非线性光学器件的制造方法技术

提供一种非线性光学器件的制造方法。在半导体基板(100)的表面形成凹部(10)。在减压环境下，在凹部(10)填充第1液体材料(31)。第2液体材料(32)与填充至凹部(10)的第1液体材料(31)接触，由此对第3液体材料(33)进行调制。第3液体材料(33)硬化，由此形成埋入部(310)。第1液体材料(31)包含第1溶质和第1溶剂，或者仅由该第1溶剂构成。第2液体材料(32)包含第2溶质和第2溶剂。第2溶质包含非线性光学聚合物。该第2液体材料(32)的该第2溶质的浓度高于该第1液体材料(31)的该第1溶质的浓度。液体材料(31)的该第1溶质的浓度。液体材料(31)的该第1溶质的浓度。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】非线性光学器件的制造方法


[0001]本专利技术涉及非线性光学器件的制造方法。本申请基于2020年7月31日申请的日本专利申请特愿2020－130371号而要求优先权。在该日本专利申请记载的全部记载内容通过参照而引入至本说明书。

技术介绍

[0002]研究了向在基板的表面形成的微小凹部填充液体材料的方法(例如，参照专利文献1至5、参照非专利文献1)。
[0003]专利文献1：日本特开2004－071934号公报
[0004]专利文献2：日本特开2004－103817号公报
[0005]专利文献3：日本特表2007－509769号公报
[0006]专利文献4：日本特开2011－210942号公报
[0007]专利文献5：日本特开2014－099525号公报
[0008]非专利文献1:H.Hiroshima、M.Komuro，“Control of BubbleDefects in UV Nanoimprint”Japanese Journal Applied Physics，Vol.46，pp.63本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种非线性光学器件的制造方法，其包含下述工序：在半导体基板的表面形成凹部；在减压环境下，在所述凹部填充第1液体材料；使第2液体材料与填充至所述凹部的所述第1液体材料接触，由此对第3液体材料进行调制；以及使所述第3液体材料硬化，由此形成埋入部，所述第1液体材料包含第1溶质和第1溶剂，或者仅由所述第1溶剂构成，所述第2液体材料包含第2溶质和第2溶剂，所述第2溶质包含非线性光学聚合物，所述第2液体材料的所述第2溶质的浓度，高于所述第1液体材料的所述第1溶质的浓度。2.根据权利要求1所述的非线性光学器件的制造方法，其中，所述第1溶质包含非线性光学聚合物。3.根据权利要求1或2所述的非线性光学器件的制造方法，其中，所述凹部的至少一部分形成为沿所述半导体基板的所述表面而线状地延伸。4.根据权利要求1至3中任一项所述的非线性光学器件的制造方法，其中，所述凹部的深度相对于所述凹部的宽度之比为0.5至12。5.根据权利要求1至4中任一项所述的非线性光学器件的制造方法，其中，所述凹部具有170nm以下的宽度。6.根据权利要求1至5中任一项所述的非线性光学器件的制造方法，其中，所述第1液体材料的所述第1溶质的浓度为0质量％至35质量％，所述第2液体材料的所述第2溶质的浓度为5质量％至40质量％。7.根据权利要求1至6中任一项所述的非线性光学器件的制造方法，其中，所述非线性光学聚合物包含通过下述式(I)...

【专利技术属性】
技术研发人员：田泽英久，村上泰典，大友明，山田俊树，横滨秀雄，上田里永子，
申请(专利权)人：住友电气工业株式会社，
类型：发明
国别省市：