一种光泽度高的抛光剂制造技术

本发明专利技术涉及C09G1，更具体地，本发明专利技术涉及一种光泽度高的抛光剂。所述抛光剂的原料包括无机研磨粒子、有机氟硅、酸性物质、碱性物质、表面活性剂、氧化物。抛光剂用在大理石、人造石、花岗石、瓷砖等材料上时，光泽度好，具有显著的镜面效果。光照的情况下是聚光的，改善了传统含蜡质的抛光剂抛光出来的砖是散光的问题。可以应用在大理石晶面、花岗石晶面、瓷砖晶面、人造岗石晶面、水磨石晶面、微晶石晶面、石英石晶面等，特别适用于多品种混合铺装的石材、瓷砖。火烧后无异味，使用感好。使用感好。

【技术实现步骤摘要】
一种光泽度高的抛光剂


[0001]本专利技术涉及C09G1，更具体地，本专利技术涉及一种光泽度高的抛光剂。

技术介绍

[0002]伴随社会的发展，人们越来越注重生活的品质，对日用品和五金产品、电子产品等其他用品的要求也进一步提高了，不仅希望其具备良好的使用功能，而且希望其具有较好的外观。面对这样的趋势，抛光已经成为了很多用品不可缺少一个步骤。抛光是通过加工工件表面，使其外表面光洁，抛光剂就是作用于物件表面的一种抛光功能的试剂。
[0003]目前市面上常见的抛光剂常用来抛光大理石砖、水磨石砖等，而传统的抛光剂含蜡质的成分，所以抛光出来的砖不仅由于蜡质的存在导致抛光层较软，不耐刮，使用寿命短，而且不耐火，火烧会有异味。除此之外，传统抛光剂的酸性浆料中磨料颗粒的尺寸会随着存储时间的延长，浆料中化学组分的作用而逐渐长大，当粒径大于120纳米以后，会出现沉降分层等现象，严重影响抛光质量，造成产品失效。
[0004]专利号CN108624238B提供了一种持久耐磨地板抛光剂及其制备方法。通过加入改性丙烯酸树脂，提升了抛光剂涂层的附着力、耐冲击性、耐沾污性和柔韧性，并且具有良好的防霉效果。

技术实现思路

[0005]为了解决上述问题，本专利技术第一个方面提供了一种光泽度高的抛光剂，其特征在于，所述抛光剂的原料包括无机研磨粒子、有机氟硅、酸性物质、碱性物质、表面活性剂、氧化物。
[0006]作为本专利技术一种优选的技术方案，所述无机研磨粒子选自棕刚玉磨料、白刚玉磨料、黑刚玉磨料、金刚砂磨料的一种或多种。
[0007]优选的，棕刚玉磨料的粒径为30
‑
80目，白刚玉磨料的粒径为40
‑
100目，黑刚玉磨料的粒径为70
‑
100目。
[0008]进一步优选的，棕刚玉磨料与白刚玉磨料的重量比为(2
‑
4)：1。
[0009]作为本专利技术一种优选的技术方案，所述有机氟硅选自氟硅改性有机硅树脂、氟硅树脂、环氧改性有机硅树脂的一种或多种。
[0010]作为本专利技术一种优选的技术方案，所述酸性物质为有机酸。
[0011]作为本专利技术一种优选的技术方案，所述有机酸选自乙酸、乙基磺酸、十二烷基苯磺酸、柠檬酸，草酸的一种或多种。
[0012]有机氟硅具有较低的表面能和自抛光的性质，但也正由于此，当其成膜后附着力也比较低，极易被剥离，不能最大程度的发挥其抛光的能力。本申请人在实验中意外的发现，在有机氟硅体系中加入特定的有机酸不仅能一定程度上提高有机氟硅体系成膜后的附着力，使附着力增大，而且也可以提升耐刮性能，不易产生刮痕。这可能是由于，有机硅中的α
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硅基碳负离子在酸性条件下脱去硅醇得到烯烃，由于本体系所提供的弱酸性体系，只有
部分有机氟硅分子参与反应，得到的烯烃不仅不会降低有机氟硅的表面能，反而能和体系中表面活性剂及氧化物协同作用，发生分子间作用，使结合力增强，最大程度的发挥其自身所具有的自抛光能力。此外，这种体系内分子协同作用产生的结合力也不易被外力所破坏，提升了其耐刮性能。这样的结合效果尤其是在有机硅氟：酸性物质：表面活性剂：氧化物的重量比为(15
‑
30)：(7
‑
14)：(2
‑
6)：(1
‑
5)时，耐刮效果和附着效果最为显著。
[0013]作为本专利技术一种优选的技术方案，所述碱性物质为链式有机碱。
[0014]作为本专利技术一种优选的技术方案，所述链式有机碱选自三乙胺、2，4
‑
己二胺、二乙胺的一种或多种。
[0015]申请人发现，通过加入链式有机碱，可以进一步减少在加工过程酸雾的产生。这可能是由于，有机碱在体系中发生溶剂化作用，正电荷均匀的分散开来，因而对体系稳定有一定的促进作用，减弱了酸性物质引入产生的较为剧烈的反应。
[0016]作为本专利技术一种优选的技术方案，所述表面活性剂选自烷基苯磺酸钠、硅酸钠、硼酸钠的一种或多种。
[0017]烷基苯磺酸钠的CAS号为25155
‑
30
‑
0。
[0018]作为本专利技术一种优选的技术方案，按重量份计，所述无机研磨粒子5
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14份、有机氟硅15
‑
30份、酸性物质7
‑
14份、碱性物质8
‑
13份、表面活性剂2
‑
6份、氧化物1
‑
5份。
[0019]优选的，氧化物为氧化硅和/或氧化铝。
[0020]进一步优选的，氧化物为氧化硅。
[0021]氧化硅作为传统的消光剂用料，虽然具有抛光的作用，但是较强的消光效果，并且其在体系中的加入会使体系在储存过程中有沉淀的趋势。本申请人经过大量的实验发现，体系中添加特定比例的氧化硅，不仅可以避免产生这种沉淀趋势，而且可以增加抛光剂应用于大理石瓷砖后的光泽度。申请人猜测，这可能是由于，特定比例的氧化硅和有机氟硅协同体系内其他物质形成了一种稳定体系，使各个物质在体系中实现了均匀分散的效果，此外，体系内各物质共同发挥作用，实现了有机氟硅的物理抛光为主、氧化硅化学抛光为辅的良好抛光体系，这种作用尤其应用在与大理石瓷砖作用，效果更为显著，光泽度明显提高，并且显著延长储存时间。
[0022]优选的，所述抛光剂的原料还包括25
‑
40份蒸馏水。
[0023]本专利技术第二个方面提供了一种光泽度高的抛光剂的制备方法，包括以下步骤：(1)混合，加热；(2)冷却。
[0024]步骤(1)具体为将无机研磨粒子、有机氟硅和有机酸按重量份计混合，加热至60
‑
65℃，保温20
‑
30min，得到混合物A；在混合物A中按重量份加入链式有机碱、表面活性剂、氧化物和蒸馏水，加热至65
‑
70℃，保温1
‑
1.5h，得到混合物B；步骤(2)具体为混合物B自然冷却至25℃，得到抛光剂。
[0025]本专利技术与现有技术相比具有以下有益效果：
[0026](1)有机酸替代无机强酸，提供弱酸环境，提高体系附着力和耐刮性的同时，也减轻抛光剂的腐蚀性，避免产生的酸雾对技术人员造成伤害。
[0027](2)通过选用特定比例特定粒径的无机研磨粒子，提高了抛光剂的韧性等机械强度。
[0028](3)加入有机碱，进一步缓解酸性腐蚀可能会造成的危害，使反应更加温和。
[0029](4)通过分阶段控制反应进程中的温度，使反应平稳进行的同时，促进物质在体系中充分分散，有利于维持抛光剂的流动性，同时也有利于抛光剂能够长期储存。
[0030](5)抛光剂用在大理石、人造石、花岗石、瓷砖等材料上时，光泽度好，具有显著的镜面效果。
[0031](6)光照的情况下是聚光的，改善了传统含蜡质的抛光剂抛光出来的砖是散光的问题。可以应用在大理石晶面、花岗石晶本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光泽度高的抛光剂，其特征在于，所述抛光剂的原料包括无机研磨粒子、有机氟硅、酸性物质、碱性物质、表面活性剂、氧化物。2.根据权利要求1所述的光泽度高的抛光剂，其特征在于，所述无机研磨粒子选自棕刚玉磨料、白刚玉磨料、黑刚玉磨料、金刚砂磨料的一种或多种。3.根据权利要求2所述的光泽度高的抛光剂，其特征在于，所述有机氟硅选自氟硅改性有机硅树脂、氟硅树脂、环氧改性有机硅树脂的一种或多种。4.根据权利要求3所述的光泽度高的抛光剂，其特征在于，所述酸性物质为有机酸。5.根据权利要求4所述的光泽度高的抛光剂，其特征在于，所述有机酸选自乙酸、乙基磺酸、十二烷基苯磺酸、柠檬酸，草酸的一种或多种。6.根据权利要求1所述的光泽度高的抛光剂，其特征在于，所述碱性物质为链式有机碱。7.根据权利要求6所述的光泽度高的抛光剂，其特征在于，所...

【专利技术属性】
技术研发人员：郑四荣，
申请(专利权)人：东莞市立信环保科技有限公司，
类型：发明
国别省市：