本发明专利技术涉及纹理地址产生。描述了用于立方体映射的方法和硬件。所述方法包括接收片段的输入块的片段坐标和片段的纹理指令,并且随后基于片段的所述输入块的梯度,确定将使用立方体映射的第一模式还是立方体映射的第二模式,其中立方体映射的所述第一模式以第一精度对所述片段的子集执行计算,并且以较低的第二精度对其余片段执行计算,并且立方体映射的所述第二模式以所述第一精度对所有片段执行计算。随后使用所确定模式和所述梯度来执行立方体映射,其中如果使用所述第二模式并且所述输入块中超过一半的所述片段是有效的,则在两个时钟周期内执行所述立方体映射。钟周期内执行所述立方体映射。钟周期内执行所述立方体映射。
【技术实现步骤摘要】
纹理地址产生
[0001]本专利技术涉及纹理地址产生。
技术介绍
[0002]图形处理通常涉及执行大量计算以最终定义所渲染的每个像素的特性。片段着色器(也称为像素着色器)可用于计算这些特性(例如,颜色和其他属性),其中术语“片段”可用于指样本位置处的图元的元素,并且最终渲染图像中的样本位置与像素位置之间可存在1:1对应。输出像素的特性可取决于来自源纹理的多个纹理像素,并且因此计算输出像素的特性涉及确定这些纹理像素的纹理地址。
[0003]下文描述的实施方案例仅借助于示例提供,并且不限制解决已知图形处理系统以及(尤其是)纹理地址产生的已知方法的任何或所有缺点的具体实施。
技术实现思路
[0004]提供本
技术实现思路
是为了以简化形式介绍下文在具体实施方式中进一步描述的一系列概念。本
技术实现思路
不旨在标识所要求保护的主题的关键特征或必要特征,也不旨在用于限制所要求保护的主题的范围。
[0005]描述用于纹理地址产生的方法和硬件。所述方法包括接收片段的输入块的片段坐标和所述片段的纹理指令,以及计算至少一个片段对的梯度。基于所述梯度,所述方法确定将使用纹理地址产生的第一模式还是第二模式,并且随后使用所确定模式和所述梯度来执行纹理地址产生。纹理地址产生的所述第一模式以第一精度对所述片段的子集执行计算,并且以较低的第二精度对其余片段执行计算。纹理地址产生的所述第二模式以所述第一精度对所有片段执行计算,并且如果使用所述第二模式并且所述输入块中超过一半的所述片段是有效的,则在两个时钟周期内执行所述纹理地址产生。
[0006]描述用于立方体映射的方法和硬件。所述方法包括接收片段的输入块的片段坐标和片段的纹理指令,并且随后基于片段的所述输入块的梯度,确定将使用立方体映射的第一模式还是立方体映射的第二模式,其中立方体映射的所述第一模式以第一精度对所述片段的子集执行计算,并且以较低的第二精度对其余片段执行计算,并且立方体映射的所述第二模式以所述第一精度对所有片段执行计算。随后使用所确定模式和所述梯度来执行立方体映射,其中如果使用所述第二模式并且所述输入块中超过一半的所述片段是有效的,则在两个时钟周期内执行所述立方体映射。
[0007]第一方面提供一种纹理地址产生的方法,所述方法包括:接收片段的输入块的片段坐标和所述片段的纹理指令;根据所述输入块来计算至少一个片段对的梯度,并且基于所计算梯度,确定将使用纹理地址产生的第一模式还是纹理地址产生的第二模式,其中纹理地址产生的所述第一模式以第一精度对所述片段的子集执行计算,并且以较低的第二精度对其余片段执行计算,并且纹理地址产生的所述第二模式以所述第一精度对所有片段执行计算;以及使用所确定模式和所计算梯度来执行纹理地址产生,其中如果使用所述第二
模式并且所述输入块中超过一半的所述片段是有效的,则在两个时钟周期内执行所述纹理地址产生。
[0008]在纹理地址产生的所述第一模式中,所述子集中的片段可以是参考片段,并且其余片段可以是导出片段,并且可相对于所述参考片段中的一个参考片段执行对导出片段的较低精度计算。
[0009]响应于确定将使用纹理地址产生的所述第一模式,使用所确定模式和所计算梯度来执行纹理地址产生可包括:以所述第一精度对所述参考片段执行纹理地址产生;以及以所述第二精度对所述导出片段执行相对纹理地址产生;以及输出一个或多个纹理像素面片的索引、每个纹理像素面片的mip映射层级数据以及所述输入块中的每个有效片段的混合权重。
[0010]以所述第二精度对导出片段执行相对地址产生可包括相对于对应参考片段执行地址产生。
[0011]输出一个或多个纹理像素面片的索引、每个纹理像素面片的mip映射层级数据以及所述输入块中的每个有效片段的混合权重可包括:针对每个有效参考片段,输出一个或多个纹理像素面片的索引、每个纹理像素面片的mip映射层级数据以及混合权重;以及针对每个有效导出片段,输出混合权重。
[0012]所述方法还可包括:作为对导出片段执行相对地址产生的部分,响应于确定所述导出片段的所述纹理像素落在所述对应参考片段的纹理像素面片之外,在下一时钟周期中为所述其余片段产生一个或多个纹理像素面片。
[0013]响应于确定将使用纹理地址产生的所述第二模式,使用所确定模式和所计算梯度来执行纹理地址产生可包括:在第一时钟周期中,以所述第一精度对所述片段的所述子集片段执行地址产生;以及在第二时钟周期中,以所述第一精度对所述其余片段中的每个片段执行地址产生;以及输出一个或多个纹理像素面片的索引、每个纹理像素面片的mip映射层级数据以及所述输入块中的每个有效片段的混合权重。
[0014]输出一个或多个纹理像素面片的索引、每个纹理像素面片的mip映射层级数据以及所述输入块中的每个有效片段的混合权重可包括:针对输入块中的每个有效片段,输出一个或多个纹理像素面片的索引、每个纹理像素面片的mip映射层级数据以及混合权重。
[0015]基于所计算梯度,确定将使用纹理地址产生的第一模式还是纹理地址产生的第二模式可包括:识别所述输入块中的有效片段的数量;确定所述输入块中的一个或多个有效片段对是否可由参考片段和导出片段替换;以及基于所述确定和有效片段的所述数量,选择纹理地址产生的所述第一模式或纹理地址产生的所述第二模式。
[0016]所述方法可包括:响应于识别出四个有效片段并且确定可替换两个有效片段对,选择所述第一模式;以及响应于识别出四个有效片段并且确定可替换少于两个有效片段对,选择所述第二模式。
[0017]所述方法可包括:响应于仅识别出三个有效片段并且确定没有有效片段对能够被替换或尾部对角线片段对不能够被替换,选择所述第二模式;否则响应于仅识别出三个有效片段,选择所述第一模式。
[0018]所述方法可包括:响应于仅识别出两个有效片段,选择所述第一模式。
[0019]所述方法可包括:响应于识别出大于两个有效片段并且所述纹理指令指示使用各
向异性滤波,选择所述第二模式。
[0020]所述方法可包括:响应于识别出大于两个有效片段并且所述纹理指令指示使用投影操作,选择所述第二模式。
[0021]确定所述输入块中的有效片段对可由参考片段替换,并且导出片段可包括以下中的一者或多者:(i)确定所述有效片段对的纹理像素之间的步长不大于预定义阈值;(ii)确定着色器供应细节层级偏置不小于偏置阈值,其中所述偏置阈值可被设置为
‑
1;(iii)确定在舍入之后,所述片段对具有共同的每片段着色器供应细节层级偏置;(iv)确定所述有效片段对的所述梯度中的最大梯度所暗示的细节层级不大于最大细节层级;(v)确定所述有效片段对的细节层级参数指示两个片段使用共同的mip映射层级;(vi)确定所述有效片段对映射到立方体映射的公共面;以及(vii)确定相对于对应参考片段以所述第二精度对所述导出片段执行所述计算引起不超过预定义误差阈值的相对误差。
[0022]第二方面提供一种纹理地址产生单元,包括:输入端,所述输入端用本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种立方体映射的方法,所述方法包括:接收片段的输入块的片段坐标和所述片段的纹理指令;基于片段的所述输入块的梯度,确定将使用立方体映射的第一模式还是立方体映射的第二模式,其中立方体映射的所述第一模式以第一精度对所述片段的子集执行计算,并且以较低的第二精度对其余片段执行计算,并且立方体映射的所述第二模式以所述第一精度对所有片段执行计算;以及使用所确定模式和所述梯度来执行立方体映射,其中如果使用所述第二模式并且所述输入块中超过一半的所述片段是有效的,则在两个时钟周期内执行所述立方体映射。2.根据权利要求1所述的方法,所述方法还包括利用片段的所述输入块的所述片段坐标接收着色器供应梯度。3.根据权利要求1所述的方法,所述方法还包括在确定将使用立方体映射的第一模式还是立方体映射的第二模式之前,进行以下操作:以所述第一精度计算片段的所述输入块的梯度。4.根据权利要求1所述的方法,其中在立方体映射的所述第一模式中,所述子集中的片段是参考片段,并且其余片段是导出片段,并且相对于所述参考片段中的一个参考片段执行对导出片段的较低精度计算。5.根据权利要求4所述的方法,其中使用所确定模式和所述梯度来执行立方体映射包括响应于确定将使用立方体映射的所述第一模式而进行以下操作:以所述第一精度对所述参考片段执行坐标变换;并且以所述第二精度对所述导出片段执行梯度变换。6.根据权利要求5所述的方法,其中使用所确定模式和所述梯度来执行立方体映射还包括响应于确定将使用立方体映射的所述第一模式而进行以下操作:将所变换梯度添加到所述参考片段的所变换坐标,以产生所述导出片段的所变换坐标。7.根据权利要求4所述的方法,其中基于片段的所述输入块的梯度,确定将使用立方体映射的第一模式还是立方体映射的第二模式包括;确定所述输入块中的所有所述片段是否都映射到所述立方体的公共面;以及确定相对于片段的所述子集中的片段以所述第二精度对其余片段执行所述计算是否引起不超过预定义误差阈值的相对误差,其中响应于确定所述输入块中的所有所述片段都映射到公共面以及所述相对误差不超过所述预定义误差阈值两者,选择使用所述第一模式。8.根据权利要求7所述的方法,其中确定相对于片段的所述子集中的片段以所述第二精度对其余片段执行所述计算是否引起不超过预定义误差阈值的相对误差包括:基于片段的所述输入块的所述梯度的指数,确定当以所述第二精度对所述导出片段执行梯度变换作为立方体映射的部分时,是否能够进行项抵消。9.根据权利要求7所述的方法,其中确定相对于片段的所述子集中的片段以所述第二精度对其余片段执行所述计算是否引起不超过预定义误差阈值的相对误差包括:基于片段的所述输入块的所述梯度的符号,确定当以所述第二精度对所述导出片段执行梯度变换作为立方体映射的部分时,是否能够进行项抵消。
10.根据权利要求7所述的方法,其中确定相对于片段的所述子集中的片段以所述第二精度对其余片段执行所述计算是否引起不超过预定义误差阈值的相对误差包括:基于片段的所述输入块的所述梯度的比较,确定当以所述第二精度对所...
【专利技术属性】
技术研发人员:R,
申请(专利权)人:想象技术有限公司,
类型:发明
国别省市:
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