显示不均匀性校正制造技术

技术编号:37138810 阅读:30 留言:0更新日期:2023-04-06 21:41
一种系统适于:访问(910)与图像中的第一颜色分量和第一像素相关联的第一掩模及与该图像中的第二颜色分量和第二像素相关联的第二掩模;访问(920)包含第一像素的第一像素区域中的、第一颜色分量的第一分量值和包含第二像素的第二像素区域中的、第二颜色分量的第二分量值;使用第一掩模修改第一分量值及使用第二掩模修改第二分量值(930);以及使(940)修改后的第一分量值和修改后的第二分量值由第一颜色分量的发光元件和第二颜色分量的发光元件显示。第一掩膜和第二掩模可基于第一发光元件和第二发光元件的相对位置生成。件和第二发光元件的相对位置生成。件和第二发光元件的相对位置生成。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】显示不均匀性校正


[0001]本公开总体上涉及人工现实,例如虚拟现实和增强现实。

技术介绍

[0002]人工现实是在呈现给用户之前已经以某种方式进行了调整的现实形式,该现实形式可包括例如虚拟现实(virtual reality,VR)、增强现实(augmented reality,AR)、混合现实(mixed reality,MR)、混合现实(hybrid reality)或它们的某种组合和/或衍生物。人工现实内容可包括完全生成的内容或者是生成的内容与采集的内容(例如,真实世界照片)的组合。人工现实内容可包括视频、音频、触觉反馈或它们的某种组合,并且以上中的任何一者可以在单个通道或多个通道(例如,为观看者带来三维效果的立体视频)中呈现。人工现实可以与应用、产品、附件、服务或它们的某种组合相关联,该应用、产品、附件、服务或它们的某种组合例如用于在人工现实中创建内容和/或在人工现实中使用(例如,在人工现实中执行活动)。提供人工现实内容的人工现实系统可以在各种平台上实现,这些平台包括连接到主控计算机系统的头戴式显示器(headr/>‑
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于补偿显示不均匀性的方法,包括通过计算系统:访问(1)与图像中的第一颜色分量和第一像素相关联的第一掩模、及(2)与所述图像中的第二颜色分量和第二像素相关联的第二掩模;访问(1)与包含所述第一像素的第一像素区域相关联的、所述第一颜色分量的第一分量值、及(2)与包含所述第二像素的第二像素区域相关联的、所述第二颜色分量的第二分量值;(1)使用所述第一掩模修改所述第一分量值、并且(2)使用所述第二掩模修改所述第二分量值;以及使(1)修改后的第一分量值由与所述第一颜色分量相关联的第一发光元件显示,及(2)修改后的第二分量值由与所述第二颜色分量相关联的第二发光元件显示;其中,所述第一掩模和所述第二掩模是基于所述第一发光元件和所述第二发光元件的相对位置生成的。2.根据权利要求1所述的方法,其中,所述第一像素对应于显示器的故障发光元件,并且其中,所述故障发光元件以不同于非故障发光元件的光强度发光。3.根据权利要求2所述的方法,还包括:基于确定对应于所述第一像素的第一发光元件和对应于所述第二像素的第二发光元件在观看者感知的观看者空间中相对于彼此在阈值距离内,确定所述第一像素与所述第二像素相关联。4.根据权利要求3所述的方法,其中,所述观看者空间由所述观看者通过多个发光元件阵列上的一个或多个透镜感知。5.根据权利要求4所述的方法,其中,所述确定对应于所述第一像素的第一发光元件和对应于所述第二像素的第二发光元件在所述观看者空间中相对于彼此在所述阈值距离内是基于发光元件阵列图像的,并且其中,所述发光元件阵列图像是用所述多个发光元件阵列上的所述一个或多个透镜采集的。6.根据权利要求3所述的方法,其中,所述第一发光元件与第一颜色通道相关联,并且所述第二发光元件与第二颜色通道相关联。7.根据权利要求3所述的方法,其中,对应于所述第一像素的第一发光元件在第一颜色通道的第一像素阵列内具有第一相对位置,其中,对应于所述第二像素的第二发光通道在第二颜色通道的第二像素阵列内具有第二相对位置,并且其中,所述第一发光元件在所述第一像素阵列中的所述第一相对位置不同于所述第二发光元件在所述第二像素阵列中的所述第二相对位置。8.根据权利要求1所述的方法,还包括:从第一位图访问用于所述第一像素的第一掩模指示符值,其中,所述第一掩模指示符值指示所述第一掩模将被应用于所述第一像素;以及从第二位图访问用于所述第二像素的第二掩模指示符值,其中,所述第二掩模指示符值指示所述第二掩模将被应用于所述第二像素。9.根据权利要求8所述的方法,其中,所述第一位图和所述第二位图选自用于三个颜色通道的一组三个位图,并且其中,所述一组三个位图将多个掩模映射到对应像素。10.根据权利要求1所述的方法,其中,所述第一掩模和所述第二掩模各自包括用于缩
放图像区域的多个像素值的缩放值阵列。11.根据权利要求10所述的方法,其中,所述第一掩模的所述缩放值阵列是基于对应于所述第一像素的发光元件的位置而自定义的,并且其中,对应于所述第一像素的发光元件的位置在观看者空间中。12.根据权利要求11所述的方法,存在以下中...

【专利技术属性】
技术研发人员:爱德华
申请(专利权)人:元平台技术有限公司
类型:发明
国别省市:

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