一种含二氧化碳气藏开发系统技术方案

本发明专利技术公开了一种含二氧化碳气藏开发系统，包括开发井、二氧化碳注入井和处理厂；开发井输出端连接处理厂输入端，处理厂用于处理开发井输出端连接二氧化碳注入井输入端，二氧化碳注入井用于向地层注入二氧化碳；二氧化碳注入井设置在气藏含气空间内靠近气水界面区域，二氧化碳注入井埋井深度大于开发井。能够回收二氧化碳并驱替天然气开采提高采收率，实现含二氧化碳气藏的高效开发。二氧化碳气藏的高效开发。二氧化碳气藏的高效开发。

【技术实现步骤摘要】
一种含二氧化碳气藏开发系统


[0001]本专利技术属于气田开发领域，涉及一种含二氧化碳气藏开发系统。

技术介绍

[0002]与常规气藏相比，含二氧化碳气藏开发需要对气质中的二氧化碳进行回收处理，通常的做法是二氧化碳提纯作为商品出售，或二氧化碳就近注入地层，后者是目前气藏普遍做法，相应增加了额外的成本投入。同时，气藏开发需要采取一定手段抑制地层水快速锥进，延长气藏无水采气期，常见的做法是气藏内设计排水井引导水侵方向和减弱地层水体能量，但实施工程量大且不经济。

技术实现思路

[0003]本专利技术的目的在于克服上述现有技术的缺点，提供一种含二氧化碳气藏开发系统，能够回收二氧化碳并驱替天然气开采提高采收率，实现含二氧化碳气藏的高效开发。
[0004]为达到上述目的，本专利技术采用以下技术方案予以实现：
[0005]一种含二氧化碳气藏开发系统，包括开发井、二氧化碳注入井和处理厂；
[0006]开发井输出端连接处理厂输入端，处理厂用于处理开发井输出端连接二氧化碳注入井输入端，二氧化碳注入井用于向地层注入二氧化碳；<本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种含二氧化碳气藏开发系统，其特征在于，包括开发井(3)、二氧化碳注入井(4)和处理厂(5)；开发井(3)输出端连接处理厂(5)输入端，处理厂(5)用于处理开发井(3所生产的天然气，同时分离二氧化碳，处理厂(5)输出端连接二氧化碳注入井(4)输入端，二氧化碳注入井(4)用于向地层注入二氧化碳；二氧化碳注入井(4)设置在气藏含气空间内靠近气水界面(2)区域，二氧化碳注入井(4)埋井深度大于开发井(3)。2.根据权利要求1所述的含二氧化碳气藏开发系统，其特征在于，二氧化碳注入井(4)埋井深度大于1000m。3.根据权利要求1所述的含二氧化碳气藏开发系统，其特征在于，开发井(3)与二氧化碳注入井(4)间距至少800m。4.根据权利要求1所述的含二氧化碳气藏开发系统，其特征在于，处理厂(5)和二氧化碳注入井(4)之间设置有增压机(6)。5.根据权利要求1所述的含二氧化碳气藏开发系统，...

【专利技术属性】
技术研发人员：王鹏，徐文圣，张现军，郭德强，陈雷，赵思，
申请(专利权)人：中国石油天然气股份有限公司，
类型：发明
国别省市：