【技术实现步骤摘要】
一种显示面板及其制备方法、显示装置
[0001]本申请涉及显示
,具体而言,本申请涉及一种显示面板及其制备方法、显示装置。
技术介绍
[0002]COE(CF On Encapsulation)技术为在薄膜封装的有机电致发光器件上形成彩膜层,该结构具有降低面板反射率和提高其色纯度、降低面板厚度等作用。利用彩膜层取代偏光片,可以提高显示基板的光取出率,并且有利于显示面板向轻薄化方向发展。
技术实现思路
[0003]本申请提出一种显示面板及其制备方法、显示装置,用以解决现有技术存在的熄屏状态下无法实现局部图案化的技术问题。
[0004]为了解决上述问题,本申请实施例主要提供如下技术方案:
[0005]第一个方面,本申请实施例提供了一种显示面板,包括:基底;发光器件层,位于所述基底的一侧,包括多个发光单元;彩膜层,位于所述发光器件层远离所述基底的一侧;其中:显示面板包括预设图案区和显示区,所述彩膜层包括第一彩膜层和第二彩膜层,所述第一彩膜层在所述基底上的正投影位于所述显示区,所述第二彩膜层在所述基底上的正投影位于所述预设图案区;所述第一彩膜层的反射色相与所述第二彩膜层的反射色相不同。
[0006]可选地,所述第一彩膜层包括第一黑矩阵和多个阵列排布的第一彩色滤光单元,所述第一彩色滤光单元与所述发光单元一一对应设置,所述第一黑矩阵位于相邻的所述第一彩色滤光单元之间;所述第二彩膜层包括第二黑矩阵和多个阵列排布的第二彩色滤光单元,所述第二彩色滤光单元与所述发光单元一一对应设置,所述第二 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种显示面板,其特征在于,包括:基底;发光器件层,位于所述基底的一侧,包括多个发光单元;彩膜层,位于所述发光器件层远离所述基底的一侧;其中:显示面板包括预设图案区和显示区,所述彩膜层包括第一彩膜层和第二彩膜层,所述第一彩膜层在所述基底上的正投影位于所述显示区,所述第二彩膜层在所述基底上的正投影位于所述预设图案区;所述第一彩膜层的反射色相与所述第二彩膜层的反射色相不同。2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述第一彩膜层包括第一黑矩阵和多个阵列排布的第一彩色滤光单元,所述第一彩色滤光单元与所述发光单元一一对应设置,所述第一黑矩阵位于相邻的所述第一彩色滤光单元之间;所述第二彩膜层包括第二黑矩阵和多个阵列排布的第二彩色滤光单元,所述第二彩色滤光单元与所述发光单元一一对应设置,所述第二黑矩阵位于相邻的所述第二彩色滤光单元之间;所述第一黑矩阵的光学密度与所述第二黑矩阵的光学密度不同,以使得所述第一彩膜层的反射色相与所述第二彩膜层的反射色相不同。3.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述第一彩膜层包括第一黑矩阵和多个阵列排布的第一彩色滤光单元,所述第一彩色滤光单元与所述发光单元一一对应设置,所述第一黑矩阵位于相邻的所述第一彩色滤光单元之间;所述第二彩膜层包括多个阵列排布的第二彩色滤光单元,以及第二黑矩阵和第三黑矩阵,所述第二彩色滤光单元与所述发光单元一一对应设置,所述第二黑矩阵位于相邻的所述第二彩色滤光单元之间,所述第三黑矩阵位于所述第二黑矩阵远离所述基底的一侧,且与所述第二黑矩阵交叠;所述第三黑矩阵的光学密度与所述第一黑矩阵的光学密度不同,以使得所述第一彩膜层的反射色相与所述第二彩膜层的反射色相不同。4.根据权利要求3所述的显示面板,其特征在于,所述第三黑矩阵在所述基底上的正投影覆盖所述第二黑矩阵在所述基底上的正投影,且所述第三黑矩阵在所述基底上的正投影的面积大于或等于所述第二黑矩阵在所述基底上的正投影面积。5.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述第一彩膜层包括第一黑矩阵和多个第一彩色滤光单元,所述第一彩色滤光单元与所述发光单元一一对应设置,所述第一黑矩阵在所述基底上的正投影位于相邻的所述发光单元之间;所述第二彩膜层包括第二黑矩阵和多个第二彩色滤光单元,所述第二彩色滤光单元与所述发光单元一一对应设置,所述第二黑矩阵在所述基底上的正投影位于相邻的所述发光单元之间;至少部分所述第二彩色滤光单元与所述第二黑矩阵交叠,且所述第一彩色滤光单元与所述第一黑矩阵无交叠,以使得所述第一彩膜层的反射色相与所述第二彩膜层的反射色相
不同。6.根据权利要求5所述的显示面板,其特征在于,所述第一黑矩阵的光学密度与所述第二黑矩阵的光学密度相同。7.根据权利要求5所述的显示面板,其特征在于,多个所述第二彩色滤光单元包括多个红色滤光单元、多个绿色滤光单元和多个蓝色滤光单元;所述红色滤光单元、所述绿色滤光单元和所述蓝色滤光单元中的至少一种第二彩色滤光单元与所述第二黑矩阵交叠。8.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,还包括:像素限定层,位于所述基底的一侧,包括堤坝和开口,所述堤坝位于相邻的所述发...
【专利技术属性】
技术研发人员:张芳,孙阔,陈利峰,王彦强,贵炳强,杨晨标,唐国强,
申请(专利权)人:成都京东方光电科技有限公司,
类型:发明
国别省市:
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