一种干涉量测量机构及测量方法技术

本申请公开了一种干涉量测量机构及测量方法，涉及干涉测量技术领域。该干涉量测量机构包括压电晶体，所述压电晶体与弹性件连接，且所述压电晶体与电容测试电路电连接，所述电容测试电路用于检测所述压电晶体所形成的电场强度，以便于根据所述电场强度、压电晶体参数和弹性件参数确定干涉量，从而根据干涉量确定密封是否合格，有利于保证产品装配质量。有利于保证产品装配质量。有利于保证产品装配质量。

【技术实现步骤摘要】
一种干涉量测量机构及测量方法


[0001]本申请涉及干涉测量
，具体而言，涉及一种干涉量测量机构及测量方法。

技术介绍

[0002]在摄像头或者投影仪光机镜头等电子产品装配密封时，通常需要通过密封泡棉或密封硅胶来保证所需连接处的密封性。在将两个结构件之间进行密封连接过程中，结构件之间的密封硅胶或密封泡棉的压缩量大小无法准确的测量，目前测量的方式大多是通过理论的计算获得，由于尺寸链较长，累计公差多，导致理论计算与实际情况往往存在差异。
[0003]由于存在上述差异，在装配过程中，所采用的密封硅胶或者密封泡棉的规格大小是一致的，由于最终连接处的实际距离存在差异，无法确定装配后的密封效果。如果密封硅胶或密封泡棉压缩量过小或者未接触，达不到设计的目的，压缩量过大，可能会带来其它不良影响，比如装配镜头时造成前镜片起翘等。因此准确的测量每个样品密封硅胶、密封泡棉或者其它密封材料压缩量大小显得格外重要。

技术实现思路

[0004]本申请的目的在于提供一种干涉量测量机构及测量方法，能够根据测得的电场强度准确测量干涉量，从而根据干涉本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种干涉量测量机构(100)，其特征在于，包括压电晶体(110)，所述压电晶体(110)与弹性件(120)连接，且所述压电晶体(110)与电容测试电路(130)电连接，所述电容测试电路(130)用于检测所述压电晶体(110)所形成的电场强度。2.根据权利要求1所述的干涉量测量机构(100)，其特征在于，所述压电晶体(110)包括相对的第一承压面和第二承压面，所述第一承压面与弹性件(120)连接，且所述第一承压面上设置有第一电极(112)，所述第二承压面上设置有第二电极(114)，所述第一电极(112)和所述第二电极(114)分别与所述电容测试电路(130)连接。3.根据权利要求1所述的干涉量测量机构(100)，其特征在于，所述干涉量为X，则其中，E是电场强度，k是静电常数，ε是介电常数，S是所述压电晶体与所述弹性件相对侧面的面积，A是弹性件弹性常数，d
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是压电常数。4.根据权利要求2所述的干涉量测量机构(100)，其特征在于，所述第一电极(112)和所述第二电极(114)采用银电极或金电极。5.根据权利要求1所述的干涉量测量机构(100)，其特征在于，所述压电晶体(110)与所述弹性件(120)之间粘接固定；所述弹性件(120)背离所述压电晶体(110)的一侧设置有粘接部。6.根据权利要求1所述的干涉量测量机构(100)，其特征在于，所述压电晶体(110)在所述弹性件(120)上的正投影位于所述弹性件(120)的范围之内。7.根据权利要求1
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5任意一项所述的干涉量测量机构(100)，其特征在于，所述弹性件(120)为聚氨酯泡棉；所述压电晶体(110)为铌铟酸铅
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【专利技术属性】
技术研发人员：李之武，徐剑，
申请(专利权)人：成都极米科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：