一种Al/Mo蚀刻液、其制备方法与应用技术

本发明专利技术提供一种Al/Mo蚀刻液、其制备方法与应用，所述Al/Mo蚀刻液包括重量配比如下的各组分：有机酸60

【技术实现步骤摘要】
一种Al/Mo蚀刻液、其制备方法与应用


[0001]本专利技术涉及蚀刻技术，尤其涉及一种Al/Mo蚀刻液、其制备方法与应用。

技术介绍

[0002]传统的Al/Mo蚀刻液呈酸性，多采用磷酸
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硝酸
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乙酸体系，广泛应用于液晶显示器(TFT
‑
LCD)、发光二极管(LED)、有机发光二极管(OLED)等。缺点是蚀刻产生的铝离子易在蚀刻过程中对其他表面造成损伤，并且蚀刻优良率较低，运输成本高，且污水淤泥处理负荷较大。
[0003]现有技术公开了一些Al/Mo蚀刻液，例如：
[0004]CN113529084A公开了一种用于TFT
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array基片的蚀刻液，包含酸性成分40％
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80％、DIW超纯水10％
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30％和Mo蚀刻调节剂10％
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30％；Mo蚀刻调节剂为铵盐和碱土金属盐；该蚀刻液以酸为主要成分，通过调节比例，解决了每种金属因蚀刻速度不同而产生的问题，也能有效改善伽伐尼克现象引起的过蚀刻，确保TFT...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种Al/Mo蚀刻液，其特征在于，包括重量配比如下的各组分：2.根据权利要求1所述Al/Mo蚀刻液，其特征在于，所述有机酸选自柠檬酸、酒石酸、草酸、乙醇酸、苯六甲酸、氮硫方酸、三氯乙酸、三硝基苯磺酸和2
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巯基乙磺酸中的一种或几种。3.根据权利要求1所述Al/Mo蚀刻液，其特征在于，所述无机酸选自氢溴酸、碘酸、次碘酸、氢氟酸和硝酸中的一种或几种。4.根据权利要求1
‑
3任意一项所述Al/Mo蚀刻液，其特征在于，所述有机酸与无机酸的重量比为60:1
‑
7.5:1。5.根据权利要求1所述Al/Mo蚀刻液，其特征在于，所述金属盐选自氯化铁、氯化铜、硫酸亚铁、硫酸铜、硫酸铝钾和硝酸银中的一种或几种。6.根据权利要求1所述Al/Mo蚀刻液，其特征在于，所述表面活性剂为离子型表面活性剂。7.一种...

【专利技术属性】
技术研发人员：武文东，侯军，滕越，请求不公布姓名，
申请(专利权)人：浙江奥首材料科技有限公司，
类型：发明
国别省市：