【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及用于生成具有超高亮度的X光的X光生成方法和X光生成装置。
技术介绍
在X光衍射测量中，需要把强度尽可能高的X光照射到样品上。在这种情况中，使用常规旋转对阴极类型的X光生成装置用于X光衍射测量。把旋转对阴极类型的X光生成装置配置成这样的，以至把电子束照射到柱形对阴极(目标)的外表面上，其中冷却介质在柱形对阴极内流过，同时使对阴极高速旋转。与固定目标类型的X光生成装置相比，旋转对阴极类型的X光生成装置可以表现出极高的冷却效率，这是因为对阴极上的电子束的照射位置随时间改变。因此，在旋转对阴极类型的X光生成装置中，能够以很高的电流把电子束照射到对阴极上，由此生成高强度的X光。另外，由于生成的合成X光的强度与在阴极和对阴极之间施加的电功率(电流与电压之乘积)成比例，所以在常规旋转对阴极类型的X光生成装置中，当以0.1×1mm的斑点大小把电子束照射到目标上时，X光的强度仅能提高到1.2kW最大值，同时在超高亮度的旋转对阴极类型的X光生成装置中，仅能提高到3.5kW最大值。鉴于此，日本专利公开申请号11-339704公开了以下技术，利用电子束把对阴极加热到接近...
【技术保护点】
一种用于生成Ｘ光的方法，该方法包括以下步骤：沿着对阴极的旋转轴重复移动所述对阴极，同时围绕所述旋转轴旋转所述对阴极；以及把能量射束照射到其所处位置克服所述对阴极的旋转生成的离心力的所述对阴极的表面部分，从而通过把所述表面部分 加热到接近所述对阴极的熔点或超过所述对阴极的熔点使所述表面部分部分熔化，由此从所述旋转对阴极生成Ｘ光。
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：坂部知平，
申请(专利权)人：坂部知平，坂部贵和子，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
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