一种含多卤素的取代基的杂环中间体的合成方法技术

本发明专利技术公开了一种含多取代基的杂环中间体的合成方法，属于有机合成技术领域，所述其分子结构如式Ⅰ所示:式I中，X1、X2和X3各自独立的表示氢、氟、氯、溴、碘、氰基、硝基，本发明专利技术通过本发明专利技术的目的是提供一种多卤素取代基的杂环中间体的合成方法，该化合物具有不同位点的卤素取代基，为有机功能材料的多样性提供了较为重要的支撑，所得化合物中间体可以广泛地应用在药物设计、有机发光二极管、有机太阳能电池等领域。具有良好的应用前景与较高的应用价值。前景与较高的应用价值。

【技术实现步骤摘要】
一种含多卤素的取代基的杂环中间体的合成方法


[0001]本专利技术涉及有机合成
，具体为一种含多取代基的杂环中间体的合成方法。

技术介绍

[0002]杂环中间体在药物化学、有机功能材料等领域起着重要的作用，其中含杂原子的二苯并呋喃衍生物、占吨酮衍生物在有机发光材料，尤其是发光主体材料中扮演着重要的角色。同时，不同位点的卤素取代的杂环中间体可以使材料的种类和数量丰富多彩。近年来，各种杂环衍生物材料的制备和性能的研究越来越受到重视，因此，含有多卤素取代的杂环中间体的合成具有重要的研究价值和应用前景。
[0003]本专利技术的目的是提供一种多卤素取代基的杂环中间体的合成方法，该化合物具有不同位点的卤素取代基，为有机功能材料的多样性提供了较为重要的支撑。

技术实现思路

[0004](一)解决的技术问题
[0005]针对现有技术的不足，本专利技术提供了一种含多取代基的杂环中间体的合成方法，以解决上述现有技术存在的问题。
[0006](二)技术方案
[0007]为实现上述目的，本专利技术提供了如下方案：本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种含多取代基的杂环中间体的合成方法，其特征在于：所述其分子结构如式Ⅰ所示:式I中，X1、X2和X3各自独立的表示氢、氟、氯、溴、碘、氰基、硝基。2.一种权利要求1所述的一种含多取代基的杂环中间体的合成方法，其特征在于：所述式I包括有：式II中，X1、X2和X3各自独立的表示氢、氟、氯、溴、碘、氰基、硝基。3.根据权利要求2所述的一种含多取代基的杂环中间体的合成方法，其特征在于：所述式II化合物在催化剂的发生关环反应，得的化合物式I
‑
a，优选的，所述催化剂为双(1,5
‑
环辛二烯)合镍。4.根据权利要求3所述的一种含多取代基的杂环中间体的合成方法，其特征在于：所述反应步骤包括：(1)所述式II所示化合物与所述催化剂的摩尔比可为1：0.2～1，优选为1：1；(2)在有机溶剂中反应，所述有机溶剂可为甲苯、氯苯、三甲苯、二甲苯，优选的，有机溶剂为甲苯；(3)所述反应温度可为120～130℃，优选...

【专利技术属性】
技术研发人员：张路路，
申请(专利权)人：河南欧博尔光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：