件转动式本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种高纯度二氧化氯的制备方法，其特征是，包括有：S1、原料配比：氯酸钠溶液30％
‑
48％、硫酸溶液60％
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78％和还原剂10％
‑
35％；S2、原料反应：将氯酸钠溶液30％
‑
48％、硫酸溶液60％
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78％和还原剂10％
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35％按照摩尔比为1.1：0.79：0.62的比例加入到反应器内，生成二氧化氯、酸和氯酸钠的混合溶液、固体结晶以及有毒气体；S3、曝气处理：将混合溶液通入曝气器13内中反应，生成气态二氧化氯以及剩余混合溶液，气态二氧化氯向上排入到水淋区域；S4、生成二氧化氯消毒液和残留液体：将气态二氧化氯进行水淋处理得到高纯度的二氧化氯消毒液，而剩余的残留液体进行回收处理。2.按照权利要求1所述的一种高纯度二氧化氯的制备方法，其特征是，S1中，还原剂为过氧化氢或者盐酸。3.按照权利要求1所述的一种高纯度二氧化氯的制备方法，其特征是，S1中，硫酸溶液包含硫酸和草酸，硫酸溶液中硫酸的质量百分浓度为55％
‑
75％，硫酸溶液中草酸的质量百分浓度为0.5％
‑
5％。4.按照权利要求1所述的一种高纯度二氧化氯的制备方法，其特征是，S1中，氯酸钠溶液中包含氯酸钠、双氧水和尿素，其中，氯酸钠质量百分浓度为15％
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35％，双氧水质量百分浓度为5.0％
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【专利技术属性】
技术研发人员：金磊，
申请(专利权)人：金磊，
类型：发明
国别省市：