本实用新型专利技术涉及显示技术领域，公开一种基板支撑结构及预烘烤装置。该基板支撑结构包括多个支撑组件，多个支撑组件呈阵列分布，每个支撑组件均包括中间支撑部和周围支撑部，周围支撑部环设于中间支撑部的周围，中间支撑部和周围支撑部能够交替升降，以对待烘干基板进行支撑。通过设置多个支撑组件实现对待烘干基板的支撑，可以提高待烘干基板的稳定性；通过设置中间支撑部和周围支撑部交替升降以交替支撑待烘干基板，可以避免由于待烘干基板上存在与支撑组件接触的位置和没有接触的位置导致的受热不均匀的现象，从而提高成品品质。从而提高成品品质。从而提高成品品质。
【技术实现步骤摘要】
一种基板支撑结构及预烘烤装置
[0001]本技术涉及显示
，尤其涉及一种基板支撑结构及预烘烤装置。
技术介绍
[0002]液晶显示装置(Liquid Crystal Display，LCD)具有机身薄、省电、无辐射等众多优点，得到了广泛的应用。现有市场上的液晶显示装置大部分为背光型液晶显示装置，其包括液晶显示面板及背光模组。通常液晶显示面板由彩膜(Color Filter，CF)基板、薄膜晶体管(Thin Film Transistor，TFT)基板、夹于CF基板与TFT基板之间的液晶(Liquid Crystal，LC)及密封框胶组成。液晶显示面板的工作原理是在两片平行的玻璃基板中放置液晶分子，通过玻璃基板通电与否来控制液晶分子改变方向，将背光模组的光线折射出来产生画面。
[0003]TFT基板及CF基板上分别具有一层配向膜，该配向膜与LC接触后，能够使得LC产生一定方向的预倾角，从而给液晶分子提供一个承载的角度，预倾角的大小对LCD的驱动电压、对比度、响应时间、视角等具有重要影响，配向膜的材料通常选用聚酰亚胺(Polyimide，PI)材料，由PI液涂布于基板上干燥后形成。
[0004]现有技术中常用的配向膜制作方法为：采用转印版在基板(阵列基板或CF基板)上涂布PI液，然后再通过配向工艺(如摩擦配向工艺/光配向工艺)以及其他工艺在基板上形成所需的配向膜。而具体的配向膜涂布过程又大致包括以下步骤：对基板进行清洗，在经过清洗工艺的所述基板上涂布PI液，对涂布在所述基板上的PI液进行预烘烤，去除PI液内的溶剂而初步成膜形成PI膜，然后通过检测设备进行PI膜涂布缺陷检查，如果检查PI膜无异常则将对PI膜进行主烘烤，完全去除PI膜中的溶剂，形成最终的配向膜。
[0005]其中，预烘烤的目的是使PI液里面的N
‑
甲基吡咯烷酮等溶剂挥发出来，使PI膜平整化，以便于下一步对PI膜进行检查。PI预烘烤的方式是通过红外线辐射加热基板，以使溶剂挥发，并通过升降支撑针承载基板，以实现均匀支撑基板和方便上下游传送机械臂取放基板的效果。但是该PI预烘烤技术存在加热过程中基板受热不均的问题：支撑针与基板的接触会造成接触位置与没接触位置的受热不均，从而造成由支撑针引起的膜层不均匀(Pin Mura)的现象，进而会影响产品品质。
[0006]此外，在光刻工艺中，基板上涂覆光刻胶后，也需要使用上述预烘烤装置对涂覆有光刻胶进行烘干，现有的预烘烤装置对基板上的光刻胶进行预烘烤时，同样存在基板受热不均的问题，影响光刻质量。
[0007]因此，亟需提出一种基板支撑结构，以解决上述问题。
技术实现思路
[0008]本技术的一个目的在于提供一种基板支撑结构，可以提高基板受热的均匀性，避免由支撑针引起的膜层不均匀的现象，从而保证产品品质。
[0009]本技术的另一个目的在于提供一种预烘烤装置，通过应用上述基板支撑结
构，可以在基板上形成均匀的配向膜，提高产品良率。
[0010]如上构思，本技术所采用的技术方案是：
[0011]一种基板支撑结构，包括：
[0012]多个支撑组件，呈阵列分布，每个所述支撑组件均包括中间支撑部和周围支撑部，所述周围支撑部环设于所述中间支撑部的周围，所述中间支撑部和所述周围支撑部能够交替升降，以对待烘干基板进行支撑。
[0013]作为本技术提供的基板支撑结构的一种优选方案，所述中间支撑部为中间支撑针；所述周围支撑部包括：
[0014]多个周围支撑针，沿所述中间支撑针的周向间隔环设，多个所述周围支撑针能交替升降，以对所述待烘干基板进行支撑；
[0015]针套，套设于所述中间支撑针和多个所述周围支撑针外。
[0016]作为本技术提供的基板支撑结构的一种优选方案，所述针套采用保温材质制备而成。
[0017]作为本技术提供的基板支撑结构的一种优选方案，所述周围支撑针的上端为圆锥形。
[0018]作为本技术提供的基板支撑结构的一种优选方案，所述中间支撑部为中间支撑针；所述周围支撑部为针环，所述针环套设于所述中间支撑针外。
[0019]作为本技术提供的基板支撑结构的一种优选方案，所述中间支撑针的上端为圆锥形。
[0020]作为本技术提供的基板支撑结构的一种优选方案，所述基板支撑结构还包括调温组件，所述调温组件被配置为调节所述支撑组件的温度。
[0021]作为本技术提供的基板支撑结构的一种优选方案，所述周围支撑部上设置有进风口，所述调温组件包括热风管路、风机和加热件，所述热风管的出口与所述进风口相连通，所述风机设置于所述热风管路中，所述加热件设置于所述进风口和所述风机之间。
[0022]作为本技术提供的基板支撑结构的一种优选方案，所述调温组件还包括温度传感器，所述温度传感器用于检测所述支撑组件的温度。
[0023]为达上述目的，本技术还提供一种预烘烤装置，包括如以上任一方案所述的基板支撑结构。
[0024]本技术的有益效果为：
[0025]本技术提供一种基板支撑结构，包括多个支撑组件，多个支撑组件呈阵列分布，每个支撑组件均包括中间支撑部和周围支撑部，周围支撑部环设于中间支撑部的周围，中间支撑部和周围支撑部能够交替升降，以对待烘干基板进行支撑。通过设置多个支撑组件实现对待烘干基板的支撑，可以提高待烘干基板的稳定性；通过设置中间支撑部和周围支撑部交替升降以交替支撑待烘干基板，可以避免由于待烘干基板上存在与支撑组件接触的位置和没有接触的位置导致的受热不均匀的现象，从而提高成品品质。
[0026]本技术还提供一种预烘烤装置，通过应用上述基板支撑结构，可以在待烘干基板上形成均匀的配向膜，提高产品良率。
附图说明
[0027]图1是本技术实施例一提供的基板支撑结构的结构示意图；
[0028]图2是本技术实施例一提供的基板支撑结构中中间支撑部支撑待烘干基板的结构示意图；
[0029]图3是本技术实施例一提供的基板支撑结构中周围支撑部支撑待烘干基板的结构示意图；
[0030]图4是本技术实施例一提供的基板支撑结构在对待烘干基板进行烘烤过程中的流程图一；
[0031]图5是本技术实施例一提供的基板支撑结构在对待烘干基板进行烘烤过程中的流程图二；
[0032]图6是本技术实施例二提供的基板支撑结构的结构示意图；
[0033]图7是本技术实施例二提供的基板支撑结构在对待烘干基板进行烘烤过程中的流程图。
[0034]图中：
[0035]100
‑
待烘干基板；200
‑
烘烤炉；
[0036]1‑
支撑组件；11
‑
中间支撑部；12
‑
周围支撑部；121
‑
周围支撑针；122
‑
针套；本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种基板支撑结构，其特征在于，包括：多个支撑组件(1)，呈阵列分布，每个所述支撑组件(1)均包括中间支撑部(11)和周围支撑部(12)，所述周围支撑部(12)环设于所述中间支撑部(11)的周围，所述中间支撑部(11)和所述周围支撑部(12)能够交替升降，以对待烘干基板(100)进行支撑。2.根据权利要求1所述的基板支撑结构，其特征在于，所述中间支撑部(11)为中间支撑针；所述周围支撑部(12)包括：多个周围支撑针(121)，沿所述中间支撑针的周向间隔环设，多个所述周围支撑针(121)能交替升降，以对所述待烘干基板(100)进行支撑；针套(122)，套设于所述中间支撑针和多个所述周围支撑针(121)外。3.根据权利要求2所述的基板支撑结构，其特征在于，所述针套(122)采用保温材质制备而成。4.根据权利要求2所述的基板支撑结构，其特征在于，所述周围支撑针(121)的上端为圆锥形。5.根据权利要求1所述的基板支撑结构，其特征在于，所述中间支撑部(11)为中...
【专利技术属性】
技术研发人员：汪杰，杨莉，
申请(专利权)人：昆山龙腾光电股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
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